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小型実験装置シリーズ。モジュール組込み式の為都度必要な膜種に応じた専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型実験装置。
MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度好適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。
MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。
【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】
抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、熱CVD、プラズマCVD、ドライエッチング、HiPIMS大電力パルススパッタリング、他
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このカタログについて
ドキュメント名 | 【MiniLab(ミニラボ)】フレキシブル薄膜実験装置 |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 4.3Mb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | テルモセラ・ジャパン株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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MiniLab 【ミニラボ】シリーズ Key features 【特徴】
‘Plug & Play’ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカス スモールフットプリント
タムメイドが可能なフレキシブル薄膜実験装置です。ご要望に応じた高性能成膜装置を最適価格でご提案致します。 設置場所を選ばず、限られたラボスペースを有効活用できるコンパクトサイズの薄膜実験装置です。多元スパッタ、ロードロッ
ク機構など、大型になりがちであった複雑な装置構成でも幅 1,200mm、奥行 600mm以内(*060 19inchツインラック式の場合)
の設置面積に収まります。複合コンポーネント構成であっても煩雑にならず、整然と 19inch ラックフレーム内に収納されてい
ます。
容易な部品交換・メンテナンス
スパッタターゲットや蒸着材料は、容易に交換・補充が可能な設
計となっております。日常の材料交換に加え、清掃・メンテナン
ス作業の際にもストレスを感じさせないシンプル設計。交換部品
メンテナンスキットの在庫も用意しております。又、主要制御機
器(MFC, PLC, HMI, 電源等)は信頼の日本製コンポーネント
を標準採用しています。
PC/HMIユーザーインターフェイス
MiniLab シリーズの操作インターフェイスは、7inch タッチパネ
MiniLab 026 MiniLab 060 ル HMI、又はWindows PC コントロールのいずれを選択できま
Two-piece chambers for evaporation and Box-type chambers for all PVD techniques. す。直感的な操作画面、各コンポーネントに触れず、HMI 画面上
sputtering. で全ての操作の一元管理が可能。作業者の熟練度を問わず常に安
定した一定の実験結果を導き出します。装置を常に状態監視し安
全に管理、故障解析も画面上に表示。トラブル発生後も迅速な復
旧が可能となります。
豊富なオプション
ご要望のプロセス条件を満たすオプションを豊富に揃えております。
・プラズマ電源:RF, DC, PulseDC, HiPIMS電源各種
・真空ポンプ:ターボ分子ポンプ , クライオポンプ , ドライスクロールポンプ
・基板ステージ:基板ホルダー , プラネタリーステージ
・冷却ステージ:ペルチェ , N2, Glycol
・真空計:ワイドレンジ(ピラニー /ペニング), キャパシタンスマノメータ
・運転モード:手動 , セミオート ,フルオート(Pump/Run/Vent)
・オートマスクチェンジャー:蒸着マスク /基板自動搬送
・測定ツール:ステージ温度測定 , RHEED, PEM,他
MiniLab 080 MiniLab 090 MiniLab 125
Tall D-shaped chambers, ideal for evaporation. Glovebox-compatible box-type chamber with Larger chambers for multiple substrates and フレキシブルな装置構成
front and rear access. pilot-scale processing. 多元同時成膜 , プラズマエッチング(メインチャンバー , LLチャンバーいずれも可能), ソース混在システム(「蒸着 /スパッタ」
「蒸着 /有機 /電子ビーム」など)、マルチチャンバー、等ご提案致します。
Sources 抵抗加熱蒸着 有機材料蒸着 スパッタリング 電子ビーム蒸着 プラズマエッチング
抵抗加熱 /有機蒸着・電子ビーム スパッタカソード 4源・電子ビーム デュアル・チャンバーシステム:EB(左)スパッタ(右)
P1_MiniLab Deposition System MiniLab Deposition System_P2
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MiniLab series
コンパクトサイズ、拡張性に優れた装置設計「フレキシブル薄膜実験装置」
◉ チャンバサイズ
・26ℓ(MiniLab-026) 305Φ(i.d.) x 350(H)
・60ℓ(MiniLab-060) 400(W) x 400(D) x 400(H)
・70ℓ(MiniLab-070) 450(W) x 450(D) x 450(H)
・80ℓ(MiniLab-080) 400(W) x 400(D) x 750(H)
・90ℓ(MiniLab-090) 400(W) x 400(D) x 750(H)
・125ℓ( MiniLab-125)500(W) x 500(D) x 600(H)
◉ オプション 【ロードロックチャンバー】
ビューポート ,防着シールド ,スライド式フロントドア(090),水冷機構 4~10inch基板
MiniLab-080チャンバー コールドトラップ , ロードロックポート(060,080,125のみ), 測定用ポート RIEプラズマエッチング、又は
<30Wソフトエッチング
◉ 抵抗加熱蒸着 -フィラメント , ボート , るつぼ , ロッド
◉ 有機材料蒸着 -るつぼ(石英 , アルミナ) 【回転・昇降機構部】
◉ 電子ビーム銃 -マルチポケット回転セレクター ,ビーム偏向 , XYスイープ
◉ スパッタリング - 2”~4”マグネトロンカソードx最大 6(モデルにより異なる)
TE1 抵抗加熱蒸着源 マグネトロンカソード 電子ビーム銃 有機蒸着源
【装置背面】 【Plasma Switching Module】
◉ ステージサイズ -Φ4inch ~ Φ12inch(モデルにより異なる) 電装パネル , 排気ポート DC/RF 電源→ ソース・ステージへ分配
ガス・冷却水接続口 操作画面よりあらゆる組合せ設定が可能
◉ 上下 / 回転 -手動、又はモーター駆動 , 回転 30段階設定
◉ 基板加熱 - Max500℃(ランプ加熱), Max1000℃(SiCコート)
◉ プラズマエッチング -逆スパッタ、又は <30Wソフトエッチング 【操作インターフェイス】
* 成膜方向は、デポアップ・ダウン・サイドいずれも可(*026 はデポアップのみ) Windows PC 又は、7inch タッチパネル
RIEププララズズマエマッエチッンチグンスグテージ * デポアップには簡便な基板固定冶具が付属します。
◉ 抵抗加熱蒸着 - TEC(抵抗加熱蒸着源), LTEC(有機蒸着源)
◉ 電子ビーム蒸着 - EB電源 , EB薄膜コントローラ 【ML-LT090M】抵抗加熱蒸着機 Single Rack構成例
◉ スパッタリング - Intellidep control/ RF, DC, HiPIMS電源 90ℓ容積 スライド開閉式 /背面メンテナンスドア
◉ ステージコントローラ -上下・回転・加熱・冷却 装置寸法:560(W) x 590(D) x 1,050(H)mm
◉ エッチコントローラ - RF, DC電源
フロントコントローラー * 各コントロールユニットは、手動又は PC/HMI 画面からの操作が可能です。
【ML-S125A】スパッタ装置 Twin Rack構成例
◉ 7inch タッチパネル 【IntelliNet - Windows PC インターフェイス】 125ℓチャンバ , ロードロック , ゲートバルブ , トランスファアーム
シングルラックシステムの場合、専用テーブル付属致します。
◉ WIndows PC/ マウス・キーボード操作
20inchモニター付属
OS:Windows 10以上、USBポート付属
WIndows PCインターフェイス用ソフトウエア IntelliNetにより外部通信
タッチパネルコントローラー データロギング、データの共有が可能
【IntelliNet - 7inch タッチパネル操作画面】 左より『, Main Menu』『, Process Execution』,『Plot』
P3_MiniLab Deposition System MiniLab Deposition System_P4
Chamber Sources Stages Controls Interface
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MiniLab 026 MiniLab-026 MiniLab 026-GB MiniLab-026-GB
フレキシブル薄膜実験装置 グローブボックス薄膜実験装置
MiniLab-026 のチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下 に収納した装置です。
スパッタ・真空蒸着などの成膜装置とグローブボックス設置エリアを一体化した、ラボ 内の限られたスペースを有効
活用できる省スペース装置です。スピンドライヤー , ホットプレートなどへの受け渡しなど、試料を外気に晒すこと
なくグローブボックス内で一連の作業をシームレスに行うことができます。
◉MiniLab-026 特徴
シリーズ最小のコンパクトフットプリント。小型チャン
バーにフレキシブルなコンポーネント配置。様々な用途
に活用いただけます。コンパクトながら応用範囲は広く、
様々な PVD実験に活用いただけます。
◉主仕様
・到達真空度 <5x10-7mbar
・基板サイズ 最大 6inch
・ガス系統 3系統(標準)Ar, O2, N2
・APC制御 PIDループ自動圧力制御(又は、手動)
・真空ポンプ ターボ分子 , ロータリー(又はスクロール)
・膜厚センサ 水晶振動子膜厚センサー 最大 3
・基板回転 モーター駆動 30段階速度可変式
・上下昇降 手動、又はモーター駆動式
・シャッター 基板シャッター , ソースシャッター
・オプション 多元同時成膜
◉MiniLab-026 成膜コンポーネント
装置寸法:590(W) x 590(D) x 1,240mm 抵抗加熱蒸着 TE1ボックス型蒸着源 最大 3源
有機蒸着 LTE-1型有機蒸着源(1cc) 最大 2源
マグネトロンスパッタリング 2/3inchカソード x 最大 3源
プラズマエッチング RF150W 13.56MHz, DC850W PSU
アニール 2/3inch加熱ステージ Max500℃
抵抗加熱蒸着 有機材料蒸着 スパッタリング プラズマエッチング アニール CVD
26ℓチャンバ ーに抵抗加熱・有機蒸着・スパッタソースを自在に配置。
豊富なオプション、モジュールの組合せで専用機を構築。
操作性・メンテナンス性に優れ、膜質に妥協の無い高性能薄膜実験装置。 アニール(右) + RFプラズマエッチング(左) スパッタカソード x 1 + 抵抗蒸着 x1 nanoCVD(PECVD)
P5_MiniLab Deposition System MiniLab Deposition System_P6
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MiniLab 060 MiniLab-060
フレキシブル薄膜実験装置
抵抗加熱蒸着 有機材料蒸着 電子ビーム蒸着 スパッタリング プラズマエッチング アニール
60ℓチャンバーに豊富なポートを配備。様々なコンポーネントの組合せ
により幅広い成膜方式に対応。コンパクトサイズに高機能を凝縮したハ
イパフォーマンス機。スパッタに最適です。
◉MiniLab-060 特徴
抵抗加熱・有機蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタ 、プラ
ズマエッチング、アニールなどの成膜モジュールの組合
せが可能。自動連続多層膜・多元同時成膜、デポアップ /
ダウン / サイド・加熱・回転・昇降ステージ等、多彩な構
成オプションを用意。様々なアプリケーションをカバー
し、基本性能にも優れた高性能薄膜実験装置です。
◉主仕様
・到達真空度 <5x10-7mbar
・基板サイズ 最大 8inch
・ガス系統 3系統(標準)Ar, O2, N2
・APC制御 PIDループ自動圧力制御(又は、手動)
・真空ポンプ ターボ分子 , ロータリー(又はスクロール)
・膜厚センサ 水晶振動子膜厚センサー 最大 4
・基板回転 モーター駆動 30段階速度可変式
・上下昇降 手動、又はモーター駆動式
・シャッター 基板シャッター , ソースシャッター
・オプション ロードロック機構 , 多元同時成膜 , 他
・MiniLab-070 『ラージチャンバー』モデル
(450 x 450 x 450mm)
◉MiniLab-060 成膜コンポーネント
マグネトロンスパッタリング 2/3/4inchカソード x 最大 4源
抵抗加熱蒸着 TE1ボックス型蒸着源 最大 4源
有機蒸着 LTE-1型有機蒸着源(1cc) 最大 4源
装置寸法:1,200(W) x 590(D) x 1,630mm 電子ビーム蒸着 マルチポケット:4cc x 8, 又は 7cc x 6
*高さは装置構成により異なります。 プラズマエッチング RF150W 13.56MHz, DC850W PSU
アニール 2~6inch加熱ステージ Max500℃
Plasma Etching Technology
◉プラズマエッチングテクノロジー
MiniLab シリーズ全機種に、2D 材料・高分子系などの繊細な材料へ
のドライエッチングを可能にした 30W 低出力・制御精度 10mW の
独自技術『ソフトエッチング』、RIE 反応性プラズマエッチング、表
面改質クリーニングの技術を搭載可能。いずれもメインチャンバーと
ロードロックチャンバーのどちらへも設置することができます。
• 2D(遷移金属カルゴゲナイド , 材料転写後のグラフェン剥離)
• PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去
• テフロン基板等、ダメージを受けやすい基板の表面改質、エッチング
• h-BNサイドウオールエッチング(*『フッ化ガス供給モジュール』)
• SiO2エッチング(*『フッ化ガス供給モジュール』)
P7_MiniLab Deposition System MiniLab Deposition System_P8
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MiniLab 080 MiniLab-080 MiniLab 090 MiniLab-090
フレキシブル薄膜実験装置 フレキシブル薄膜実験装置
抵抗加熱蒸着 有機材料蒸着 電子ビーム蒸着 スパッタリング プラズマエッチング アニール 抵抗加熱蒸着 有機材料蒸着 電子ビーム蒸着 スパッタリング プラズマエッチング アニール
80ℓ容積 D型チャンバーのMiniLab-080 は、Long throw により成膜面内 90ℓ容積ボックス型チャンバー。スライド開閉式フロントドア、背面のメ
均一性向上に寄与する高さ 570mmのトールチャンバー仕様。真空蒸着に ンテナンスドアなど、グローブボックスでの作業性を重視した設計。スタ
最適化された装置です。 ンドアローン機としての機能も充実。
◉MiniLab-080 特徴 ◉MiniLab-090 特徴
抵抗加熱・有機蒸着、EB 蒸着に最適設計されていますが、更にスパッタ 、プラズ 蒸着に最適化された 570mm トールチャンバー [MiniLab-080] の
マエッチング、アニールなどとの組合せ、複合・ソース混在型システムの構成も可能。 グローブボックス用モデル。ワークエリア内にスムーズにアクセス
最大基板Φ10inch、自動連続多層膜・多元同時成膜など基本性能に優れ、ロードロッ できるスライド式フロントドア、材料交換、清掃を容易にする背面
ク機構、自動蒸着マスクチェンジャーなどのオプションも豊富です。 のメンテナンスドアなど、作業の利便性を考慮した設計です。
◉主仕様
・到達真空度 <5x10-7mbar
・基板サイズ 最大 10inch
・ガス系統 3系統(標準)Ar, O2, N2
・APC制御 PIDループ自動圧力制御(又は、手動)
・真空ポンプ ターボ分子 , ロータリー(又はスクロール)
・膜厚センサ 水晶振動子膜厚センサー 最大 4
・基板回転 モーター駆動 30段階速度可変式
・上下昇降 手動、又はモーター駆動式
・シャッター 基板シャッター , ソースシャッター
・オプション ロードロック機構 , 多元同時成膜 ,
『SMX』自動蒸着マスクチェンジャー , 他 MiniLab 090-GB
MiniLab-090-GB
グローブボックス薄膜実験装置
装置寸法:1,200(W) x 590(D) x 1,630mm
*高さは装置構成により異なります。
装置寸法:590(W) x 590(D) x 1,630mm
*高さは装置構成により異なります。
◉MiniLab-080 成膜コンポーネント ◉MiniLab-090 成膜コンポーネント
マグネトロンスパッタリング 2/3/4inchカソード x 最大 4源 マグネトロンスパッタリング 2/3/4inchカソード x 最大 4源
抵抗加熱蒸着 TE1ボックス型蒸着源 最大 4源 抵抗加熱蒸着 TE1ボックス型蒸着源 最大 4源
有機蒸着 LTE-1型有機蒸着源(1cc) 最大 4源 有機蒸着 LTE-1型有機蒸着源(1cc) 最大 4源
電子ビーム蒸着 マルチポケット:4cc x 8, 又は 7cc x 6 電子ビーム蒸着 マルチポケット:4cc x 8, 又は 7cc x 6
プラズマエッチング RF150W 13.56MHz, DC850W PSU プラズマエッチング RF150W 13.56MHz, DC850W PSU
アニール 2~6inch加熱ステージ Max500℃ アニール 2~6inch加熱ステージ Max500℃
P9_MiniLab Deposition System MiniLab Deposition System_P10
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MiniLab 125 MiniLab-125
フレキシブル薄膜実験装置
抵抗加熱蒸着 有機材料蒸着 電子ビーム蒸着 スパッタリング プラズマエッチング アニール
125ℓ容積大型チャンバー、MiniLab シリーズ最上位機種。多品種・大型
基板に対応。幅広い成膜方式、様々な用途・アプリケーションをカバーす
る複合モジュール装置構成も可能なハイエンド機。
◉MiniLab-125 特徴
抵抗加熱・有機蒸着、EB 蒸着、スパッタ 、プラズマエッチング、アニール、CVD など、ほぼ全ての MiniLab シリーズ
の機能を備え、大型基板にも対応。豊富な予備ポートにより、コンポーネントの増設、組替えも可能。研究開発用のみならず、
パイロットライン、小規模生産用途にも幅広く活用いただけます。
◉主仕様
・到達真空度 <5x10-7mbar
・基板サイズ 最大 12inch
・ガス系統 3系統(標準)Ar, O2, N2
・APC制御 PIDループ自動圧力制御(又は、手動)
・真空ポンプ ターボ分子 , クライオ , ロータリーポンプ(又はスクロール)
・膜厚センサ 水晶振動子膜厚センサー 最大 4
・基板回転 モーター駆動 30段階速度可変式
・上下昇降 手動、又はモーター駆動式
・ステージ シングル、又はプラネタリーステージ
・シャッター 基板シャッター , ソースシャッター
・オプション ロードロック機構 , 多元同時成膜 , 他
◉MiniLab-125 成膜コンポーネント
マグネトロンスパッタリング 2/3/4inchカソード x 最大 6源
抵抗加熱蒸着 TE1ボックス型蒸着源 最大 4源
有機蒸着 LTE-1型有機蒸着源(1cc) 最大 6源
電子ビーム蒸着 マルチポケット:4cc x 8, 又は 7cc x 6
プラズマエッチング RF150W 13.56MHz, DC850W PSU
装置寸法:1,770(W) x 755(D) x 1,650mm
アニール 2~6inch加熱ステージ Max500℃ *高さは装置構成により異なります。 成膜モジュール、制御機器、電源などの構成部品により、ツインラック式からトリプルラック式への拡張も可能。
P11_MiniLab Deposition System MiniLab Deposition System_P12
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Custom systems
お客様のご要望仕様にてカスタムメイド致します。
MiniLabシリーズの豊富なパーツオプションで、カスタムメイドのご要望
にも柔軟に対応致します。
Case study 1 Case study 2 Case study 3 Case study 4
【測定系の追加】 【フッ化ガス供給モジュール】 【高純度ナノ粒子堆積ソース】 【装置リファビッシュ】
PEM(Plasma Emission Monitoring), RHEEDなど SF6, CHF3『フッ化系ガス供給モジュール』を活用した 1~3カソードから構成される「nano-particle source」 MiniLab装置用コンポーネントは、お客様の既設設備の
をマグネトロンスパッタ装置に設置 反応性プラズマエッチング 1~20nmの高純度粒子を金属ターゲットから生成 改修の際にも活用いただけます。当社までご相談下さい。
P13_MiniLab Deposition System MiniLab Deposition System_P14
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テルモセラ・ジャパン株式会社
〒103-0027 東京都中央区日本 3-2-14 新槇町ビル別館第一 2 階 sales@thermocera.com Phone: 03-6214-3033 Fax: 03-6214-3035
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