nanoPVD-T15A 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

nanoPVD-T15A Benchtop, High-performance Thermal Evaporation System. 有機膜・金属膜蒸着装置 （開発元：英国 Moorfield Nanotechnology Ltd.） www.thermocera.com

Basic 優れた基本性能 Advanced 高機能システム Performance Function ・到達真空度 5x10-5 Pascal ・自動多層連続成膜コントロール ・SUS304高真空チャンバー ・同時成膜（*LTE有機ソースx2源のみ） ・素早い真空到達（10-3Paまで約10分） ・PID自動膜厚コントロール ・T/S調整距離：300mm 膜均一性の向上 ・真空引き/ベント自動運転 organic & metals thin film deposition nanoPVD-T15A Bench Top High performance evaporation system Sophisticated 洗練されたソフトウエア 豊富なオプション Software Option ・7”タッチスクリーン操作 直感的操作 ・基板回転, 上下昇降 ・30種類のレシピ登録 ・加熱ヒーターMax500℃ ・Windows PCとUSB接続 ・基板、ソースシャッター ・ログ解析、グラフ表示データ解析 ・ドライポンプ（RP標準） ・ファストベント（最短6分でベント完了） 【コンパクト・スモールフットプリント 高性能”有機物””金属膜”用真空蒸着装置】 ● 到達圧力：5×10-5Pascal ● T/S距離 300mm, 均一な薄膜蒸着 ● 直感的操作 多機能ソフトウエア ‘Intellidep’ 最大30レシピ登録 多層連続膜操作も簡単 nanoPVD-T15Aは、卓上・コンパクトサイズの高性能『有機膜・金属膜蒸着』装置です。温度応答性 /安定性に優れた 低温有機蒸着源 LTE1、金属膜用高温蒸着源 TE1-Boxを採用。OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。 又、ボックスシールドを備えた TE1-Boxにより指向性を制御し高い蒸着効率が得られます。『同時成膜（*LTEのみ）』『, 連 続成膜』も可能、研究開発現場で多目的に活用いただけます。基板加熱・上下昇降・回転、高精度真空計による自動圧力 制御、水晶振動子膜厚モニタ、などのオプションも豊富。ご予算に応じ最小構成で導入後にオプション増設改造も可能です。

nanoPVD-T15A Technical Specication ■有機材料用蒸着源 LTE1 ■金属材料用ボックスシールド付蒸着源 TE1-Box 高精度での低温制御（＜600℃）が求められる有機薄膜に最適。安 ボックスシールド式蒸着源。W（又はMo/Ta）製ボート・フィラメント・ 定した温度制御、応答性にも優れた有機蒸着源。水晶膜厚モニタと ロッドなどに対応、蒸着材を簡単に交換できます。ボックス開口部によ の組合せで、PIDループ自動制御で約 ±0.1Åの膜厚制御が可能。 り指向性を制御し、効率よく材料を基板に堆積させることができます。 ■ベースポートレイアウト T15Aチャンバベースには予備ポートも含む多数のポートを配備。膜厚モニタｘ最大 2基、シャッター（基板用、ソース用）を増設可能。 ● 金属蒸着のみの場合：TE1-Box 蒸着源 x 最大 2源 ● 有機蒸着のみの場合：LTE1蒸着源 x 最大 4源 ● 金属 , 有機材：TE1-Box, LTE1 x 各 2源 nanoPVD-T15A基本仕様 【装置寸法（mm）】 基板サイズ Φ2inch、又はΦ4inch チャンバー SUS304 内容積15ℓ T/S距離300mm 到達圧力5x10-5Pascal 金属用蒸着源 抵抗加熱式 金属蒸着源 TE1-Box 最大2源 有機蒸着源 抵抗加熱式 有機蒸着源 LTE1 最大4源（1cc, or 5cc） 真空ポンプ ターボ分子EXT75DX, ロータリーポンプRV3（*ドライポンプオプション） シ真ャ空ッ計ター ワイドレンジピラニゲージ：10-9～1000mbar 水晶振動子膜厚モニタ 1基（*最大2基）センサ・オシレータ・ケーブル・ソフトウエア付属 600 基板シャッター Φ2”基板シャッターx1（*Φ4”基板用パドルシャッターオプション） ソースシャッター ソースシャッターx1（*最大4） フロントビューポート Φ70mmフロントビューポート（シールドメッシュ） その他オプション 基板加熱 (Max500℃）, 基板回転 , 上下昇降 , ファスト・ベント ユーティリティ 電源 200V 三相 10A 50/60Hz 冷却水 1ℓ/min 18～20℃ <400kpa (max.) Φ6mmクイック継手接続 圧縮空気* 415kpa～550kpa* Φ6mmクイック継手接続 ベントガス* 50kpa(max.)* 純度99.995% Φ6mmクイック継手 *圧縮空気、プロセスガス、ベントガスは、供給側 2次圧力をレギュレータで調整できる事 503 804 ※仕様・外形寸法については、予告なしに変更する場合がございます。あらかじめご了承下さい。 ※社名及び装置名称は全て当社及びMoorfield Nanotechnology社（英）の商標です。 重量：約 45～75kg（構成による）

nanoPVD-T15A Control System ‘Intellidep’ ■nanoPVD-T15A 制御ソフトウエア ‘Intellidep’ 7”タッチパネルHMI Main Menu Pressure Plot Process Execution System Log 卓上型ベンチトップシリーズ、MiniLab 薄膜実験装置の全てに共通する制御ソフトウエア 'Intellidep' が採用されています。煩雑でなく、直感 的に操作することができます。装置のハードウエア設定（マテリアルデータ、ソース出力、レート設定、シャッター、ステージ駆動、等）、インター ロック状態、ログ保存・故障解析、真空引き→運転→ベントまでの一連の操作全てを Intellidep の操作画面で一元管理します。 ● 7inch高解像度タッチパネルスクリーン ● 専用ソフトウエア Intellidep付属 最大1000layer, 1000process, 50lmまでのプログラム作成可能 ● USBケーブル（付属）でWindows PCへ接続、CSV・ログデータ保存

nanoPVD-T15A System Overview ■nanoPVD-T15A 装置外観

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