Tennant20　オスミウムコーティングシステム

Tennant20(テナント20) オスミウムコーティングシステム 製品カタログ 2021年11月現在 購入後も万全のサポートをお約束 ご購入後も安心してご使用いただけるよう、高品質なサポートをご提供致します。 また、豊富な経験を持つ技術者が装置の状況に合わせた最適なメンテナンスを 実施いたします。 お困りのことがありましたらお気軽にお問合せください。 メイワフォーシス 株式会社 製品、その他お問合せ先 本 社 : TEL (03)5379-0051 FAX (03)5379-0811 〒160-0022 新宿区新宿1-14-2 KI御苑前ビル 大 阪 本 部 : TEL (06)6212-2500 FAX (06)6212-2510 〒542-0074 大阪市中央区千日前1-4-8 千日前M’sビル9F 名 古 屋 営 業 所 : TEL (052)686-4794 FAX (052)686-5114 〒464-0075 名古屋市千種区内山3-10-18 PPビル3F 仙 台 営 業 所 技 術 開 発 セ ン ター : TEL (022)218-0560 FAX (022)218-0561 〒981-3133 仙台市泉区泉中央1-28-22 プレジデントシティビル3F テ ク ノ ロ ジ ー ラ ボ : 〒135-0064 東京都江東区青海2-4-10 東京都立産業技術研究センター 製品開発支援ラボ318　 慶應義塾大学-メイワフォーシス ナ ノ 粒 子 計 測 技 術 ラ ボ : 〒223-8522 神奈川県横浜市港北区日吉3-14-1 慶應義塾大学 矢上キャンパス理工学部中央試験所 36棟213号室 ※テクノロジーラボ、ナノ粒子計測技術ラボへの連絡は本社までお願いいたします。※外見・仕様・その他について、予告なしに変更をする場合がございます。

ユーザーフレンドリーな Autoモード Manualモード 制御パネル 直感で操作のできる制御パネルを搭載し、初めてご使用いただく場合でも 簡単に操作することが可能です。 希望膜厚を入力するだけで操作完了します。 コーティング条件をマニュアル制御できます。 真空引き、コーティング、自動排気シーケ ガス導入タイミング、コーティング時間、 ンスまで自動動作で完了します。 電流値を設定可能です。 使用履歴 Help画面 ホーム画面の6項目から、目的の操作を選択できます。 ユーザーフレンドリーなインターフェースにより次の操作をガイドします。 使用者がいつどのような条件でコーティン 連絡先、Q＆A、Pass 設定、日付設定、 グを実施したか閲覧できます。 緊急操作が使用可能です。 昇華筒着脱モード Finishモード また、昇華筒の脱着タイミングも併せて カウントし、昇華筒の交換履歴の確認も 昇華筒 可能です。 T e n n a n t 2 0 電 力 制 御 概 要 Tennant20ではコーティング電流を入力設定した値に保つために フィードバック制御を行っています。 コーティング時の電流は1/10000秒毎に測定して32ビットマイク Os アンプルが封入されている昇華筒の 装置使用後の真空封止作業です。 ロプロセッサにて解析しています。 PID制御を基本にした独自のアルゴリズムにて、入力設定された電 着脱操作モードです。 チャンバー内を真空引き状態で保管管理 流値に近づくようにコーティング電力を計算して放電回路の出力 アンプル交換作業も対話式操作で誰でも します。 を調整しています。 これにより放電開始時の突入電流は制御により安定し、再現性の 簡単に交換作業が可能です。 高い成膜処理が可能となりました。 3 4

チャージアップのない プラズマCVD方式を採用で 極薄膜を形成 純粋なオスミウム金属導電被膜を形成 オスミウム導電被膜は、試料上面、側面、下面、さらに複雑構造の奥深くにも均一に回り込むことができます。 プラズマCVD方式は、真空チャンバー内に四酸化オスミウム昇華ガスを導入し、直流グロー放電によりプラズマ化させます。 このため、極薄膜でもチャージアップすることなく電子線ダメージに負けない強固な導電被膜が形成されます。 この時、チャンバー内は「陽光柱領域」と「負グロー相領域」と呼ばれる領域に分かれます。 Os Au + 陽極暗部 グロー放電によるプラズマの状態 コーティング状態の比較 陽極グロー相 オスミウムは原子番号 76、白金族元素の一つです。 陽光柱領域（酸化オスミウム被膜） 発熱の無いコーティング方法なので、試料にダメージを与えること 陽光柱領域でのコーティングは、残存ガスや不安定なオスミウムイオンが混在する領域のため、電子線ダメー なくコーティングが可能となりました。 ジに弱く破壊されやすい酸化オスミウム被膜が形成されます。 オスミウムコート スパッターコート ファラディ暗部 負グロー相領域（純粋なオスミウム被膜） アセテート繊維 陰極上の負グロー相領域では、オスミウム陽イオン化ガス分子が濃縮し、激しく衝突し合い、純粋なオスミウム金 属導電被膜が形成されます。これにより極薄膜でも強い電子線ダメージに破壊されない強固なアモルファス導電被 膜を形成することができます。 陰極暗部 陰極グロー相 金スパッターコートでは、回り込みが悪くチャー - ジアップしており、表面の質感も金属のように なっています。 オスミウムコートでは表面の質感を損なわず良 SiCホイール 好な観察ができ、低倍率観察でも表層膜状態の オスミウムコート　観察倍率：500倍 金スパッターコート　観察倍率：500倍 違いは一目瞭然です。 SiCホイール 負グロー相　観察倍率：5,000 倍 陽光柱　観察倍率：5,000 倍 負グロー相内でコーティングした方が細部までチャージアップなく観察が行えているのに対し、陽光柱内でコー ティングすると、酸化Os 被膜が成膜されていることで、電子線ダメージに弱い膜となり、チャージアップして いるのが分かります。 アセテート繊維 オスミウムコート　観察倍率：50,000 倍 金スパッターコート　観察倍率：50,000 倍 白金スパッターコート　観察倍率：50,000 倍 負グロー相　観察倍率：1,000 倍 陽光柱　観察倍率：1,000 倍 負グロー相でコーティングが行えるOs コーティングなら、ドリフトやチャージアップしやすいフィルターもク オスミウムコート　観察倍率：100,000 倍 金スパッターコート　観察倍率：100,000 倍 白金スパッターコート　観察倍率：100,000 倍 リアな画像が得られます。 5 6

純粋なオスミウム金属導電被膜を形成する 「負グロー相領域」を拡大 …陽光柱領域（酸化オスミウム被膜） Si 基板にコーティングした 10nmの Os 被膜を、XPS で X線光電子分光分析を行いました。 Os被膜の最表面は酸化Osとして検出されますが、酸化層の下には純粋な金属Osのピークが確認できます。 …負グロー相領域（純粋なオスミウム被膜） 純粋なオスミウム これは、コーティング直後は酸化していない純粋なOs 被膜が形成されますが、Os は金属であるため最表 被膜の成膜 面に自然酸化膜が形成されていることを示しています。 Tennant20、Neoc独自電極 従来型電極 Tennant20、Neocでは高さ 20mmの負グロー相領域内でコンタミなく純粋なOsコーティングが可能です。 ※最表面層ではOの他にC、Nなど微量検出されておりますが、Os金属膜にその他元素の検出はありません。 テフロン + + XPS オスミウムピーク XPS Depth Profile 試料台 試料台 試料台 試料台 試料台 試料台 オスミウム金属ピーク 酸化オスミウムピーク（最表面） - テフロン - 高さ20㎜で均一 高さ5㎜で不均一 負グロー相領域の 一般的な平行平板電極では負グロー相領域の高さは 5㎜と浅く、これを超える高さの試料では陽光柱領 域での酸化オスミウム被膜が形成されてしまいます。 高さ比較 Tennant20、Neoc は負グロー相の高さは 20 ㎜と格段に拡大されました。 測定装置 ：X線光電子分光分析装置 QUANTERA Ⅱ（アルバックファイ製） 全面に 一部分 X 線源 ：AlKa 均一 で不均一 Pass energy ：140eV 測定範囲 ：Cls、Nls、Ols、Fls、Al2p、Si2p、Fe2p、Os4f 上部から見た 一般的な平行平板電極ではコーティング膜厚は中央部とエッジ部が厚く、中央リング状に薄いといった不均一な スパッタリング ：0.2min ごとに計 40 回（8min） 膜厚が形成されてしまいます。Tennant20、Neocは電極の周りを絶縁のテフロンで覆っているため、放電が スパッタ源 ：Ar+ イオン（4kV で 2×2mmの照射領域） 負グロー相領域の比較 エッジ部分に集中することなく、試料ステージほぼ全域で負グロー相を均一に形成することができます。 Os 蒸着装置 ：Neoc-Pro/P ネオオスミウムコータ 7 8

SEM, EDX, AES, XPS, EBSD前処理に 簡単操作で再現性高く膜厚制御 蒸着時間/膜厚データ エネルギー分散型X線分光分析 Os膜 1/100 秒のタイマー制御で 1nm 以下程度の極薄膜から厚膜 Neocでスライドガラスにコーティングした1nm以下のOs被膜 オスミウム金属元素検出なし まで成膜。オスミウム導電被膜の成膜量は放電時間におおよ を、EDSでエネルギー分散型X線分光分析を行いました。 そ比例しますので、簡単にナノレベルの膜厚制御ができます。 金スパッターコーティングと白金スパッターコーティングで 1nm 以下の極薄膜を再現性高く制御・成膜できるため、SEM は、金、白金の元素が検出されていますが、Neocは1nm以下 蒸着時間 ( 秒 ) 観察の前処理だけでなく、絶縁物の元素分析、極表面解析の帯 の極薄膜が成膜できるため、グラフのようにOs元素は検出さ 電防止膜として多くのコート実績があります。 ※弊社FS-1 マルチスペクトルエリプソメーターにて測定 れず、EDS分析に影響を与えずデータが取得できることが分か Os ります。 Os ▼ プラスチック小片にコーティング後、TEMで厚さを測定 5sec 10sec 20sec Au膜 樹脂 Os 被膜 プラスチック板 Au 元素検出あり 資料御提供：日本電子株式会社 様 Au 炭素や窒素など軽元素の E D S定量分析を実現 オスミウムコート スパッターコート 観察倍率：5,000 倍 電 電 検 出 器 子 検 出 器 Pt膜 子 線 オスミウム膜 線 測定装置：SU3500 走査電子顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ製） スパッター膜 EDS分析(エネルギー分散型X線分析)時の帯電防止膜として試料 1～5nm 数10～150nm 測定範囲：S1、K、Ca、O、Ba、Na、Zn、Au、Pt 特性X線 全面をコートするには膜厚が数10nm以上必要でしたが、特性 特性X線 Pt 元素検出あり X線が帯電防止膜に吸収されるため、補正なしには定量分析が Os 蒸着装置：Neoc-Pro ネオオスミウムコータ できませんでした。 試　料 試　料 Tennant20、Neocでは数nmで試料表面全体に均一なオスミウ 特性X線吸収：極小 特性X線吸収：大 ム膜を形成させることができ、特性X線の吸収が極めて小さい 関連文献： "EDS quantification of light elements using osmium surface coating" ため、分析結果に影響を及ぼすことがなく定量分析できます。 Journal of Mineralogical and Petrological Sciences, Volume 110, page 189-195,2015 特に炭素や窒素等の軽元素のEDS定量分析には最適です。 愛媛大学 地球深部ダイナミクス研究センター 大藤 弘明 様、山本 昌志 様 Pt 9 10 膜厚 (nm)

帯電防止膜処理に FE-EPMAの前処理(車室内ダストの分析・観察) オージェ電子分光法の帯電防止膜に FE-EPMAによるリン定量分析結果 SEI・BEIのカラーマッピング リンの定量分析まで行えています。 複数の元素の分析が行えており、FE-EPMAの前処理と しても有用性があることが分かります。 オージェ電子分光分析（AES）では極表面部（表面から5nm程 度までの極浅い領域）の分析を行うため、ナノレベルでの膜 厚制御ができるNeocのコーティング技術が有効です。 右図では、分析試料SiO2の帯電防止のためオスミウム（Os） 膜を2nm成膜した結果、基材のSiのオージェ電子が帯電防止膜 の影響なく良好に検出できています。絶縁物でもチャージ アップせずに元素分析を行うことができます。 解析データ御提供：矢崎総業株式会社 様 ＜蒸着条件＞試料台にカーボンテープなどでダストを固定 各固定方法における二次電子像の比較 真空度 ：0.5~1Pa 電流値 ：約 10mA 蒸着時間 ：20~25 秒 膜厚 ：おおよそ 10~12.5nm オスミウムコートによる EB S D帯電防止膜処理 凹凸のある試料でも良好な観察結果が得られています。 観察倍率：3,000 倍 アルミナ（50×70×4mm t 程度） ◆ユーザー様のコメント 「車室内のダストを介した汚染物質の曝露が危険視されています。ダストに含まれる汚染物質には、有機物質だけでなく無機物質も含まれてい ◆ユーザー様のコメント るため、それらの測定には、有機・無機物質ごとに煩雑な前処理、そして別々の分析機器が必要になります。ダストの汚染の実態を把握するために、 「非導電性材料のEBSDにおいては表面の導電性を保ちつつ、表 より簡便な測定法の開発が望まれています。測定法を開発すべく、横浜国立大学環境情報学益永研究室では電界放出型電子プローブマイクロア 面近傍の結晶から放出される反射電子線を阻害せず、且つ、電 ナライザ（FE-EPMA）を用いて、車室内ダストに含まれる汚染物質の指標となる元素の元素分析を行いました。（環境科学会誌 30[1] 34‒43, 2017）。 子線に対して安定した表面コーティングが求められています。 その際の前処理にNeoc-STB が使用されております。 NeocでのOsコートは、簡単に薄くて強い導電膜を成膜すること FE-EPMA は、電子線を試料表面に照射することで放出される特性 X線を検出し、元素・定量分析が行える分析装置です。有機・無機汚染物質を ができ、非常に綺麗な菊池線を得ることができました。 同時に検出することができ、また局所領域の分析が可能なことから、ダストのような微小な対象に対しても有効です。 」 また、細孔があっても回り込みの良さがあるため、帯電するこ とがなく観察する事ができました。」 逆極点図マップ ImageQuality マップ 資料御提供： 横浜国立大学大学院 環境情報研究院 　教授 益永茂樹 様 11 12

観察・測定事例 FIB加工前処理に保護膜としてオスミウム金属膜を使用しています。 オスミウム金属膜は薄膜であっても導電効率が高く熱を逃がしやすいため、試料表面をFIB加工ダメージ FIB加工処理 から守る保護膜として機能します。また、オスミウム金属膜は次亜塩素酸で容易に剥離することが出来 るためFIB加工、分析後に膜を剥離し、別の分析に試料を用いることも可能です。 メタマテリアル作製用の型 作製例 SIM像 材料は単結晶ダイヤモンドで、C型の周り全てをFIBで削っています。 オスミウムコート　 観察倍率：20,000 倍 スパッターコート　 観察倍率：20,000 倍 熱・電子線 白金コーティングでの試料はビーズ表面に大きな電子線損傷が生じています。 ポリマービーズ 一方のオスミウムコーティングは薄膜であってもダメージ、チャージアップ 資料御提供：東京工業大学 工学院 機械系 　教授 吉野 雅彦 様 ダメージなし の無い、クリアな像が得られます。 資料御提供：台湾工業技術研究院（ITRI） 厚さ4μmのガラスにFIBで孔を空けたナノポアのSIM像 φ180nm φ380nm φ510nm φ770nm φ1000nm 資料御提供：東京工業大学 工学院 機械系 　准教授 山本 貴富喜 様 AFMカンチレバー先端の耐久性アップ オスミウムコート　 観察倍率：100,000 倍 スパッターコート　 観察倍率：100,000 倍 SPM・AFMのカンチレバー先端には計算上、非常に高い電界がかかります。 10万倍観察像では、表面に大きな差がみられます。白金コーティングでは白金粒子 そのため金コート等のカンチレバーの場合は、数回の測定でレバー先端に大きなダメージを 高倍率観察でも が堆積しており、本来の表面構造が確認できません。 受け、使用不可能となります。オスミウムコートしたカンチレバーは、耐久性が数段にも増 ポリマーフィルム オスミウムコーティングは高倍率観察においても粒状性なく、リアルな表面構造が し、高価なカンチレバーを有効に再利用できます。 粒状性なし 得られます。また、低印加電流で有機系試料においても熱ダメージはありません。 資料御提供：国立研究開発法人 産業技術総合研究所 中村 徹 様 資料御提供：台湾工業技術研究院（ITRI） 13 14

観察・測定事例 脆いサンプルも 生体や繊維試料も オスミウムコート20秒 金コート3分 破壊せずに観察 熱ダメージゼロ アミノ酸凍結乾燥ケーキ ラット心臓血管鋳型 オスミウムコート▶ サンプルの舞い上がりやすくダメー スパッターコータで金蒸着する際、 ジも受けやすい複雑な凍結乾燥ケー 充分なコーティング時間は約3分必 キのマトリックス構造体においても、 要なため、熱の影響を受けて切れや 加速電圧：5kV 観察倍率：300 倍 加速電圧：5kV 観察倍率：300 倍 構造が破壊されることなく、試料本 縮れが発生してしまいます。 来の構造をきれいに観察することが さらに、試料表面には必要以上の厚 できます。 加速電圧：5kV 観察倍率：600 倍 膜がコートされ、表面が盛り上がっ てしまい、本来の表面構造を確認す ることが不可能です。 スパッターコート▶ Neocでのコーティング時間は20秒 と、極めて短時間で、チャージアッ 白金によるスパッターコートでは、 プ・熱ダメージのない極薄膜が形成 凍結乾燥ケーキの網目構造がクリア されるため、リアルな表面構造を観 に観察できないだけでなく、陰の部 察することができます。 分や奥行が分かりにくく、スパッ ター粒子の重みでマトリックス構造 が潰れたり、断片化する等の問題点 資料御提供： がありました。 岡山大学 大学院 医歯薬学総合研究科 人体構成学教室 加速電圧：5kV 観察倍率：6,000 倍 加速電圧：5kV 観察倍率：6,000 倍 資料御提供： 東京理科大学 薬学部 製剤学教室 教授 山下親正 様 電流値 コーティング時間 Neoc 5 ～ 10ｍA 5 ～ 20 秒 加速電圧：5kV 観察倍率：600 倍 スパッターコータ 30 ～ 50ｍA 30 ～ 180 秒 15 16

観察・測定事例 回り込み良く コーティング 星の砂 星の砂は主に石灰質で出来ているた め、表面は多孔質になっています。 スパッター処理では高倍率観察時の 表面の凹凸が埋まってしまうため、 観察倍率：950 倍 観察倍率：10,000 倍 微細な構造観察は不可能です。 10,000倍の写真は950倍画像の表面の 観察倍率：30,000 倍 観察倍率：150,000 倍 穴のさらに奥を観察したものです。 資料御提供：日本電子株式会社 様 ファイバーの セルロース ナノ繊維の奥までしっかりコーティングされ、難しいといわれていたナノレ ベルの細い繊維が切れずに観察できるようになりました。 深層部観察 ナノ繊維 オスミウムコート（5nm） 白金コート（6nm） 資料御提供：国立研究開発法人 産業技術総合研究所 バイオマス研究センター 李 承桓 様 重なった試料でも チャージアップなし ポリスチレン粒子 白金コーティングでは重なる部分を 中心にチャージアップが発生してい るため、2,000倍以上の拡大ができ ないのに対し、オスミウムコーティ 加速電圧：5kV 観察倍率：400倍 加速電圧：5kV 観察倍率：400倍 ングでは、5,000倍でも生成時に発 生したへこみや細かい形状の観察が できています。 また、オスミウムコーティングでは 重なった部分でもチャージアップせ ず、全体像を観察することができコ オスミウムコート 観察倍率：150,000 倍 スパッターコート 観察倍率：90,000 倍 ントラストも良好です。 金スパッターではコートした金粒子が観察され、シリカナノ粒子と判別する事 資料御提供： 粒子を判別して が困難でしたが、オスミウムコートではチャージアップする事がなく、15万倍 豊橋技術科学大学 シリカナノ粒子 の高倍率でも粒状性がないきれいなSEM観察をすることが可能となりました。 材料エレクトロニクス分野 粒状性なし 武藤 浩行 様 加速電圧：5kV 観察倍率：5,000倍 加速電圧：5kV 観察倍率：2,000倍 資料御提供：名古屋大学 大学院 工学研究科 先端物理化学講座 　川口 大輔 様 17 18

観察・測定事例 凸凹の試料も チタン表面処理後 粒状性なく観察 SEM前処理に 石炭灰 インプラント体チタン セメント内部に含まれている石炭灰 歯科臨床で用いられているインプラント体のほとんどがチタン製 です。非常に凸凹の激しい試料も、 です。その表面は、機械研磨面にサンドブラスト、酸エッチング、ハイ チャージアップがありません。 観察倍率：10,000 倍 観察倍率：150,000 倍 ドロキシアパタイトコーティングなどの処理が施されています。 15万倍の高倍観察においても、粒状 表面処理をすることで、インプラント体と周囲骨との接触面積が増 性なくきれいな表面構造が観察でき 加します。細胞レベルでは、チタン表面の微細構造や化学組成など ます。 が変化することで、骨形成に関与する細胞の接着や増殖が促される ことが報告されています。 観察倍率：500 倍 日本歯科大学では、チタンの表面処理後のSEM観察の前処理とし 資料御提供：日本歯科大学生命歯学部 准教授 松野智宣 様 て、Neocが使用されています。 補強膜効果で 無蒸着 Auコート 右図はH2O2水熱酸化処理とFGF-2により機能化されたチタン表面の 高分解能な観察 細胞播種24時間後のSEM像です。細胞がはやした仮足もちぎれる ことなく、細胞接着の様子が確認できます。 カーボンナノチューブ 形状が不安定なカーボンナノチュー ブでも、SEM観察可能な CNT をオス 低 倍 率 画 像 を ミウムコーティングすることで補強 よりシャープに 膜効果も得られ、高分解能な観察が 観察倍率：20,000 倍 観察倍率：20,000 倍 可能になりました。 オスミウムコート オスミウムコート セファロース また、CNT を無蒸着で SEM観察する と、観察中に CNT が飛んで SEM検出 器のコンタミの原因になりますが、 ポリマービーズの一種で、生物試料、 オスミウムコーティングでコンタミ 主にタンパクや微生物などの吸着に を防止する効果も得られます。 使用され、表面は細かな多孔質です。 チャージアップ・ドリフトの防止、 SEM 検出器コンタミ防止と複数の効 観察倍率：2,500 倍 観察倍率：50,000 倍 低倍観察での全体像をより鮮明に、 果を得ることができます。 さらに高倍観察においても細部まで 資料御提供： チャージアップのないクリアな画像 名城大学理工学部 材料機能工学科 を得られています。 安藤研究室 　鈴木 智子 様 観察倍率：20,000 倍 観察倍率：40,000 倍 19 20

観察・測定事例 植物試料でも 試 料 の 細 部 を ダメージなく観察 鮮 明 に観 察 つつじの花粉 アリ ノンコートと比較すると、オスミウ 体表面の構造や輪郭、触角の毛の質 ムコート画像は輪郭がとらえやすく 感まで微細に観察ができます。 ぼやけることなく表面凹凸構造も鮮 観察倍率：43 倍 観察倍率：330 倍 明に確認できます。 観察倍率：1,700 倍 観察倍率：1,700 倍 熱ダメージもないためツツジの花粉 の特徴である粘着糸を、繊維構造を 破壊することなく観察可能です。 つつじの葉の気孔 ローズマリーの葉 オスミウムコート ツツジの葉裏面を観察すると、無蒸 着では 800 倍でチャージアップして いるのに対し、オスミウムコートを オスミウムコートをした方が、葉の した方は 1300 倍に上げても葉の気 表面構造や内側の綿毛状組織の奥行 孔がクリアに観察可能です。 がよりクリアに確認できます。 観察倍率：1,300 倍 観察倍率：1,300 倍 観察倍率：100 倍 観察倍率：600 倍 ノンコート つつじの葉の毛状突起 ツツジの葉を観察すると、無蒸着で は低倍率でも像がぼやけているのに 対し、オスミウムコートをした方は 毛状突起の形態まで良好な観察が可 能です。 観察倍率：33 倍 観察倍率：33 倍 観察倍率：100 倍 観察倍率：600 倍 21 22

観察・測定事例 繊 維 構 造 を 300倍 5,000倍 破 壊 なく観 察 キムワイプ キムタオル キムワイプ キムタオル 身近な繊維材料 繊維質材料の低倍率観察を行いまし た。 パルプ繊維製のキムワイプ、キムタ オル、マルチコピー用紙と、化学繊 維製の BEMCOT クリーンワイプ、 M-1、ウェットティッシュでは素材 の違いにより、繊維の微細構造が異 なることがわかります。 BEMCOT　クリーンワイプ BEMCOT　M-1 BEMCOT　クリーンワイプ BEMCOT　M-1 素材が同じもの同士でも、キムワイプ キムタオル間で織り方の立体度合いが 異なり、BEMCOT クリーンワイプ 、 M-1間では繊維の絡まり方が異なり ます。 ウェットティッシュは含水させるた めに溝を有する繊維が一部に織り込 まれていることや、コピー用紙は填 料のカルシウム、ケイ素粉がそれぞ れ観察できます。 卓上 SEM のオートフォーカスのみ ウェットティッシュ マルチコピー用紙　 ウェットティッシュ マルチコピー用紙　 で観察、5,000倍の観察も容易に可 能です。 23 24

様々なオプションと安全対策 有害物質のオスミウムガスを2段階還元・吸着し 99％以上浄化 オスミウムガス専用フィルタ ーの浄化性能 「一体型 」 有害ガス浄化システム TG-OGPS-D オスミウムコータ専用 排気浄化システム Os ガス 99％浄化 二次浄化 気流の流れ Os ガス専用のフィルタ ーは物理吸着で有害ガスを除去し ● ダクトレス、2段階フィルターを採用 ていた既存の方式とは異なり、 還元作用を行う特殊な素材 キャスター付きで容易に移動・設置可能 が適用されています。Os ガスを有害でない物質へ変換し変 ● 陰圧構造の気流形成が有害物質の外部流出を完全に遮断し安全性を確保 換された物質も物理的に吸着し完璧に浄化します。 ● 特化したデザインにより効率性と安全性を確保 ● 真空ポンプと繋がったフィルターの 1段階浄化後、 陰圧構造の 　上部と右側のブロアーを用い、希釈と 2段階浄化 気流形成 ● 狭小な空間でも使用できるコンパクト設計（ハーフ型） 「ハーフ型」 有害ガス浄化システム 一次浄化 ● フィルタ交換周期をアラーム通知 TG-OGPS-H ● 5段階の風速調節が可能 気流の流れ ● 視野確保のため、内部ランプ採用（ 一体型） 陰圧構造の 気流形成 陰圧構造の 気流形成 機器の前後に陰圧構造の気流形成で 間のない構造 LED コントローラー オスミウムガス専用フィルター 5段階の風速調節 2段階の還元・吸着方式で、 フィルター交換アラームと表示 有害物質を 99%以上浄化 予約時間設定 on/off 機能（ハーフ型） LAMP on/off 操作が可能（一体型） ポリカーボネート窓（一体型） NEW NEW 観察が便利な透明ポリカーボネート TG-OGPS-H 窓により最適の視野確保が可能　 TG-OGPS-D 前面に作業口を適用し、 気流の流れを確保 型 式 TG-OGPS-H（ハーフ型） TG-OGPS-D（一体型） 材 質 SPC 1.2T : White powder Coating/アルミニュームプロファイルフレーム 後方陰圧構造の気流形成 有害物質流出を防ぐ陰圧構造の気流 容量 88L 185L 制御部 タッチ式調節器 連結ポート NW25（真空タイプ） キャスター 装置の移動と固定が便利な 電 源 110 VAC, 50/60 Hz キャスターを採用 本体外形寸法 800（W）×300（D）×582（H）mm 700（W）×610（D）×1760（H）mm 25 26

様々なオプションと安全対策 オスミウムガス用 電源OFF時 専用電磁弁搭載 真空保持機能 昇華筒とチャンバーの間には専用 2 オスミウム使用後のチャンバーを 方電磁弁が実装されています。 大気暴露させず真空状態にしてか 電源遮断時にはクローズされるため ら装置停止させることが可能です。 OFF 非常時でもガスの漏洩を防ぐ安全な 設計となっています。 お客様のニーズに合わせた 昇華筒ラインナップ どなたでも使いやすいメタル仕様昇華筒と、 Te n n a n t 2 0 万が一の落下時でもアンプルの状況を目視で 仕様詳細 機能仕様 きるダブルガラス安全仕様昇華筒ご用意して 自動排気 チャンバー内ガスの大気置換（真空引30秒/ポンプ停止10秒×3回） おります。 電流値設定 0.1～20.0mA（制限電流は最大30mA） 仕様 膜厚設定 0.0～30.0nm オスミウムアンプルは和光純薬工業（株）製 のアンプルを当社製品の適正品としており チャンバー寸法 φ150×70㎜ Auto 膜厚値入力後、自動運転真空引：～2Pa　ガス充填：10秒 ます。 アンプルの容量は回数やガスの発散量 ダブルガラス オスミウムアンプル 試料台　装填可能数 φ10㎜×35個、φ15㎜×10個、φ30㎜×5個 Manual COAT時間、電流値、ガス充填時間を任意設定 特性から、500 ㎎、1000 ㎎ (1g) 容量が安定し 2 重密閉安全仕様 メタル仕様 500 ㎎ 1000 ㎎ (1g) ベルジャ 高気密Oリング式 EJECT 強制排気　　：180秒 て活用できます。 ポンプ容量 50ℓ/min INSERT 強制排気　　：～2Pa 消費電流 AC100V 最大10A（真空ポンプ起動含む） Finish 強制排気　　：～2Pa 強制排気　　：～2Pa　+　30分 アンプル交換時期を 本体寸法 390（W）×385（D）×435（H）㎜ アンプル交換 自動でお知らせ オスミウムアンプルの交換タイミングは操作 Te n n a n t 2 0 / パネルで表示をいたします。 アンプル交換作業もインターフェースの操作 Neo cシリーズ フローに沿って、どなたでもスムーズに実施が ラインナップ 可能となります。 パスコード機 能で 使 用 者 を制 限 型　式 NE　W　Tennant20 Neoc-Pro/P Neoc-STB Neoc-ST パスコードによる使用者管理機能を搭載。 チャンバー寸法 φ150×70mm 権限を持つユーザーのみが操作可能なセキュリ ティ機能と管理機能を追加。 試料台　装填可能個数 φ10mm×35個、φ15mm×10個、φ30mm×5個 パスコードを入力することで、操作履歴が自動 タッチスクリーン 〇 × メモリーされます。使用状況を別途メモ記載す ることなく一括閲覧が可能となります。 電源OFF時真空保持機能 〇 × 昇華筒開閉検知 〇 × 自動排気シーケンス 〇 × 自動排気シーケンスで バッフルバルブ × 〇 × 置換作業のし忘れを防止 リーク10秒×3回 真空引き30秒×3回 （大気を導入） 真空ポンプ容量 50L/min （残存Osガスを排気） 消費電流 AC 100V　最大10A（真空ポンプの起動含む） コーティング終了後、チャンバー内のOs残 存ガスを大気に自動置換する排気シーケン 専用電磁弁 最大消費電力 780W 600W スを組み込むことにより、コーティング後 ( クローズポジション ) 重量 22kg 16kg の置換作業のし忘れを防止。安全に試料の 真空ポンプ Osガスの流れ 取出しが出来ます。 本体外径寸法 39（0 W）×38（5 D）×43（5 H）mm 340（W）×280（D）×400（H）mm 27 28

サービス＆ソリューション オスミウムアンプル交換サービス テクノロジーラボでの製品開発・評価 本サービスはアンプル交換作業をユーザー様にかわり、メイワフォーシスが実施するものとなります。 2018年8月1日、弊社製品開発チームは東京都立産業技術研究センターの製品開発支援ラボに入居をいたしました。 Tennant20、Neocは通常のご使用において、非常に安全性に優れたシステムとなっておりますが、唯一お客様のお手を煩わせてしまう作業がOsアン 私たちはここを「テクノロジーラボ」と命名し新しいチャレンジを開始いたしました。 プル交換です。 新製品の研究開発や品質保証となるデータの取得や、お客様立会いで装置を評価してもらえるラボとして活動をしております。 この作業をメイワフォーシスにお任せ頂く事によりユーザー様はアンプル交換作業が不要となり、より簡単・安全に装置の運用が可能となります。 交換不要 廃棄処分不要 保管・管理不要 製品開発・評価 受託測定 製品デモ・サンプル測定 お手を煩わせるオスミウム交換作業を オスミウムアンプル交換時に発生する ユーザー様でのオスミウムアンプルの 新規製品開発及び、既存製品改 お預かりしたサンプルを測定・ 立会デモ・サンプル測定を ユーザー様は実施不要 廃アンプルが発生しない ストック、管理が不要 良のための技術開発、品質保証 解析し結果をレポート致します。 承っております。 処理後の最終評 データの取得を行っております。 価（SEM, EDS / CP 等）も可能です。 最適な設置室環境 ロータリーポンプオイル、フィルター、廃アンプルの回収 Tennant20、Neoc使用時に発生するR/Pオイル、各種フィルター、Osアンプルにつきましては保守作業時にメイワフォーシスが回収処分いたします。 新型電極や新型バルブへのアップグレード 電極側面をラウンド加工し、さらに電極周囲を絶縁のテフロンで覆っているため、電極ほぼ全面均一安定照射を実現しました。 装置取扱いに不慣れな方でも、簡単に膜厚の制御ができます。また、均一に照射できる面積が格段に広がったため、従来の電極では処理が困難であった、 大型基板の全面均一処理や複数個のサンプルの同時処理が可能になりました。 29 30