R＆D用スキャン式エキシマ照射装置レンタル
ASM86 Excimer
100V電源ユーティリティだけでエキシマ洗浄表面改質の実験検証が可能です。
172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで、簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。
【特徴】
スキャン用ステージにより従来より大面積の処理が可能。
オゾン分解装置一体型で、排気設備などが不要。
発光波長 172nm
処理対象物 W86mm×D120mm以下、厚み40mm以下
照射距離調整 調整用ラボジャッキ付（照射距離0～40mmまで可変）
外形寸法 本体：（Ｗ）432mm×（D）510mm×（Ｈ）520.5mm
概算重量 約25kg （本体 20kg、照射ユニット 4.8kg）
本体材質 SUS304/A5052P/SPCC
照射ユニット
ランプメーカー 浜松ホトニクス株式会社製
型式 FLAT EXCIMER EX-86U L13129
照射面サイズ 86mm×40mm
エキシマ有効照射距離 5mm以内推奨
冷却方式 強制空冷
処理速度 0.1mm/sec～120mm/sec
処理可動範囲 240mm
タッチパネル 4インチ モノクロタッチパネル
レシピ数 20レシピ（処理速度、照射時間設定可能）
モニタ機能 現在速度・現在位置・残り時間 表示機能付き
排オゾン設備 オゾン触媒内蔵（ファン強制排気）
ユーティリティ AC100V 50/60Hz 400VA
| 主な用途 | ガラス表面の有機系皮膜の除去 ガラスとITOの密着性向上 ITOと絶縁膜との密着強度向上 各種塗布膜の親水化 パッケージの前処理 ウェハ表面の有機系皮膜の除去 金鍍金表面の有機系皮膜の除去、親水化 レジストのＵＶアッシング レンズ表面の有機系皮膜の除去 樹脂レンズ表面の親水化 金属系蒸着膜との密着性向上 コーティング、貼合せ各前処理 メッキ加工の前処理 レジスト膜表面の有機物除去 はんだとの密着性向上 ナノインプリント用モジュールの洗浄 セラミック部品蒸着前処理 セラミック部品密着性向上 塗装と樹脂基材との密着性向上 蒸着膜と樹脂基材との密着性向上 接着剤と樹脂基材との接着性向上 布と樹脂基材との接着性向上 |
|---|---|
| URL | http://www.uv-asumi.com/products/uv-senjyou-product/excimer-asm86 |
企業情報
株式会社あすみ技研
〒 113-0033
東京都文京区本郷三丁目14-16 3F