日本電子株式会社 製品案内

日本電子株式会社 製品案内 Products Guide 2026 Nanometrology Fabrication Characterization

ごあいさつ 日本電子は1949年5月に電子顕微鏡の開発会社として発足以来、おかげさまで創立75周年を 迎えることができました。これまで皆様からお寄せいただきましたご厚情に対しまして、 心より御礼を申し上げます。 弊社は、世界トップレベルの理科学機器メーカーとして、その技術力を生かし、ナノテ クノロジー関連分野、バイオテクノロジー関連分野、エコロジー関連分野、ライフサイ エンス関連分野など幅広い研究・応用分野だけでなく、臨床分野、産業分野での製品開発、 品質管理、製造ラインなどでお役に立てる製品ラインナップと、最適のトータルソリュー ションをお届けしています。 本カタログでは最新の電子顕微鏡、イオンビーム応用装置、表面分析装置、X線分析装置、 計測機器、核磁気共鳴装置、電子スピン共鳴装置、質量分析計、半導体製造装置、電子ビーム 応用装置、プラズマ応用装置を掲載しております。 それぞれの製品についてのご説明、カタログなどのご用命は、最寄りの支店までお気軽に お申し付けいただきますよう、お願い申し上げます。 日本電子株式会社 経営理念 日本電子は 「創造と開発」を基本とし 常に世界最高の技術に挑戦し 製品を通じて 科学の進歩と社会の発展に 貢献します 会社概要 商号： 日本電子株式会社（JEOL Ltd.） 所在地： 東京都昭島市武蔵野3-1-2（本社） 設立： 昭和24年5月 資本金： 213億9,418万円　（2025年3月末現在） 売上高： 1,966億9,500万円　（2025年3月末現在）（連結） 従業員数： 3,604人　（JEOLグループ2025年3月末現在） 理科学・計測機器 1 2

Contents 理科学・計測機器 ■ 透過電子顕微鏡 　　　　　　　　　　　　　 P. 3 ■ 走査電子顕微鏡 　　　　　　　　　　　　　 P. 5 ■ イオンビーム応用装置 　　　　　　　　　　 P. 7 ■ 周辺機器 　　　　　　　　　　　　　　　　 P. 8 ■ 微小領域分析・表面分析装置 　　　　　　　 P. 9 ■ X線分析装置 　　　　　　　　　　　　　　 P.10 ■ 計測機器 　　　　　　　　　　　　　　　　 P.10 ■ 質量分析計 　　　　　　　　　　　　　　　 P.11 ■ 核磁気共鳴装置 　　　　　　　　　　　　　 P.13 ■ 電子スピン共鳴装置 　　　　　　　　　　　 P.14 産業機器 ■ 半導体製造装置 　　　　　　　　　　　　　 P.15 ■ 金属3Dプリンター 　　　　　　　　 P.16 ■ 成膜関連機器・材料生成機器 　　　　　　　　 P.16 * 装置外観写真にはオプションを含む場合があります。 * 装置の外観・仕様は予告なく変更することがあります。 * Windowsは米国Microsoft社の商標です。　その他の商標はすべてそれを保持する関連会社に帰属します。 理科学・計測機器 2

透過電子顕微鏡 Transmission Electron Microscopes GRAND ARM™ 3 原子分解能分析電子顕微鏡 日本電子が誇るフラグシップモデル300 kV原子分解能電子顕微鏡は、GRAND ARMTM 3として、その観察・ 分 析 性 能を大 幅に向 上しました。ドイツCEOS社との 共 同 開 発により、 最 新 の 収 差 補 正 装 置 “LASCOR(Large Aperture STEM Corrector)”および“ATCOR(Advanced TEM Corrector)”が GRAND ARMTM 3に搭載可能となりました。従来を超える大きな開口条件での観察・分析を実現しました。 これにより、STEMおよびTEMの両モードにおいて、これまでにない超高分解能観察と分析が可能になります。 ● STEM分解能：0.049 nm（ FHP2、300 kV、STEMコレクター搭載時） ● TEM分解能：0.050 nm（ FHP2、300 kV、TEMコレクター搭載時） ● 加速電圧：40 ～ 300 kV（標準80 kV、300 kV） ● 電子銃：冷陰極電界放出形電子銃（CFEG） NEOARM 原子分解能分析電子顕微鏡 “NEOARM”は、当社独自の技術で開発された冷陰極電界放出形電子銃と高次の収差まで補正可能な球面収 差補正装置（ASCOR）を標準搭載し、200 kVの高加速電圧だけでなく30 kVの低加速電圧においても原子 分解能での観察を可能にしました。また、当社独自の収差補正アルゴリズムを開発し、高速かつ正確な収差 補正を自動的に行うシステムを搭載しました。皆様へ“ハイスループットな原子分解能観察”をお届けします。 ● STEM分解能：0.071 nm（ UHR、200 kV、STEMコレクター搭載時） ● TEM分解能：0.07 nm（ UHR、200 kV、TEMコレクター搭載時） ● 加速電圧：30 ～ 200 kV（標準80 kV、200 kV） ● 電子銃：冷陰極電界放出形電子銃（CFEG） CRYO ARM™ 300S 電界放出形クライオ電子顕微鏡 CRYO ARMTM 300Sは、タンパク質に代表される電子線照射に弱い試料の観察に特化した、クライオ電子 顕微鏡です。単粒子構造解析（SPA）やトモグラフィー、3DED/MicroEDなどの各手法に対応しています。 CRYO ARMTM 300Sは、顕微鏡の安定性とスループットの更なる向上だけでなく、操作性もよりシンプルになっ ています。また、サンプルのスクリーニングから画像データ取得までを一体化した顕微鏡です。そしてユーザー に合わせた運用を可能にする高い自由度を持っています。顕微鏡に不慣れな方であっても、簡単な操作で質の 高い顕微鏡写真を得られる次世代のクライオ電子顕微鏡です。 ● 加速電圧：300 kV ● 試料冷却温度：105 K以下 ● エネルギーフィルター：インカラム形オメガフィルター ● 試料ストレージ：最大12個の保持が可能 ● 最大試料傾斜角：+/- 70° ● 電子銃：冷陰極電界放出形電子銃（CFEG） CRYO ARM™ 200S 電界放出形クライオ電子顕微鏡 新設計の高分解能ポールピースを搭載し、単粒子構造解析に特化したクライオ電子顕微鏡です。CRYO ARM™シリーズの特長である、冷陰極電界放出形電子銃、インカラム形エネルギーフィルター、サイドエントリー 液体窒素冷却ステージ、自動試料交換機構を装備しています。顕微鏡の試料ストレージには最大12個の試料 を保管することができます。保管中の試料は1個または複数個の取り外しおよび交換が可能であり、複数の ユーザーでお使いでも柔軟に測定スケジューリングを行えます。 ● 加速電圧：200 kV ● 試料ストレージ：最大12個の保持が可能 ● エネルギーフィルター：インカラム形オメガフィルター ● 電子銃：冷陰極電界放出形電子銃（CFEG） ● 試料冷却温度：105 K以下 理科学・計測機器 理科学・計測機器 3 4

ACE eye™ ハイスループット解析電子顕微鏡 “ACE eye™”は、レシピ化された操作ワークフローにより、TEM/STEM観察からEDS分析まで一貫して 自動実行する半導体専用電子顕微鏡です。測定条件の標準化によって高い再現性を実現し、セミオートメー ションからフルオートメーションまで柔軟に対応します。AIによる自動収差補正(ASCOR標準搭載)と高度 な自動化アルゴリズムにより、常に最適な測定状態を維持し、操作者に依存しない高精度な測定を可能に します。さらに、実績あるハードウェア技術と長時間の安定運用設計により、半導体解析に求められる操 作性と高い信頼性を提供します。 ● STEM分解能：0.10 nm（ 200 kV、STEMコレクター搭載） ● TEM分解能：0.10 nm（ 200 kV） ● 加速電圧：60 ～ 200 kV（標準80 kV、200 kV） ● 電子銃：冷陰極電界放出形電子銃（CFEG） JEM-F200 多機能電子顕微鏡 多機能電子顕微鏡JEM-F200は、現在、そして今後必要とされる要望に応えるために開発された、新世代の 顕微鏡です。新型照射光学系、冷陰極電界放出形電子銃、Dual SDDシステム等高分解能分析システムに 必要な新機能を有しており、高スループットな材料解析を実現します。さらに試料ホルダーを自動で出し入れ できる新機能“SPECPORTER™”を標準構成しており、初心者も安心して顕微鏡操作することができます。 ● STEM分解能：0.14 nm（ UHR、200 kV、CFEG） ● TEM分解能： 0.19 nm（ 粒子像、UHR、200 kV、CFEG） 0.10 nm（ 格子像、UHR、200 kV、CFEG） ● 加速電圧：20 ～ 200 kV（標準80 kV、200 kV） ● 電子銃：冷陰極電界放出形電子銃（CFEG） / ショットキー電界放出形電子銃（TFEG） JEM-2100Plus 電子顕微鏡 JEM-2100Plusは、定評のあるJEM-2100の光学系に最新の制御系をプラスし、操作性を大幅に向上した 200 kVの多目的電子顕微鏡です。優れた基本性能と簡単かつ分かりやすい操作性は、材料研究から医学・ 生物研究の幅広い分野で優れたソリューションを提供します。 ● STEM分解能：1.0 nm（ UHR、200 kV） ● TEM分解能：0.14 nm（ UHR、200 kV） ● 加速電圧：80 ～ 200 kV ● 電子銃：熱電子放出形電子銃（LaB6単結晶フィラメント） JEM-120i 電子顕微鏡 JEM-120iは、「Compact」,「 Easy To Use」,「 Expandable」をコンセプトとして開発された120 kVの電子顕 微鏡です。外観を一新するだけでなく、操作からメンテナンスまで誰でも簡単に使える装置へと進化しました。 ● TEM分解能：0.14 nm（ HR、120 kV） ● 加速電圧：20 ～ 120 kV ● 電子銃：熱電子放出形電子銃（LaB6単結晶フィラメント/Wフィラメント） 理科学・計測機器 理科学・計測機器 3 4

走査電子顕微鏡 Scanning Electron Microscopes JSM-IT810 ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡 JSM-IT810は、インレンズショットキー Plus 電界放出電子銃と電子光学制御システムNeoEngine、 さらにSEMCenterに自社製EDSを組み込んだシステムを共通のプラットフォームとしています。また、 自動観察分析機能「NeoAction」やSEM自動調整機能も備えています。 JSM-IT810のラインナップには対物レンズの違いにより、ハイブリッドレンズ（HL）、スーパーハイブリッドレンズ （SHL）、セミインレンズ（SIL）の3タイプがあります。またSHLとSILにはそれぞれスタンダードバージョンと PRIMEバージョンがあります。 ● 分解能：HL：0.7 nm（ 20 kV）、1.3 nm（ 1 kV） SHL：0.6 nm（ 15 kV）、1.1 nm（ 1 kV） SHL PRIME：0.5 nm（ 15 kV）、0.7 nm（ 1 kV） SIL：0.6 nm（ 15 kV）、1.0 nm（ 1 kV) SIL PRIME：0.5 nm（ 15 kV）、0.7 nm（ 1 kV） ● 入射電圧：0.01 ～ 30 kV JSM-IT810 （SHLバージョン） ● 写真倍率：HL/SHL : ×10 ～ ×2,000,000（ 128 × 96 mm表示時） ：SIL：×25 ～ ×2,000,000（ 128 × 96 mm表示時） ● 表示倍率：HL/SHL : ×27 ～ ×5,480,000（ 1,280 × 960画素表示時） ：SIL：×69 ～ ×5,480,000（ 1,280 × 960画素表示時） JSM-IT710HR 走査電子顕微鏡 誰でも簡単に分解能の良い画像を撮ることができる“HRシリーズ”の最新モデルです。新型の低真空二次電子 検出器や3Dライブ観察機能を追加することで、観察性能をさらに向上させました。最大300 nAを発揮する 電子銃を有し、さらに従来機に比べ、電子銃の安定性を改善しました。（従来機比4倍）自動測定機能の拡充 により、FE-SEMの分解能での自動測定が今まで以上に使いやすくなりました。 ● 分解能　高真空モード：1.0 nm（ 20 kV)、3.0 nm（ 1 kV） 低真空モード：4.0 nm（ 30 kV BED） 分析時：3.0 nm（ 15 kV 照射電流３ nA） ● 入射電圧：0.5 ～ 30 kV ● 写真倍率：×5 ～ ×600,000 　　　　　　（128 × 96 mmを表示サイズとして倍率を規定） ● 表示倍率：×15 ～ ×1,767,305　モニター上の画像倍率 　　　　　　（377 × 283 mmを表示サイズとして倍率を規定） 理科学・計測機器 理科学・計測機器 5 6

JSM-IT510 走査電子顕微鏡 直径200 mmの大型チャンバーを有した熱電子銃タイプの最上位モデルの走査電子顕微鏡です。 電子銃は熱電子銃タイプに比べ、より高輝度・長寿命のLaB6電子銃の選択も可能です。豊富なポートを有し、 EDSは勿論のこと、EBSDやWDSの同時装着が可能なマルチパーパスSEMです。 ● 分解能　高真空モード：3.0 nm（ 30 kV）、15.0 nm（ 1 kV） ：2.0 nm（ 30 kV）、12.5 nm（ 1 kV） ※LaB6電子銃 低真空モード：4.0 nm（ 30 kV BED） ：3.0 nm（ 30 kV BED） ※LaB6電子銃 ● 入射電圧：0.3 ～ 30 kV ● 写真倍率：×5 ～ ×300,000（ 128 × 96 mmを表示サイズとして倍率を規定） ● 表示倍率：×14 ～ ×839,724　 モニター上の画像倍率（ 358 × 269 mmを表示サイズとして倍率を規定） JSM-IT210 走査電子顕微鏡 よりシンプルに使いやすくしたコストパフォーマンス重視の熱電子銃形走査電子顕微鏡です。上位モデル同様 に5軸モーター駆動ステージを標準搭載し、コンパクト設計は従来機種から踏襲しています。視野の選択のみ で観察・分析を自動で行うSimpleSEM機能を追加し、ステージ性能の拡充を図り、SEMの総合力を大きく 向上させました。 ● 分解能　高真空モード：3.0 nm（ 30 kV）、15.0 nm（ 1 kV） 低真空モード：4.0 nm（ 30 kV BED） ● 入射電圧：0.3 ～ 30 kV ● 撮影倍率：×5 ～ ×300,000（ 128 × 96 mmを表示サイズとして倍率を規定） ● 表示倍率：×15 ～ ×883,652（標準モニターを使用し、全画面表示の場合） JCM-7000Plus NeoScope™ 卓上走査電子顕微鏡 JCM-7000Plusは誰でも観察・分析ができることを目指した卓上走査電子顕微鏡です。目的に合わせた操作 フローを搭載しており、初心者でも観察をスムーズに進めることができます。また、サブミクロンの構造物を鮮 明に観察できる高真空モード、前処理不要の低真空モードを標準搭載しており、様々な試料・目的に対応可 能な装置です。上位機種で好評の自動測定機能も追加され、これまで以上にユーザーレベルを問わず操作可 能になっています。 ● 分解能　高真空モード：6.0 nm（ 20 kV） ● 写真倍率：×10 ～ ×100,000（ 128 × 96 mmを表示サイズとして倍率を規定） ● モニター倍率：×24 ～ ×202,168（ 280 × 210 mmを表示サイズとして倍率を規定） ● 試料寸法：直径80 mm ● 主なオプション：EDS（ 元素分析装置）、ステージナビゲーションシステム、傾斜回転ホルダー 理科学・計測機器 理科学・計測機器 5 6

イオンビーム応用装置 Ion Beam Application Equipment JIB-PS500i FIB-SEM システム 高画質・高分解能SEMと高性能FIBにより、意図する部位を正確に、かつ、高品質なTEM試料作製が可能 です。大型・大傾斜ステージはTEM試料作製で必要となる試料ブロックのトリミング等の作業が容易に実施 でき、新開発のSTEM検出器によるスクリーニングチェック（Check and Go機能）が可能です。また、二軸 傾斜カートリッジとTEMホルダーによりFIBとのTEM Linkage が容易になりました。 ● SEM分解能：0.7 nm（ 15 kV）、1.4 nm（ 1 kV）、1.0 nm（ 1 kV、BDモード） ● FIB分解能：3.0 nm（ 30 kV） ● FIB照射電流：1 pA ～ 100 nA JIB-4700F 複合ビーム加工観察装置 SEM鏡筒にハイブリッドコニカル対物レンズ、GENTLEBEAM™モード（GBモード）、インレンズ検出器システム を搭載し、1 kVの低加速電圧で保証分解能1.6 nmを実現しました。最大照射電流300 nAの電子ビームを 得られる「インレンズショットキー電子銃」との組み合わせで、高分解能観察と高速分析が可能です。FIB鏡筒は、 最大照射電流90 nAの高電流密度Gaイオンビームを採用し、試料を高速に加工します。 ● SEM分解能：1.2 nm（ 15 kV、GBモード）、1.6 nm（ 1 kV、GBモード） ● FIB像分解能：4.0 nm（ 30 kV） ● FIB照射電流：1 pA ～ 90 nA IB-19540CP クロスセクションポリッシャ™（CP） IB-19540CPは、ハイスループットイオンソースを標準装備しているため、加工レート1.2 mm/h（1時間加工、 Si換算、エッジ距離100 µｍ）の断面加工が可能です。ネットワークに接続することでWebブラウザを通じて 装置へアクセスすることが可能となり、離れた場所から加工状況の確認や操作ができます。また、平面ミリング では直径約20 mmまでの広い領域で加工することができます。 IB-19550CCP 冷却クロスセクションポリッシャ™（CP） クロスセクションポリッシャTMに試料冷却機能を付加した断面加工装置です。自動冷却・昇温機能により冷却 後の開始操作や、加工終了後の昇温操作が必要ありません。-120 ～ 0 ℃でステージ温度を制御しながら長 時間の加工が可能です。冷却用導体を挿抜して冷却温度を制御するため、液体窒素の消費を抑制できます。 また、液体窒素を充填した状態でも試料のセットや取り出しが可能です。 理科学・計測機器 7

周辺機器 Peripheral Equipment ドライSDTM EC-52000IC エネルギー分散形X線分析装置 イオンクリーナー SXES Series JII-29080DMS 軟X線発光分光器シリーズ 試料ホルダー予備排気装置 JEC-3000FC DII-29020HD オートファインコーター 電子顕微鏡用親水化処理装置 EC-32010CC DII-29010SCTR / DII-29030SCTR カーボンコーター 試料コーター SM-92100EUVC miXcroscopy™ エキシマUVクリーナー 光学顕微鏡/走査電子顕微鏡リンクシステム 走査電子顕微鏡（SEM） 走査電子顕微鏡（SEM） 透過電子顕微鏡（TEM） オプション ▶︎ 周辺機器 ▶︎ 周辺機器 ▶︎ 理科学・計測機器 8

微小領域分析・表面分析装置 Instruments for Microarea and Surface Analysis JXA-iHP200F / JXA-iSP100 電子プローブマイクロアナライザー JXA-iHP200F/JXA-iSP100は、微量元素測定、凹凸試料の自動補正、相分析プログラムなど、用途に応じ た多彩なソフトウェアを搭載し、観察から分析までを効率的に行えるWD/EDインテグレーションEPMA （Electron Probe Micro Analyzer）です。また、用途に応じて軟X線分光器、CL検出器やEBSDなどを組み 合わせることで、材料評価から地球科学分野まで幅広い分析に対応します。 ● 分解能：2.5 nm（ JXA-iHP200F） 5 nm（ LaB6 /JXA-iSP100） 6 nm（ W/JXA-iSP100） ● X線分光器数：1 ～ 5基選択　EDS：1基 JXA-iHP200F JXA-iSP100 JAMP-9510F フィールドエミッションオージェマイクロプローブ ナノからマイクロ領域の化学結合状態分析をハイスループットで実現する静電半球形アナライザー、大電流・ 小プローブ径が特長の電界放出形電子銃（FEG）を備えたハイスペックなオージェ電子分光装置です。試料傾 斜法と帯電中和銃を組み合わせることにより不可能とされていた絶縁物分析を可能とし、金属試料から絶縁 物試料まで、組成情報から化学情報まで、サンプルを選ばない汎用性を実現しました。 JPS-9030 光電子分光装置（XPS） 日本語環境で操作できるユーザーインターフェイスを採用し、「誰もが、簡単に、直ぐに使える」ことを実現した 汎用型XPSです。試料交換室に装着することにより測定室を汚染しないカウフマン型エッチングイオンソースや Al/Mgツインアノードを標準装備の上、赤外線加熱システムやガスクラスターイオンソース等幅広い拡張性も 備えています。 理科学・計測機器 理科学・計測機器 9 10

X線分析装置 X-ray Fluorescence Spectrometers JSX-1000S 卓上蛍光X線分析装置 最大9種類のフィルターにより全エネルギー領域での高感度かつハイスループット な分析を可能にしたエネルギー分散形X線分析装置です。ソリューションアプリ と呼ばれる自動化された測定メニュー、精度を高めたスタンダードレス分析の スマートFP法、ヘリウムフリーで液中軽元素の分析を可能にする低真空カプセル など多彩な機能を持ちます。 計測機器 Measuring Instruments XtaLAB Synergy-ED 電子回折装置 XtaLAB Synergy-EDは、電子線を用いて分子の三次元構造を可視化する、測定から解析までのシームレス なフローを実現したこれまでにない全く新しい電子回折装置です。株式会社リガクの超高感度高速検出器 「HyPix-ED」および単結晶構造解析用ソフトウェア「CrysAlisPro for ED」と、日本電子の透過電子顕微鏡で 培った技術を組み合わせた成果であり、両社のコア技術のシナジーによるものです。測定サンプル（ナノ結晶）の 選別からデータ収集、解析までのフローを一体化することで、従来必須とされる電子顕微鏡と結晶学の専門 知識が無い非専門家にも、電子回折を手軽に利用できる分析装置として実現いたしました。 ❶ 目的測定結晶の選定 ❷ 電子回折の測定、解析 ❸ 結晶構造解析 GC-8610 series ポータブル多機能ガスクロマトグラフ ラボ機能をオンサイトで実現した多機能タイプのガスクロです。パージアンドトラップを使用して多様なサンプル への対応や自動サンプリング機能を使いオンサイトモニターとしての使用も可能です。 GC-310C series ポータブルガスクロマトグラフ 本シリーズはオンサイト用に開発された新しいコンセプトのガスクロです。小形軽量（11 kg～）の特質を生かし、 土壌汚染対策法に準拠したGC-310C（PID、DELCD）さらにFIDを追加したGC-310C/Fがあります。 理科学・計測機器 理科学・計測機器 9 10

質量分析計 Mass Spectrometers JMS-T2000GC MultiAnalyzer マルチイオン化-未知物質解析システム デュアルステージ リフレクトロンTOF 複雑化する材料、多様化する環境、そして多くの化学物質が日々生まれています。 MultiAnalyzer マルチイオン化-未知物質解析システム MultiAnalyzerはそういった複雑で難しく、 また未知の化学物質に対しても、自動で解析を実施し、その答えを導き出します。 MultiAnalyzerは、誰にでも簡単にお使いいただけるハイスループットな解析ソリュー ションを提供いたします。 GC column Cathode MS E（ 8～ 10 kV） ● Molecule ● Ion マルチイオン化 msFineAnalysis AI JMS-Q1600GC UltraQuad™ 2.0 ガスクロマトグラフ四重極質量分析計 UltraQuadTM 2.0は、日本電子が長年培ってきたQMS技術の粋を結集し、あらゆるGC-MS測定に対応する べく、高い装置性能・汎用性・分析拡張性を備えたGC-QMSです。標準EIイオン源のIDLは、OFN使用時に 5 fg以下を達成し、高感度分析を可能とします。さらに、真空を解除することなくイオン化法を切り替えられ るEI/PI共用イオン源とEI/CI共用イオン源を選択でき、対象化合物の幅が大きく広がります。統合定性解析 に定評のある自動定性解析ソフトウェアmsFineAnalysis IQは、AI技術を用いた構造推定により、従来は解 析を断念していた未知化合物の同定を可能にします。また、代替キャリアガスとして窒素ガスにも対応しており、 定量分析から定性分析まで、幅広い分析ニーズに応える1台です。 JMS-T2000GC AccuTOF™ GC-Alpha 2.0 ガスクロマトグラフ飛行時間質量分析計 AccuTOF™ GC-Alpha 2.0は高質量分解能、高質量精度、高感度、高速データ取得、広ダイナミックレンジ、 広質量範囲を同時に実現したハイエンドGC-MSシステムです。EI/FI/FD共用イオン源・EI/PI共用イオン源の、 2種類のマルチイオン化共用イオン源が装着可能です。EI法では分子イオンが検出できない未知化合物で あっても、ソフトイオン化法によって分子イオンを検出し、その元素組成を推定可能です。自動構造解析ソフト ウェアmsFineAnalysis AIにより、マルチイオン化共用イオン源で測定されたEI法とソフトイオン化法のデータ を統合解析し、ライブラリーデータベースに登録されていない化合物についての構造解析を実現します。 JMS-TQ4000GC UltraQuad™ TQ ガスクロマトグラフ三連四重極質量分析計 JMS-TQ4000GC UltraQuadTM TQは、独自開発のショートコリジョンセルの採用と、イオン蓄積とパルス化 によるイオン排出技術の組み合わせにより、高生産性と高感度分析を兼ね備えた新しいガスクロマトグラフ 三連四重極質量分析計です。食品中の残留農薬分析など、多くの夾雑成分存在下での微量検出、定量分析に 威力を発揮します。オプションイオン源である高性能イオン源（EPIS）を使用することで、さらなる微量分析が 可能です。 理科学・計測機器 11

MS-62071STRAP ヘッドスペースオートサンプラー MS-62071STRAPは、測定対象に応じて、1台でループモードとトラップモードでの分析が可能な次世代型 ヘッドスペースオートサンプラーです。弊社の四重極質量分析計JMS-Q1600GCと組み合わせることにより、 1 pptでの水中カビ臭気物質分析を保証しています。また、食品や材料などからの揮発性物質分析にも対応 写真はJMS-Q1600GC + ヘッドスペースオートサンプラーシステム しています。 JMS-S3000 NewSpiralTOF™ マトリックス支援レーザー脱離イオン化超高分解能飛行時間質量分析計 JEOL独自のSpiralTOFイオン光学系を採用した超高質量分解能・高感度MALDI-TOFMS*システムです。 JMS-S3000はSpiralTOFモードでの測定質量範囲とマスイメージング測定速度を更に向上させ、 NewSpiralTOF™ へと進化しました。従来装置とは一線を画する特長で、分析技術の最先端をリードし、 合成高分子・材料科学・生体高分子などの幅広い分野で日々変化していく研究ニーズにお応えします。 ＊Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-of-Flight Mass Spectrometer JMS-T100LP AccuTOF™ LC-Express 大気圧イオン化高分解能飛行時間質量分析計 大気圧イオン化飛行時間質量分析計JMS-T100LPは、マルチイオン化・堅牢性・容易なメンテナンスを特長 とした高い生産性を目指したハイスループット質量分析計です。JMS-T100LPはダイナミックレンジを大幅に 向上し、AccuTOF™ LC-Expressへと進化しました。JEOL独自のイオン化技術であるDART™（ Direct Analysis in Real Time）によって精密質量情報が迅速に得られ、またエレクトロスプレーイオン源（ESI）を 備えるLC-MSシステムや ColdSprayイオン源（CSI）へ容易に変更できるため、有機化学や材料科学といった 幅広い研究ニーズにお応えします。 JMS-T100LP + DART™イオン源 アンビエントイオン化高分解能飛行時間質量分析計 DART™（Direct Analysis in Real Time）は、様々な形態・状態の試料を前処理なしに迅速に分析できる新 しいイオン源です。DART™は2003年に日本電子の米国法人JEOL USA, Inc.の質量分析応用研究室で産声 を上げました。後にアンビエントイオン化法と呼ばれることになった一連の新しいイオン化法の中で、最も早く 開発され、最も早く2005年に商品化しました。様々な形態・状態の試料を、前処理無しで、DART™イオン 源にかざすだけで、高分解能マススペクトルをリアルタイムで得ることができます。通常の分析機器では扱うこ とのできない、不定形の試料や「汚い」試料もそのまま分析できます。DART™イオン源はAccuTOF™上で 開発されました。AccuTOF™ LC-Expressに装着することで、高いパフォーマンスを発揮します。 理科学・計測機器 12

核磁気共鳴装置 NMR Spectrometers JNM-ECZL (ECZ LuminousTM) series FT NMR装置 ECZ LuminousTM（ JNM-ECZLシリーズ）は、最先端のデジタル技術と高周波技術を 搭載したFT NMR装置です。高集積化された高速・高精度デジタル高周波制御回路 Smart Transceiver Systemにより、分光計のさらなる小型化と高い信頼性を実現し ました。新機能 Multi Frequency Drive Systemにより、標準構成の2チャンネル分 光計でありながら多重共鳴測定が可能となり、ソリューションの広がりを提供します。 ECZL G series 高磁場や固体のNMR測定が可能です。多様化する最先端のアプリケーションに対応 したフラッグシップモデルです。拡張対応はフレキシブルで、3 ch以上のチャンネル拡 張、ハイパワーパワーアンプ、高出力磁場勾配に対応します。 ECZL R series 固体NMR測定にも対応しながら分光計の小型化を実現したモデル。従来相当機と 比べて設置面積は50％以下になりました。 ECZL G series ECZL S series ECZL高性能デジタル高周波テクノロジーはそのままに、400 MHz溶液専用のエン トリーモデルです。 ECZL G series ECZL R series ECZL S series 周波数 400 MHz ～ 1.3 GHz 400 ～ 600 MHz 400 MHz 対象試料 溶液 / 固体 溶液 / 固体 溶液 2 ch（ 標準） チャンネル 最大 8 ch まで 2 ch 2 ch 拡張可 パワーアンプ 100 W（ 標準） ECZL R series 100 W 50 W 高周波数側 200/500/1000 W 選択可 パワーアンプ 300 W（ 標準） 300 W 150 W 低周波数側 500/1000/2000 W 選択可 10 A（ 標準） 勾配磁場電源 10 A 10 A 30/50 A 選択可 分光計サイズ W × D × H 600×855×1,279 mm 536×730×855 mm 536×730×855 mm ECZL S series Cryogen Reclamation System 冷媒蒸発抑制装置“CR-80” CR-80は、NMR用超伝導マグネットの冷媒として不可欠な液体ヘリウムおよび液体窒素の蒸発を大幅に抑制 することが可能な付属装置です。この装置は、自社製品によるアフターフォローの不安の払拭、冷媒の不安定 供給の懸念、価格の上昇、充填作業のスケジュール調整など、NMR装置の冷媒管理において大いに役立ち ます。また、他にも液体窒素の蒸発抑制装置である“NR-50”や、液体窒素の取り出し可能な自動供給装置 “NS-20W-J”なども取り揃えています。 液体窒素蒸発抑制装置 液体窒素自動供給装置 (NR-50) (NS-20W-J) 冷媒蒸発抑制装置 （CR-80） 理科学・計測機器 13

Solution NMR probe 溶液NMR probe 溶液NMRでは、溶媒に溶かした試料をガラスチューブに入れて測定します。マグネットサイズ、測定対象核、 サンプルチューブサイズなどに応じて、さまざまな種類のプローブを提供できます。最近開発された冷却型プロー 溶液NMR probe ブであるSupeCOOL MARVELプローブは、従来型の同等のプローブと比較して、劇的に感度が向上しました。 使い勝手の良いブロードバンドタイプであるため、多核種にわたる高感度測定が可能です。日常的な測定のみ ならず、高度なアプリケーション測定にも適したプローブです。 SuperCOOL MARVEL probe Solid State NMR 固体NMR 固体NMRでは、粉末状やフィルム状などの固体試料を専用のセラミック製の試料管に入れて測定します。 無機材料など溶媒に溶解しない試料や、結晶多形など固体状態で測定することに意味のある試料に対して有 用な測定になります。AUTOMASプローブとROTORCARRIER™、オートサンプルチェンジャーを使用すると、 固体NMRプローブ 溶液NMRと同様に複数試料の自動測定が可能になります。 固体NMR用試料管 AUTOMASプローブ用 ROTORCARRIER™ 8 mm 4 mm 3.2 mm 2 mm 1 mm 0.75 mm 電子スピン共鳴装置 ESR Spectrometers JES-X3 series 電子スピン共鳴装置 X310 X320 最大磁場強度 0.65 T 　1.3 T 試料中の極微量の不対電子が素材の機 掃引幅 ±0.01～ 250 mT ±0.01～ 500 mT 能を大きく左右することが明らかになり 磁極間隙 60 mm 60 mm つつある現在、ESR計測は更なる高感 周波数範囲 8.750 ～ 9.650 GHz 度化を求められています。次世代電子 スピン共鳴装置JES-X3シリーズは、 分解能 2.35 µT 低雑音ガン発振器を改良し、従来比 マーカー補正 標準 30%アップの高感度化を実現しました。 データシステム（OS） Windows® 11 理科学・計測機器 14

半導体製造装置 Semiconductor Equipment JBX-3200MVS 電子ビーム描画装置 32 ～ 28 nmノードマスク・レチクル製作用可変成形電子ビーム描画装置です。先端技術で高速、 高精度、 高信頼性を実現しています。加速電圧50 kVの可変成形ビームとステップ＆リピートステージ方式を基本とした 描画装置です｡ JBX-3050MV/S 電子ビーム描画装置 ～ 45 nmノードマスク・レチクル製作用可変成形電子ビーム描画装置です。先端技術で高速、高精度、 高信頼性を実現しています。加速電圧50 kVの可変成形ビームとステップ＆リピートステージ方式を基本とした 描画装置です｡ JBX-A9 電子ビーム描画装置 JBX-A9は、JBX-9500FSの基本仕様を受け継ぎながら省電力化、省スペース化を実現した300 mmウエハー 対応のスポットビーム型電子ビーム描画装置です。ノンフロンチラーの採用など環境負荷にも配慮した製品と なっています。フォトニック結晶デバイス製作など特に高いビーム位置精度を要求される用途に適した装置です。 ● 加速電圧：100 kV ● 最大スキャンスピード：200 MHz ● 電子銃エミッター：ZrO/W（ Schottky） ● 最大材料寸法：直径300 mmウエハー JBX-8100FS 電子ビーム描画装置 JBX-8100FSは高速・高精度な幅広いアプリケーションに適応するために開発されたスポットビーム描画装置です。アップグレード 可能なプラットホームにより、最先端のナノ構造の作製から化合物半導体デバイス製造まで幅広い分野にて使用可能です。 ● 加速電圧：100 kV（ オプション : 200 kV/130 kV/50 kV/25 kV） ● 最大スキャンスピード：125 MHz ● 電子銃エミッター：ZrO/W（ Schottky） ● 最大材料寸法：直径200 mmウエハー 産業機器 15

金属3Dプリンター Metal AM Machine JAM-5200EBM 電子ビーム金属3Dプリンター 敷き詰めた金属粉末に電子ビームを照射して溶融固化させ、1層分ずつ積み上げて立体物を造形するパウダー ベッド方式の金属3Dプリンターです。切削・鋳造等の従来の金属加工では難しい3次元複雑形状物を3Dデー タから直接造形できます。高出力・高速で高密度造形ができる電子ビーム金属3Dプリンターにより、高品質 で再現性の高い生産が可能です。 ● 造形範囲：最大Φ250 mm × 400 mm (H)　※造形材料・仕様による ● 電子ビーム出力：最大6 kW 成膜関連機器・材料生成機器 Industrial Equipment for thin-film formation and material processing BS series / EBG series 電子ビーム蒸着用電子銃 薄膜形成用の真空蒸着用電子銃・電源です。酸化膜、窒化膜、金属膜等、用途に応じて選択できます。 長寿命フィラメントを採用し、多層膜や連続蒸着に適した電子銃もあります。 BS-60211DEM BS-60060DEBS 形式 主な仕様 BS-60211DEM 最大10 kW / 金属膜用 / 4点または6点ルツボ選択 BS-60060DEBS 最大6.4 kW / 酸化膜用 / ルツボオプション対応 EBG-102UB6S 最大10 kW / 酸化膜・金属膜兼用 / 6点ルツボ付属 EBG-203UB6S 最大20 kW / 酸化膜・金属膜兼用 / 6点ルツボ付属 ※別途電子銃電源、導入端子、ケーブルが必要です。 EBG-102UB6S EBG-203UB6S BS-60610BDS / BS-60310BDS ボンバード蒸着源 電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。低ダメージ、低欠陥、低吸収の成膜に適して います。BS-60610BDSではライナー大容量化とハイレート化を実現しています。 ● 最大スキャンスピード：125 MHz 形式 主な仕様 ● 最大材料寸法：直径200 mmウエハー BS-60610BDS BS-60310BDS BS-60610BDS 最大4.8 kW / 6点ライナー / 大容量・ハイレートタイプ BS-60310BDS 最大1.2 kW / 6点ライナー ※別途ライナー、電子銃電源、導入端子、ケーブル等が必要です。 産業機器 16

成膜関連機器・材料生成機器 Industrial Equipment for thin-film formation and material processing JEBG series 直進形電子銃・電源 真空蒸着や真空溶解で使用される高出力の電子ビーム源です。電子ビームは大面積を高速で走査することが できるため、材料表面の均一な加熱が可能です。制御ソフトにより様 な々走査パターンを作成することができます。 形式 主な仕様 JEBG-3000UB 最大300 kW　偏向角X / Y最大±30° JEBG-1000UB 最大100 kW　偏向角X / Y最大±30° JEBG-3000UB JEBG-1000UB EBG-300UA 最大30 kW　　偏向角X / Y最大±30° BS-80011BPG / BS-80020CPPS 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃 / プラズマソース 真空装置内に設置し、高密度なプラズマを発生させるプラズマ源です。イオン 形式 プレーティング（プラズマアシスト）法により、光学薄膜等の膜特性を向上させる BS-80011BPG ことができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 プラスチックや有機フィルムへの真空蒸着アシストおよび表面改質に有用な低温用 BS-80020CPPS プラズマソースもあります。 BS-80011BPG BS-80020CPPS BS-04 series ロータリーセンサー 水晶振動子式膜厚コントローラーに接続して真空蒸着やスパッタリング時の成膜レートや膜厚を計測するための 多点式センサーです。水晶振動子（クリスタル）が 6 枚ないし12枚装着されており、クリスタルが寿命になると次の クリスタルへ移動してそのまま使用できるため、多層膜や厚膜の成膜に適しています。チャンバー内のセンサー 長さを選択でき、またヘッドの角度も2種類あるため、小形から大形装置まで任意の場所に取り付けが容易です。 BS series 研究開発用電子ビーム蒸着装置 研究開発に適した電子ビーム蒸着装置です。リフトオフ蒸着などの低温、低ダメージ、低欠陥など目的や用途 に応じた様々なオプションを追加することが可能で、カスタマイズに対応します。 産業機器 17

TP series 高周波誘導熱プラズマ装置 高周波誘導により生成させる約10,000度の高温・高エネルギーの熱プラズマ中へ原料（粒子/液体/ガス）を 導入し、微粉末球状化、ナノ粒子や複合粒子の合成、高速厚膜合成、ガス分解などを行います。原料やガス 種を問わず、酸化、還元、窒化等の反応処理や改質も可能です。微粉末球状化装置やナノ粒子合成装置を 用途に応じて提供します。 TP-40020NPS ナノ粒子合成装置 TP-99260FDR 粉末供給装置 サブミクロン～ 100 µm以上の微粒子を安定供給可能なテーブル式パウダーフィーダーです。配管を通して キャリアガスと共に微粒子を供給します。凝集性が高く流動性の悪い数ミクロン以下の粒子も連続的に供給 可能です。約0.1 ～ 100 g/min以上の範囲内で供給できます。密閉構造のため減圧雰囲気下への供給が 可能です。単一組成粒だけでなく、数種類の混合粉も混合比を変えずに連続的に供給可能です。粉末供給の リアルタイムモニター機能、フィードバック機能および外部制御機能を有しています。 産業機器 18

No. 0309H629C (Kp)