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フェイスダウン方式を採用した高性能枚葉式常圧CVD装置 A200V カタログのご案内です。
±2％以内の膜厚均一性
パーティクル発生抑制
コンパクトな装置構成
良好な段差被覆性
低温プロセス対応
メンテナンス性向上
安全性の向上
このカタログについて
| ドキュメント名 | フェイスダウン方式を採用した高性能枚葉式常圧CVD装置 A200V |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 566.8Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社天谷製作所 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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