CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...
MiniLab-CF, MiniLab-MF
小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。
◆モデル◆ ・MiniLab-CF(カーボン炉:真空・不活性ガス中 Max2900℃) ・MiniLab-MF(メタル炉:真空・還元雰囲気 Max2600℃) ◆最高温度◆ ・MiniLab-CF-M/L-HT(Max2200℃) ...
MiniLab-WCF, -WMF
φ2〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクト・簡単操作 2200℃まで均一なアニール処理...
安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用R&D用超高温実験炉。 ◆主な特徴◆ ・習熟度を問わずどなたでも簡単に操作できます。 ・自動シーケンス操作:試料設置後、煩...
MiniLab-026, -060, -080, -090, -125
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様...
MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより...
MiniLab-026, -060, -080, -090, -125
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様...
MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより...
nanoPVD-S10A
最高性能 優れた膜質 コストパフォーマンスに優れたR&D用卓上型マグネトロンスパッタリ...
◉ nanoPVDは、最大1000layer, 50filmのレシピを作成する事が可能。 ユーザの作成したフィルムレイヤーごとのプログラム(真空引/ベント、成膜時間、RF/DC電力・時間、MFC流量、...
nanoCVD-8G(グラフェン用), nanoCVD-8N(Single wallナノチューブ用)
大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 1バッチわず...
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機 ◆特徴◆ ・簡...
nanoCVD-8G(グラフェン用), nanoCVD-8N(Single wallナノチューブ用)
大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 1バッチわず...
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機 ◆特徴◆ ・簡...
Ex-21, Ex-151, Ex-301, Ex-CF
TIIS検定取得 本質安全防爆型放射温度センサー 危険場所(Zone0, 1, & 2)で使用可能
ExTempは、石油化学プラント・医薬品工場・薬品工場などの危険物取扱設備や工場で使用することができる本質安全防爆構造の放射温度センサーです。 (TIIS型式検定合格番号:第2...
FM2.2-251, FM2.2-751
測定範囲250℃〜2000℃ センサ耐熱200℃ タッチパネル/データロガーで簡単設定
● センサ内部に電子機器や導電性部品を持たないファイバー方式の為、電磁界の影響を受けません。 ● 短波長2.0〜2.6um 低放射率の金属表面温度測定などにも最適。 ● 高周波やマ...
PN-151, PN-151-K
スマートホン、タブレットで設定 表示計器、電源を必要とせず簡単に設定できます。
● スマホ・タブレットを使い設定を行う事ができます。 ● 専用アプリをGoogle Playから無料ダウンロード(Android4.1〜5.1) ● AndroidのNFC通信を使い、センサ部にタッチする...
CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...
MiniLab-M307
ローコスト・ハイスペック。高品質蒸着膜を低価格装置で実現
主仕様】 ・ベルジャー:ガラスもしくは SUS304 Φ304 x 350H mm ベースプレート着脱式 ・Tallベルジャー(オプション):Φ304 x 500(H)mm ・ポンプ:ターボ分子ポンプ 250ℓ/s...
MiniLab-026, -060, -080, -090, -125
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様...
MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより...
MiniLab-026, -060, -080, -090, -125
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様...
MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより...
MiniLab-026, -060, -080, -090, -125
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様...
MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより...
MiniLab-026, -060, -080, -090, -125
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様...
MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより...
MiniLab-CF, MiniLab-MF
小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。
◆モデル◆ ・MiniLab-CF(カーボン炉:真空・不活性ガス中 Max2900℃) ・MiniLab-MF(メタル炉:真空・還元雰囲気 Max2600℃) ◆最高温度◆ ・MiniLab-CF-M/L-HT(Max2200℃) ...
MiniLab-CF, MiniLab-MF
小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。
◆モデル◆ ・MiniLab-CF(カーボン炉:真空・不活性ガス中 Max2900℃) ・MiniLab-MF(メタル炉:真空・還元雰囲気 Max2600℃) ◆最高温度◆ ・MiniLab-CF-M/L-HT(Max2200℃) ...
CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...
CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'Al...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式):ウエハー搬送・受渡用 ◉ 基板回転機...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'Al...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式):ウエハー搬送・受渡用 ◉ 基板回転機...
nanoPVD-S10A
最高性能 優れた膜質 コストパフォーマンスに優れたR&D用卓上型マグネトロンスパッタリ...
◉ nanoPVDは、最大1000layer, 50filmのレシピを作成する事が可能。 ユーザの作成したフィルムレイヤーごとのプログラム(真空引/ベント、成膜時間、RF/DC電力・時間、MFC流量、...
nanoCVD-8G, nanoCVD-8N
大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 1バッチわず...
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機 ◆特徴◆ ・簡...
MiniLab-WCF, -WMF
φ2〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクト・簡単操作 2200℃まで均一なアニール処理...
安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用R&D用超高温実験炉。 ◆主な特徴◆ ・習熟度を問わずどなたでも簡単に操作できます。 ・自動シーケンス操作:試料設置後、煩...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'Al...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式):ウエハー搬送・受渡用 ◉ 基板回転機...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'Al...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式):ウエハー搬送・受渡用 ◉ 基板回転機...
CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...
CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...