CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'Al...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式):ウエハー搬送・受渡用 ◉ 基板回転機...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'Al...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式):ウエハー搬送・受渡用 ◉ 基板回転機...
nanoPVD-S10A
最高性能 優れた膜質 コストパフォーマンスに優れたR&D用卓上型マグネトロンスパッタリ...
◉ nanoPVDは、最大1000layer, 50filmのレシピを作成する事が可能。 ユーザの作成したフィルムレイヤーごとのプログラム(真空引/ベント、成膜時間、RF/DC電力・時間、MFC流量、...
nanoCVD-8G, nanoCVD-8N
大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 1バッチわず...
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機 ◆特徴◆ ・簡...
MiniLab-WCF, -WMF
φ2〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクト・簡単操作 2200℃まで均一なアニール処理...
安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用R&D用超高温実験炉。 ◆主な特徴◆ ・習熟度を問わずどなたでも簡単に操作できます。 ・自動シーケンス操作:試料設置後、煩...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'Al...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式):ウエハー搬送・受渡用 ◉ 基板回転機...
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'Al...
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式):ウエハー搬送・受渡用 ◉ 基板回転機...
CTH
Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...
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Max1800℃ φ1〜φ12inch 超高真空対応 CVD, PVD真空薄膜用 均熱ウエハー加熱ヒーター
セラミック・トップ・ヒーターは、大気圧・真空・プロセスガス中での各種薄膜実験・開発用途に幅広くご使用いただける面状ウエハー加熱ヒーターユニットです。トッププレートに...