1/2ページ

このカタログをダウンロードして
すべてを見る

ダウンロード(397.6Kb)

ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400T型

製品カタログ

装飾膜・硬化膜用の製膜装置です

このカタログについて

ドキュメント名 ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400T型
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 397.6Kb
登録カテゴリ
取り扱い企業 株式会社昭和真空 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

この企業の関連カタログ

光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ
製品カタログ

株式会社昭和真空

超高性能光学薄膜用蒸着装置 Sapio 1300/1550
製品カタログ

株式会社昭和真空

このカタログの内容

Page1

成膜装置 SIH シリーズ ホロ ーカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH -400T 【成膜サンプル】 ■ゴールド系(TiNx) ■ブラック系(TiCxNy) (x>y) ■ブルー系(TiOx) ■ブラウン系(TiCxNy) (x<y) 特徴 ◆ アクセサリーなどの装飾膜成膜用に最適。 ◆ 工具の硬化膜成膜用に最適。 ◆ タッチパネル操作による成膜レシピ制御が可能。 ◆ 少量生産機・実験機として最適。 ◆ 導入ガス(N2、O2、C2H2)の量、及び種類を変えることにより、 成膜色を変える事が可能。
Page2

成膜原 理 【構成 図】 :Ti 基板 :Ti + :反応ガス :反応ガス - 内部写真 反応ガス + HCD/GUN GND 【原理 】 (1)材料は Ti を使用します。加熱された Ti は、気体となり蒸発します。さらに Ti は電子衝突により電離し ます(プラズマ状態)。このプラズマ状態となった Ti イオンを利用します。 (2)発生した Ti イオン(Ti+)はプラスですから、基板にマイナスの電位を印加して Ti+を引き寄せ堆積させ ます。これだけですと Ti のみのコーティングとなります。 (3)そこで、反応ガス(N2,O2,C2H2)を導入して、Ti イオンと反応させます。これで TiNx,TiOx,TiCx,TiCxNy が 成膜できます。反応ガス種・反応量で色あいを変化させることが可能です。 概略仕 様 【仕様】 ・真空 槽 φ400×H500mm ・測定系 ピラニ-真空計 ・蒸発 源 HCD/Gun ペニング真空計 水冷ハース ・排気系 複合分子ポンプ 電源 油回転ポンプ ・ バイアス電源 100V-10Aワー ク保持機構 自公転治具 or 公転治具 ・・ボンバード電源 500V-1A ・ワー ク加熱ヒーター シースヒーター ・ガス導入系 4系統 【所要諸元】 ・ サイズ 本機:約W1340×D1120×H1938 ・重量 本機:約1000kg ・所要 電力 3φ AC200V 約29kVA(84A) ・所要 水量 約1.6m3/h (約27 l/min) 差圧 0.2MPa以上 ・所要 圧空 約0.5MPa以上  ※本仕様・外観については、改良のため予告なく変更することがあります。あらかじめご了承下さい。 ご質問・詳細につきまして お問合せ 先 は、営業所までお気軽にお TEL:042-764-0370 FAX:042-764-0377 【営業部 】 問合せ下さい。 E-Mail:sales-pamphlet@showashinku.co.jp 本社・相模原工場 〒252-0244 神奈川県相模原市中央区田名 3062-10 TEL:042-764-0321 URL http://www.showashinku.co.jp 本製品は、 外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、 日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。 IEJ08302-1003