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高精度質量ガス分析装置 WATMASSーMPH GA System

製品カタログ

極微小リークを見逃さない! 高精度質量ガス分析の実現

従来のSUSに代わる真空構造材0.2%BeCuを使用することにより低ガス放出化で
究極な微小リークを検出可能。

このカタログについて

ドキュメント名 高精度質量ガス分析装置 WATMASSーMPH GA System
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 518.9Kb
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このカタログの内容

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スライド番号 1

XHV Products 極高真空(XHV)製品 for extreme high vacuum 破壊/非破壊, 超高感度質量ガス分析装置 WATMASS-MPH GA System 装置外観 システム構成 極微小リーク測定の実現 スループット法(Throughput) : 10-8 ~10-12Pa・m3/s, He (±25%) 蓄積法(Accumulation) : 10-8 ~10-15Pa・m3/s, He (±20%) 特 長 超低ガス放出質量分析計 WATMASS – MPH の技術と超低ガス放出真空構造材 産総研の超微小リーク校正ユニット 0.2%BeCu 合金により にて検証された計測システム 10-15Pa・m3/s (He) の極小リークを計測 することが可能です。 サンプルを分析室に設置 破壊/分析室 し真空排気後V1を閉じた 主な仕様 状態で分析管内を10-7Pa 台に保持します。サンプ  0.2% BeCuによる超低ガス放出 直線導入機 ルからの放出ガスおよび、  He による機密および、破壊分析 V1 BA 直線導入器による破壊後  到達真空度:E-8Pa 以下 のガス分析から、真空  超微小リーク校正ユニット(産総研) による検証済(He) 度・残留成分・各分圧を  100/200/300 amu FC/EM センサー 測定します。 アプリケーション例  MEMS/封止デバイスの破壊検査  ウェハからの放出ガス  成膜プロセス後の放出ガス 10-15 Pa m3/s (He) 台の計測が可能 東京電子株式会社 本社〒185-0012 東京都国分寺市本町 2-22-7 TEL 042-329-5090 FAX 042-329-5091 E-mail : sales@toel.co.jp