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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも製作可能。
グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。
フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。
◉ 最大基板サイズ:Φ6inch
◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源)
◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源 自動切替)
◉ 有機蒸着セル:1cc or 5cc
◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議)
◉ その他オプション:
同時成膜、自動成膜コントローラ、特注基板ホルダ、ロードロック、基板回転/加熱・冷却などオプション豊富。
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このカタログについて
ドキュメント名 | 【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置 |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 1.4Mb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | テルモセラ・ジャパン株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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開発元:Moorfield Nanotechnology社(英)
MiniLab-026フレキシブル薄膜実験装置
小型26ℓ容積 SUS304’Clam-Shell’型チャンバー
抵抗加熱蒸着源 x4源 , 有機材料蒸着源 x4源搭載
マグネトロンスパッタリング(Φ2inchマグネトロンカソード最大3源)
グローブボックス組込も可能(MiniLab-026-GB)
Φ4~6inch用加熱ステージ , RFエッチングシステムも製作致します。
●TE1蒸着源 x 2源 ● LTE1有機材蒸着源 ● マグネトロン, TE1蒸着源 ● RFエッチ(左), 加熱ステージ(右)
テルモセラ・ジャパン株式会社
MiniLab 026 Thin Film Flexible Deposition System
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MiniLab-026 System Feature
概要・装置特徴
【MiniLab(ミニラボ)】とは・・・ 【MiniLab-026小型薄膜実験装置】特徴
モジュラー組立式により” Plug-and-Play” 感覚で、必要な MiniLab-026 は、シリーズ最小の小型薄膜実験装置です。
モジュールを組合わせることにより構成された装置です。 抵抗加熱蒸着源(金属 / 絶縁物蒸着源最大 x2, 有機源最大
その為部品交換・アップグレードの際に大掛かりな改造を x4),蒸着コントローラ「TE1」~「TE4」,「LTE1」~「LTE4」
必要とせず最小限度の部品交換・調整作業により対応する を組合せ、自動、又は手動制御を行います。スパッタカソード
ことが可能です。又、各ユニット種類が豊富である為、製作 (最大 3源), シャッター、膜厚計、真空計、基板加熱・バイアス・
範囲も幅広く、抵抗加熱蒸着・スパッタ・CVDなど多岐に 昇降・回転ステージ , ドライポンプなど豊富なオプションも
渡ります。研究開発用に多目的に活用いただけるコストパ 用意。又、026はグローブボックスにも収納でき、酸素・水分
フォーマンスに優れた薄膜実験装置です。 に晒さず全て管理雰囲気内で操作可能なシステムも提案致
MiniLab-026 Deposition Sources
成膜モジュール
モジュラー組立式により構成されるMiniLab装置は、セミカスタムメイドの装置です。お客様の要望に合わせ都度構成を練り積
算~見積り、製造をしております。まずはご要望の薄膜プロセス条件:成膜モジュール構成~制御方式~オプションをご指示下
さい。ご要望に合わせた装置構成をご提案致します。
トップフランジ(”Clam-shell”型) 金属蒸着源(最大4源)
026チャンバーは「デポアップ」のみとなります。
トップフランジにステージ、ヒーター、シャッターを搭載します。
TE1:電極x1 TE2:電極x2 TE3:電極x3
TE4:電極x4 TE1-Box:電極x1(ボックスシールド付)
バスケット ボート ロッド
有機材料蒸着源(最大4源)
LTE-5cc用るつぼ LTE-1cc用るつぼ
(15cc) (2.4cc)
LTE-5cc, 1cc
マグネトロンカソード(Φ2”カソード x 最大3源)
蒸着コントローラー
操作HMI
標準は、MiniLab制御ソフトエウア”Intellidep”を
タッチパネルスクリーンで制御します。
Windows PCを組込、PCで Intellidepを制御する TEC-1:TE金属蒸着源1ch制御 LTEC-1:LTE有機蒸着源1ch制御
オプションもございます。 TEC-4:TE金属蒸着源4ch制御 LTEC-4:LTE有機蒸着源4ch制御
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MiniLab-026 System Specification
基本仕様
到達真空度 5x10-5Pascal 電源 200V三相 50/60Hz 13A
チャンバーサイズ Φ305(内径)x 350(H) mm SUS304 製 冷却水量 3ℓ/min, 4bar 18-20℃
基板サイズ Φ1~4inch(Φ6inch 応相談) プロセスガス 25psi, 純度 99.99%推奨
真空排気 ターボ分子 , ロータリーポンプ ベントガス 0.5ba(r N2)
真空計 WRGピラニーゲージ 圧縮空気 60~80ps(i N2, Ar, 又はドライエア)
インターフェイス 7”タッチパネルHMI 装置寸法 590(W) x 590(D) x 1,050(H) mm
インターロック 冷却水量 , ガス , 真空度 重量 約 100~200kg( * 構成により異なる)
MiniLab-026 Options
オプション
ビューポート Φ70mm前面ポート 冷却ステージ LN2, Glycol, ペルチェ冷却(*仕様要協議)
高精度真空計 キャパシタンスマノメーター 補助排気ポンプ ドライスクロールポンプ
APC/ 自動成膜制御 ゲートバルブ+薄膜コントローラ PID自動制御 インターフェイス Laptop PC(Windows)
シャッター 蒸着源用 /基板用 膜厚計 水晶振動子膜厚モニタ
回転 /上下昇降機構 30段階回転速度切替 , 上下位置制御 基板ホルダー 特殊サンプルホルダー(*仕様要協議)
基板加熱ステージ Max500℃ハロゲンランプ マスフロー MFC x 最大 3系統(協議の上対応致します)
高温基板加熱 Max1000℃:C/Cコンポジットヒーター スパッタ制御機 RF/DC電源 , マッチングユニット , 基板バイアス
※小型チャンバーの為、成膜モジュール、オプションの組合せには制限があります。当社までお問い合わせ下さい。
・金属蒸着源 TE1 Box型の場合:最大 2源
・金属蒸着源 TE1 Boxと有機蒸着源 LTEの場合:TE1 x 2, LTE x 2
・有機蒸着源 LTEのみの場合:最大 4極(TE4)
・マグネトロンカソードΦ2inchと TE1 Boxの混在:各 1台
・マグネトロンカソードΦ2inchのみの場合:最大 3源
MiniLab-026-Etch/Anneal Station
MiniLab-026 エッチング・アニール・ステーション
MiniLab-026型にRF/DCエッチングステージ と加熱ステージを組込んだシステム”Etch/Anneal Station”を追加しました。
Manchester大学の協力による , グラフェン /Nanotube/TMDCデバイス装置開発で培った”Soft-Etching”技術と、均一性
に優れた加熱ステージを組込むことにより , MiniLabシリーズの可能性を広げました。加熱ステージはランプヒーター , CCコ
ンポジット , SiCコーティングを用意。目的により最高 1000℃までの均一加熱を可能にします。装置本体型式は 19”ラック式ス
タンドアロン型 ,もしくはGB組込式の2機種 , Etch&Anneal,Etch又は Annealの組合せいずれも構成可能です。
●【 エッチングステージ:RF, DC】
●【 基板加熱ヒーターステージ:Max1000℃】
- ハロゲンランプヒーター:Max500℃
- C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃
- SiCコーティング・グラファイトヒーター:Max1000℃
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MiniLab-026 System Control Software ’Intellidep’
’Intellidep’ソフトウエア
“Intellidep” は、MiniLab series全てに共通した操作ソフトウェアです。簡単なタップ(クリック)操作でどなたでも真空引き~
プロセス実行~ベントなどの装置操作、レシピ作成編集、システム解析・データ保存などの一連の操作ができます。取扱説明書
を読まなくても直感的に操作できる様,使いやすさに配慮しています。
● 7inch高解像度タッチパネルスクリーン操作(*Windows PC操作オプション有り)
● Windows PC操作(PC用”Intellinet”ソフトウエア付属)、データロギング・USB接続データ出力保存
● 最大 50フィルムレシピ・1000レイヤー・1000プロセスまで作成登録が可能
MiniLab-026/090-GB Glovebox-comaptible system for atmosphere sensitive applications.
MiniLab-026/090 グローブボックス式薄膜実験装置
MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に収納した装置です。制御ラック部をベンチ下に収納、ラ
ボ内の限られたスペースを有効活用できる、スパッタ・真空蒸着などの成膜装置とグローブボックス設置エリアを一体化した
省スペース装置です。
・対応機種:MiniLab-026(チャンバー容積 26ℓ)及びMiniLab-090(容積 90ℓ)
・成膜モジュール: 抵抗加熱蒸着 , スパッタ,電子ビーム蒸着(*090), CVD(*090), RF/DCエッチング , アニール
・作業エリア内雰囲気:N2, Ar, He, CDAなど
● 省スペース:グローブボックス本体寸法内に成膜装置が収まります。
● 成膜後の試料を大気(成膜プロセス雰囲気外)に露出せずにGBで作業を行うことができます。
● MiniLabを収納したGBシステムをパスボックスで連結し、増設することも可能です。
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