MINILAB-026 ｜ MiniLab-026 フレキシブル薄膜実験装置

MiniLab-026 フレキシブル薄膜実験装置の製品概要

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成

MiniLab-026は、シリーズ最小の26L容積チャンバを使用した小型薄膜実験装置です。
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも製作可能。
グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。
フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。

◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源）
◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4極 コントローラで自動切替）
◉ 有機蒸着セル：1cc or 5cc
◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議）
◉ その他オプション：
同時成膜、HiPIMS、自動成膜コントローラ、特注基板ホルダ、ロードロック、基板回転/加熱・冷却などオプション豊富。
◉ チャンバ：ガラス/SUS製
◉ 19inchシングル/ツイン式ラックに全てを収納
◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載
◉ 高精度膜厚制御
◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション）
◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議）
◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc..

＊その他のCVD用MiniLabシリーズ詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。

この製品の利用用途

真空薄膜実験、開発用途
・真空薄膜、電子基板デバイス用薄膜実験
・金属膜（Al, Au, Ag, Pt, Ti, *Ni, *Fe, Mo, Sn, etc..)
・絶縁膜 酸化膜 窒化膜（SiO2, ITO, TiN, MgO, HfO2, ZnO, etc.）