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R&D用薄膜実験装置・コンポーネント

製品カタログ

研究開発・基礎研究分野に最適なコンポーネント・各種実験装置をご提案いたします。

【掲載製品】
◆nanoPVD-S10A 卓上型マグネトロンスパッタリング装置
◆nanoPVD-T15A 卓上型有機膜・金属膜蒸着装置
◆nanoCVD 卓上グラフェン合成装置
◆nanoCVD-WPG ウエハースケールグラフェン合成装置
◆MAG series マグネトロンスパッタリングカソード など

◆詳細はカタログをダウンロードしご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

このカタログについて

ドキュメント名 R&D用薄膜実験装置・コンポーネント
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 3.1Mb
登録カテゴリ
取り扱い企業 テルモセラ・ジャパン株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

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【MiniLab(ミニラボ)】フレキシブル薄膜実験装置
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nanoPVD-S10A RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
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nanoPVD-T15A 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
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テルモセラ・ジャパン株式会社

このカタログの内容

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High-performance magnetron sputtering cathode MAG seriesマグネトロンスパッタリングカソード High-vacuum magnetron sputtering sources DC, RF, PulsedDC, HiPIMSに対応 NEW! 高真空、メンテナンス性に優れたマグネトロンカソード ターゲットサイズ:Φ2”,Φ3”,Φ4(” 厚さ:1/16"~1/4”) 各種フランジ接続, 水冷式, 傾斜(45°)ヘッドオプション 高純度スパッリングターゲット材料 Φ1inchサイズからご要望の材質のターゲット材に対応致します。 Moorfield Nanotechnology社(英)の長年のプロセス経験より、最適・安価な材料をご提案致します。 ◉ Standard Materials: Al, Cr, Cu, Ni, Fe, ◉ Precious Metals; Au, Pt, Ag, Pd, Ir, Ru, ◉ Oxides; SiO2, Al2O3, BaO, ◉ Nitrides; AlN, BN, CrN, HfN, etc.. 〒103-0027 東京都中央区日本橋3-2-14 新槇町ビル別館町第一 2F Tel:03-6214-3033 Fax:03-6214-3035 sales@thermocera.com
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前面スライドドア 背面メンテナンス用開閉ドア 空圧式開閉補助 026グローブボックス組立図 026ヒンジ開閉式チャンバー