耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜、シールド膜の形成が可能
本装置は耐プラズマ膜（Y₂O₃膜）の厚膜成膜が可能です。
充填密度の高い緻密で強固かつ耐腐食性の高いY₂O₃膜を形成することで、
高密度フッ素系ガスプラズマからアルミナや石英などの部品を保護します。
【用途】
・半導体向けドライエッチャー
・CVD装置の内部部品へシールド膜コーティング
◆詳細はカタログをダウンロードしてご覧下さい。
このカタログについて
| ドキュメント名 | 耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 4.1Mb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社昭和真空 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
この企業の関連カタログ
