nanoPVD-S10A RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

nanoPVD-S10A Benchtop, turnkey vacuum deposition series. RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 （開発元：英国 Moorfield Nanotechnology Ltd.） www.thermocera.com

Basic 優れた基本性能 Advanced 高機能システム Performance Function ・到達真空度 5x10-5 Pascal ・自動多層連続成膜コントロール ・SUS304高真空チャンバー ・同時成膜（*RF/DC, DC/DCの同時成膜のみ） ・素早い真空到達（10-3Paまで約10分） ・高精度自動プロセス圧力制御 ・膜均一性：±3%（絶縁膜）, ±5%（金属膜） ・真空引き/ベント自動運転 magnetron sputterin nanoPVD-S10A Bench Top High performance RF/DC magnetron sputtering system Sophisticated 洗練されたソフトウエア 豊富なオプション Software Option ・7”タッチスクリーン操作 直感的操作 ・基板回転, 上下昇降 ・30種類のレシピ登録 ・加熱ヒーターMax500℃ ・Windows PCとUSB接続 ・MFCx3系統 反応性スパッタリング ・ログ解析、グラフ表示データ解析 ・磁性材料用高強度マグネトロン ・ファストベント（最短6分でベント完了） 【コンパクト・スモールフットプリント 高性能RF/DCマグネトロンスパッタリング装置】 ● 到達圧力：5×10-5Pascal ● 最大3源Φ2inchマグネトロンカソード：多層連続成膜・2源同時成膜 ● 直感的操作 多機能ソフトウエア ‘Intellidep’ 最大30レシピ登録 多層連続膜操作も簡単 nanoPVDModel.S10Aは、卓上・コンパクトサイズの高性能RF/DCマグネトロンスパッタリング装置です。小型・卓上サイ ズにも関わらず、絶縁膜・導電性膜・化合物など、膜質に妥協せず、様々な高品質スパッタ成膜に要求される性能を備えてお ります。『同時成膜』『, 連続成膜』『, コンビナトリアルスパッタリング（binary）』などの用途にも幅広く対応、研究開発現場で多 目的に活用いただけます。基板加熱・上下昇降・回転、高精度キャパシタンスマノメーターによる自動圧力制御、水晶振動子 膜厚モニタ、などのオプションも豊富。ご予算に応じ最小構成で導入後にオプション増設追加いただくことも可能です。

nanoPVD-S10A Technical Specication ■マグネトロンカソード（Φ2inch） RF, DC兼用、メンテナンス性に優れたマグネトロンカソード。クランプリングを採用し、容易にターゲット交換することができます。 nanoPVD-S10Aは小型チャンバーにも関わらずΦ2inch マグネトロンを最大 3基搭載。多層連続成膜も可能です。 ■マスフローコントローラー（最大 3基） ■プラズマ電源：RF（自動マッチング付）, DC 各 1台 MFCx 最大 3基搭載、反応性スパッタも可能。高精度真空計によ RF, DCの2電源搭載可能。内臓のスパッタSWユニットにより2 るループ制御でプロセス圧力を精密に制御します。 電源→3カソードへ分配。設定はタッチパネルで一元管理。 基本モジュール構成 追加オプション構成 基板サイズ Φ2inch、又はΦ4inch Φ6inch、 Φ8inch（Φ200mm専用基板ホルダー付属） 基板ホルダー Φ100mm、SUS304 指定形状サンプルホルダー（10mm角基板等） シャッター Φ2inch基板用シャッターx1（標準） 空圧制御式 Φ4inch基板用シャッターx1 2つ割 空圧制御式 マグネトロンカソード Φ2inchx1基付属（標準） Φ2inchx2基追加（最大3基） スパッタ電源 DC850W、RF150W（13.56MHz自動マッチング付）1台 DC850W、もしくはRF150Wいずれか1台を追加（最大2台） プラズマSWリレー 1：3（1電源入力→3カソード分配） 2：3（2電源入力→3カソード分配） 真空ポンプ ターボ分子ポンプEXT75DX, ロータリーポンプRV3 ドライスクロールポンプnXDS6i 真空計 ワイドレンジピラニゲージ：10-9～1000mbar キャパシタンスマノメータ（Baratron）：100mTorr F.S. プロセスガス制御 マスフローコントローラ1ch：Ar x1ch付属（標準） マスフローコントローラ2ch追加：N2, O2（最大3系統） 操作パネル 7inch高解像度タッチパネル（次項写真参照） 専用ソフトウエア ’Intellidep’付属プリインストール 本体・チャンバー 主仕様 その他オプション 装置寸法 804(W) x 570(D) x 600(H)mm 高強度マグネトロン 磁性材料用 装置重量 本体重量約70kg 同時成膜モジュール 2電源入力（DCx1+RFx1）→2カソードのみ 到達真空度 5x10-5Pascal 基板加熱 ランプ加熱ヒーター Max500℃ チャンバー内アクセス トップローディング式（上部フランジ開閉 ヒンジ固定） 基板回転 10段階速度可変 チャンバー材質・寸法 SUS304製 寸法：250（高さ） x Φ225mm（内径）13ℓ容積 上下昇降 上下昇降ストローク50mm チャンバーベースポート カソード用アングルポートx 3、 中心軸ポート x 1 水晶振動子膜厚モニタ センサ・オシレータ・ケーブル・ソフトウエア付属 膜厚センサ・ガス・真空ポート x 各1、冷却水 x 1系統 ファスト・ベント・モジュール ベント時間短縮：通常約45分を10分で大気開放 トップフランジポート Φ2/4”用基板ホルダー・回転・昇降・ヒーター・熱電対・シャッター APC自動圧力制御 PID自動ループ制御 フロントビューポート Φ70mmフロントビューポート（シールドメッシュ） クロスコンタミシールド カソード間設置（マグネトロンx3基のみ） ユーティリティ接続 装置背面接続：1/4Swagelok、Φ6mmクイック継手 ソースシャッター *仕様要相談 ユーティリティ 電源 200V 三相 20A 50/60Hz 冷却水 1ℓ/min 18～20℃ 20kpa (max.) Φ6mmクイック継手接続 圧縮空気* 415kpa～550kpa* Φ6mmクイック継手接続 プロセスガス* 105kpa～170kpa* 50sccm 1/4Swagelok継手接続 ベントガス* 35kpa(max.)* 純度99.995% Φ6mmクイック継手

nanoPVD-S10A Control System ‘Intellidep’ ■nanoPVD-S10A 制御ソフトウエア ‘Intellidep’ 7”タッチパネルHMI Main Menu Pressure Plot Process Execution System Log 卓上型ベンチトップシリーズ、MiniLab 薄膜実験装置の全てに共通する制御ソフトウエア 'Intellidep' が採用されています。煩雑でなく、直感 的に操作することができます。装置のハードウエア設定（マテリアルデータ、ソース出力、レート設定、シャッター、ステージ駆動、等）、インター ロック状態、ログ保存・故障解析、真空引き→運転→ベントまでの一連の操作全てを Intellidep の操作画面で一元管理します。 ● 7inch高解像度タッチパネルスクリーン ● 専用ソフトウエア Intellidep付属 最大1000layer, 1000process, 50lmまでのプログラム作成可能 ● USBケーブル（付属）でWindows PCへ接続、CSV・ログデータ保存

nanoPVD-S10A System Overview ■nanoPVD-S10A 装置外観

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