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株式会社天谷製作所のカタログ一覧

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連続式を極めた高生産性常圧CVD装置 AMAX800V

連続式を極めた高生産性常圧CVD装置 AMAX800V カタログのご案内です。

8インチ 毎時100枚の高スループット SiCトレー採用による重金属汚染対策と長期安定プロセス メンテナンス性の向上

6インチ以下小口径ウェハ用大量生産常圧CVD装置 A6300...

6インチ以下小口径ウェハ用大量生産常圧CVD装置 A6300S カタログのご案内です...

6インチ 毎時120枚のスループット SiCトレー採用による重金属汚染対策

フェイスダウン方式を採用した高性能枚葉式常圧CVD装置 A2...

フェイスダウン方式を採用した高性能枚葉式常圧CVD装置 A200V カタログのご案内...

±2%以内の膜厚均一性 パーティクル発生抑制 コンパクトな装置構成 良好な段差被覆性 低温プロセス対応 メンテナンス性向上 安全性の向上

半導体製造用の常圧CVD装置 太陽電池製造用の常圧CVD装置...

種類豊富に取り揃えています。

半導体製造用、太陽電池製造用等様々な用途に対応 少量生産から大量生産まで対応 SiO2、BPSG、BSG、PSG、AlOx等様々な膜種を形成 SiCトレーの採用により重金属汚染を防止 低温(200℃)から中温(500℃)領域まで幅広い成膜が可能

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