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複雑な形状の基板への成膜に最適 原子層堆積装置 ALD-Series

製品カタログ

低温成膜で樹脂基板にも対応 ガスバリア性に優れた薄膜が得られます

・単原子層ずつ成膜するため、膜厚制御性に優れている
・高アスペクト比の基板に対しても付き回りよく成膜することが可能
・基板温度を抑え成膜することが可能
・基板面内分布に優れている

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このカタログについて

ドキュメント名 複雑な形状の基板への成膜に最適 原子層堆積装置 ALD-Series
ドキュメント種別 製品カタログ
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取り扱い企業 株式会社昭和真空 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

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