nanoCVD-8G

nanoCVD-8Gの製品概要

◉ 大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分！

◉ コールドウオール 熱CVD方式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間
◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機
◆特徴◆
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理
・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能
・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング
・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能
・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他

◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆
・グラフェン生成用，真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diffusion or Dry Pump）
・ガス供給3系統（標準）
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対

◆Model. nanoCVD-8N（CNT用）◆
・CNT生成用，常圧プロセス制御
他同上

※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。

この製品の利用用途

・大学教育機関
・各研究機関での基礎・応用研究
・材料開発
・その他先端デバイス開発などに応用