【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置

MiniLab 080 Thin Film Flexible Deposition System 開発元：Moorfield Nanotechnology社（英） MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置 80ℓ容積 SUS304トールチャンバー：400（W) x 400(D) x 570(H)mm 抵抗加熱蒸着源 x4源 , 有機材料蒸着源 x4源 マグネトロンスパッタリング（マグネトロンカソード最大4源） 電子ビーム蒸着 Φ4～8inch用加熱ステージ , RFエッチングシステム , CVDも製作致します。 ロードロックシステム（*オプション） ●TE1-Box型蒸着源 ● LTE1有機材蒸着源 ● マグネトロンカソード ● EB銃 ● 基板加熱ステージ テルモセラ・ジャパン株式会社

MiniLab-080 System Feature 概要・装置特徴 【MiniLab（ミニラボ）】とは・・・ 【MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置】特徴 モジュラー組立式により” Plug-and-Play” 感覚で、必要な 80ℓ容積 ,400(W)x400(D)x570(H)mm SUS304製 D型 モジュールを組合わせることにより構成された装置です。 チャンバーで構成されたMiniLab-080は ,抵抗加熱蒸着 その為部品交換・アップグレードの際に大掛かりな改造を （金属 /絶縁物 /有機材）,EB蒸着 ,RF/DC兼用マグネト 必要とせず最小限度の部品交換・調整作業により対応する ロンスパッタ ,ドライエッチ ,CVD,アニールなど多彩な成 ことが可能です。又、各ユニット種類が豊富である為、製作 膜モジュールの組込が可能。回転・昇降 ,冷却ステージ ,ロー 範囲も幅広く、抵抗加熱蒸着・スパッタ・CVDなど多岐に ドロック機構などオプションが豊富。又、蒸着時の膜厚均 渡ります。研究開発用に多目的に活用いただけるコストパ 一性を得られる様 T/S距離を最適化された高さ 570mm フォーマンスに優れた薄膜実験装置です。 トールチャンバーが 080の最大の特徴です。 MiniLab-080 Chamber, Deposition Modules チャンバー・成膜モジュール モジュラー組立式により構成されるMiniLab装置は、セミカスタムメイドの装置です。お客様の要望に合わせ都度構成を練り積 算～見積り、製造をしております。まずはご要望の薄膜プロセス条件：成膜モジュール構成～制御方式～オプションをご指示下 さい。ご要望に合わせた装置構成をご提案致します。 ● 金属蒸着源（最大4源） ● 有機材料蒸着源（最大4源） TE1：電極x1 TE2：電極x２ TE3：電極x3 LTE-5cc用るつぼ LTE-1cc用るつぼ （15cc） （2.4cc） LTE-5cc, 1cc ● マグネトロンカソード（最大4源 *Φ2”カソード） TE1-Box：ボックスシールド付 TE4：電極x4 バスケット ボート ロッド ● EB電子銃 ● 基板加熱ステージ 超高真空対応 回転型電子銃を採用。7cc（x6）、又は 4cc 標準Φ4inchから、最大Φ8inchまでの高温基板加熱ヒーター （x8）のルツボを回転式インデクサーモジュールで材料を自動 ステージ。ハロゲンランプヒーター（Max500℃）, C/Cコンポ 又は手動切替え。 3kw, 5kw, 10kwの3種類の電源を用意。 ジット（Max1000℃）, SiCコート（1000℃）の3種類を用意。 MiniLab-E080A EB蒸着システム Φ4inch C/C コンポジット加熱ステージ

● SQC薄膜コントローラー Inficon社 SQM-160（セミオート）, SQC-310（フルオート）を ▪手動モード：出力調整・シャッター等ハードウエアの手動操作 採用。0.0368Åの精度で高精度薄膜制御。設定膜厚値でのシャ ▪セミオート：手動操作に加え、設定膜厚での自動シャッター操作 ッター自動開閉操作、蒸着速度・膜厚監視などが可能。 ▪自動モード：登録レシピの自動運転 MiniLab-080 Tall Chamber MiniLab-080 トールチャンバー 80ℓ大容積 570mm高さの SUS304製トールチャンバーを採用した 080は、ストロークの長い T/S距離により蒸着時の膜厚均一性を向上。 冷却・ベーキングチャンバーも製作致します。予備ポートを豊富に備え、ロードロックなど様々なオプションツールを組合わせ配置することが可能です。 MiniLab-080 System Specification 基本仕様 到達真空度 5x10-5Pascal 電源 200V三相 50/60Hz 13A チャンバーサイズ 400(W) x 400(D) x 570(H)mm SUS304 製 冷却水量 3ℓ/min, 4bar 18-20℃ 基板サイズ Φ1～11inch プロセスガス 25psi, 純度 99.99%推奨 真空排気 ターボ分子 , ロータリーポンプ ベントガス 0.5ba（r N2） 真空計 WRGピラニーゲージ 圧縮空気 60～80ps（i N2, Ar, 又はドライエア） インターフェイス 7” タッチパネルHMI 装置寸法 1,180(W) x 590(D) x 1,700(H)mm インターロック 冷却水量 , ガス , 真空度 重量 約 100～200kg（ * 構成により異なる） MiniLab-080 Options オプション ビューポート Φ70mm前面ポート 冷却ステージ LN2, Glycol, ペルチェ冷却（*仕様要協議） 高精度真空計 キャパシタンスマノメーター 補助排気ポンプ ドライスクロールポンプ APC/ 自動成膜制御 ゲートバルブ+ 薄膜コントローラ PID自動制御 インターフェイス Laptop PC（Windows 10） シャッター 蒸着源用 /基板用 基板ホルダー 特殊サンプルホルダー（*仕様要協議） 回転 /上下昇降機構 30段階回転速度切替 , 上下位置制御 マスフロー MFC x 最大 3系統（協議の上対応致します） 基板加熱ステージ Max500℃ハロゲンランプ スパッタ制御機 RF/DC電源 , マッチングユニット , 基板バイアス 高温基板加熱 Max1000℃：C/Cコンポジットヒーター ロードロック ターボ分子 , ロータリーポンプ , WRGゲージ ※小型チャンバーの為、成膜モジュール、オプションの組合せには制限があります。当社までお問い合わせ下さい。 ・金属蒸着源 TE1-Box型の場合：最大 2源 ・金属蒸着源 TE1-Boxと有機蒸着源 LTEの場合：TE1 x 2, LTE x 2 ・有機蒸着源 LTEのみの場合：最大 4源 ・EB蒸着源と TE1-Boxの混在：EBx1台 , TE1x2源 ・マグネトロンカソードΦ2inchのみの場合：最大 4源

MiniLab-080 System Control Software ’Intellidep’ ’Intellidep’ソフトウエア “Intellidep” は、MiniLab series全てに共通した操作ソフトウェアです。簡単なタップ（クリック）操作でどなたでも真空引き～ プロセス実行～ベントなどの装置操作、レシピ作成編集、システム解析・データ保存などの一連の操作ができます。取扱説明書 を読まなくても直感的に操作できる様，使いやすさに配慮しています。 Main Menu Pressure Plot Process Execution System Log ● 7inch高解像度タッチパネルスクリーン操作（*Windows PC操作オプション有り） ● Windows PC操作（PC用”Intellinet”ソフトウエア付属）、データロギング・USB接続データ出力保存 ● 最大 50フィルムレシピ・1000レイヤー・1000プロセスまで作成登録が可能 MiniLab-080 Load Lock System MiniLab-080 ロードロックシステム MiniLab-080では、オプションとしてロードロックシステムを追加することができます。本体チャンバーを超高真空状態を 維持しながらトランスファーロッドを介してメインチャンバーに設置する試料の交換をすることができます。メインチャン バー同様に TMP, RP, ピラニー計を設置、更にベーキング（オプション）, RFエッチステージなどもご希望により追加する ことが可能です。詳細は当社までご相談下さい。 素早い真空到達時間：5x10-4pascal まで約 10 分 中央 LL システムによるML-080-EB システムとML-060 スパッタ装置の連結 ドライエッチステージ：LLチャンバでのプロセス前クリーニング

MiniLab-080 System Overview 装置概観 テルモセラ・ジャパン株式会社 〒103-0027 中央区日本橋3-2-14 新槇町ビル別館第一2F Tel:03-6214-3033 www.thermocera.com E-mail sales@thermocera.com Copyright© 2020. Thermocera Japan Ltd. All Rights Reserved World Wide.