CVDやエッチングもプロセス管理が必要とは思いませんか？
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-201FはQuleeシリーズのエッチング、CVD、ALD装置等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。 アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です
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このカタログについて
| ドキュメント名 | CVD/ALD/エッチングプロセス向け 腐食性/反応性ガス対応質量ガス分析分析計 Qulee RGM2-201F |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 1.1Mb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社アルバック (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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スライド 1
CVD/エッチング/ALD装置対応プロセスガスモニタ
Qulee RGM2-201F
半導体および電子部品市場は、激しい競争の中でますます微細化が進んでおり、近年、各種真
空装置の歩留まり管理が重要視されています。しかしながら、これまでCVDやエッチングプロ
セスに関しては、腐食性の高いガス雰囲気に対する適切な対応が進んでおりませんでした。
当社では、このような環境下でも使用可能な独自の磁石付きクローズドイオンソースを採用し
たRGA(プロセスガスモニタ)を開発し、長寿命化やフットプリントの縮小、メンテナンス性の
向上を実現致しました。
是非とも、プロセスの管理を強化してみませんか？
日本真空工業会/JVIA表彰
2023年度
真空コンポーネント大賞受賞商品
Qulee RGM2-201Fの特徴
コンパクトサイズ メンテナンスが簡単
排気系・制御系一体型 直交型ガス導入方式によりフィラ
横置きでも縦置きでもOK メント交換が簡単(120分→約10分)
縦置き状態 ランニングコスト削減
240x350mm
フィラメント2本
二次電子増倍管を不採用
生産装置での安定稼働
磁石付きクローズドイオンソースの
採用（高感度・長寿命） 操作性の向上
ファラデーカップ検出器の採用 オールPC制御＋装置連動
（定期的な感度校正が不要） タッチパネルにより現況確認が可能
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スライド 2
CVD/エッチング/ALD装置で
このようなガスを管理する必要はありませんか？
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NH F NF CF SiF WF
ガス種
m/z 17 19,38 52,71 69,88 85,104 184
測定例
アルバック独自の磁石付きクローズドイオンソースの採用により、連続測定
においても安定した測定結果を得ることができます。
1Week
Deposition Cleaning
質量数範囲（amu） 1～200
測定圧力範囲 0.5~20Pa/10~500Paより選択
分解能(M/ΔM) M/ΔM＝1M（10％P.H.)
検出器 ファラデーカップ
感度（A/Pa）※1)※2) 1e-5A/Pa（Ie=50uA）
最小検知分圧(Pa)※1) e-10Pa台(EE50V、Ie500uA時）
全圧測定機能 あり
イオン源 磁石付きクローズドイオンソース
フィラメント Ir/Y2O3 ２本（うち1本は予備）
外形寸法（mm) 502×230×420(WDH)
フォアポンプ なし（装置フォアポンプを使用）
※1) 予備フィラメントは適用外。
※2) 感度は使用ガス種・圧力・履歴によって変動。
RGM2-201F 紹介ページ Youtube
PN-QM01-034-01J