1/2ページ

このカタログをダウンロードして
すべてを見る

ダウンロード(1.2Mb)

ロードロック式周波数調整装置 SFE-X2012型

製品カタログ

世界最高レベルのタクトタイムを実現します

このカタログについて

ドキュメント名 ロードロック式周波数調整装置 SFE-X2012型
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 1.2Mb
登録カテゴリ
取り扱い企業 株式会社昭和真空 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

この企業の関連カタログ

光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ
製品カタログ

株式会社昭和真空

超高性能光学薄膜用蒸着装置 Sapio 1300/1550
製品カタログ

株式会社昭和真空

このカタログの内容

Page1

水晶装置 SFEシリーズ ロー ドロック式周波数調整装置 SFE-X2012 コンパ クト設計・高精度・低価格・高安定・高再現性 5 4.54 3.5 3 2.5 2 1.5 1 0.50 -60 -50 -40 -30 -20 -10 0 10 20 30 40 50 60 位置(mm) 【高性能イオンソース IGF-201】 【 装置内部概要】 シャッターユニット (ロータリーソレノイド搭載) 【メンテナンス性を考慮した設計】(シャッター台座) 100mmビーム イオンソース (簡易着脱機構) イオンソース台座 (水冷ブロック) 分解図 特徴 ◆3室インライン式の採用 処理室と取出室を別にし、イオンソースもH/Lを各々搭載したことで、アイドルタイムの少ない効率的 な動作が可能になりました。 ◆多源同時処理 SFE‐B03に搭載したIGF-201型 100mmビームのイオンソースを2基搭載しています。 1台当たり最大24個、計48個同時処理が可能です。 ◆微小ワークに対応した高精度な機構 SFE-B03で実績のある高精度・高安定・高再現性の搬送機構を本装置にも採用しております。 今までインラインでは困難であった小型ワーク(2.0×1.6、1.6×1.2)の周波数調整も、安定して量産 できます。 ◆メンテナンス性を考慮 ユニット毎に各機器の分解が可能で、メンテナンス性を考慮した設計となっています。 2 イオン電流密度(mA/cm )
Page2

装置性 能 タクトタイム :0.3sec/pc以下 ※18MHz 以上のワーク、1列24個以上の場合 調整 精度 :±1.5ppm以下 処理 数 :最大24列(p4.0)×32列 生産 量 :12000pcs /時間 以上 概観図 1930mm 【設置 寸法】 W33 20×D1930×H2040 3320mm LD ULD 2046mm 装置本体 1270mm 800mm 1900mm 600mm 概略仕様 ワークサイズ : SMD 2016以下の小型サイズにも適応可能 装置構成 : 3室(仕込室、処理室、取出室) インライン式 ローダー オーバー ドライブ ※オプションで LD(O.D 付属)、ULDとドッキングが可能 搬送系 : SFE-B03型と同じくX軸搬送をH/Lに各々採用 排気系 : 処理室 12インチCP 仕込室/取出室 RP+MBP イオンソース : 100mmビーム矩形型 ×2式 ⇒最大48個同時処理 計測器 : ネットワークアナライザー 4台 PC : Windows PC ×2台、DOS PC×2台 周調工程 : 2段階(H,LL) ご質問・詳細につきまして お問合せ 先 TEL:042-764-0370 FAX:042-764-0377 は、営業部までお気軽にお 【営業部 】 問合せ下さい。 E-Mail:sales-pamphlet@showashinku.co.jp 本社・相模原工場 〒252-0244 神奈川県相模原市中央区田名 3062-10 TEL:042-764-0321 URL http://www.showashinku.co.jp 本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、 日本国政府 への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。 IQJ10301-1309