水晶デバイスの熱処理(アニール)工程用の装置
水晶デバイスの加工時に生じたひずみの除去・電極膜の安定化等、部品の最後の仕上げに必要な加熱処理を行うための装置。
加熱棚を5段備えた加熱処理室を2室搭載。
また、それぞれの処理室は独立稼働させることができるため、生産の効率化とサイクルタイムの短縮が図れる。
60分で250℃に達し、最大で300℃まで温度を上げることが可能。
最後の仕上げを要領よく行うための必須品である。
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 【独立稼働処理室で効率よく加熱処理】 高真空アニール装置 SAF-52Ｔ-Ⅱ型 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 658.8Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社昭和真空 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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