"歩留まり管理は大変"と思っていませんか？
高圧下(1Pa以下)での高精度、高分解能を、革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVACの新型残留ガス分析計/プロセスガスモニタ(RGA)です。
各種生産ラインの設備技術の方々の声を形にしたプロセスモニタの新スタンダードの登場です。
スパッタリング装置のプロセス管理（品質向上、歩留まり向上）に最適です。
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このカタログについて
| ドキュメント名 | スパッタリング装置向け質量ガス分析計 Qulee CGM2 Series |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 717.2Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社アルバック (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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“電子部品/半導体用
スパッタリング装置の歩留まり管理は大変”
と思っていませんか？
ULVACのプロセスガスモニタだから出来る
５つのポイント
H2O監視 リーク常時監視
スパッタリングプロセスにおいて、 リークによるN2やO2が原因で、
H2O監視は重要ポイントの一つ。 窒化や酸化が発生し、最終製品
最適プロセスからH2Oの場合、 の出来栄えが大きく変わります。
多少の差異でも大きな結晶性の シート抵抗の増大を招き反射率
低下につながり場合があります。 や結晶性の低下につながります。
残留不純物監視 差動排気系不要 Big Data解析
プロセス開始前の条件を明確に スパッタリングプロセスにおいて差 ロット管理、品番管理を行うこと
チェックすることは重要で、CH系 動排気系無しで連続測定可能。 でプロセス中のガスデータとの連
のハイドロカーボン、洗浄液の残 そのためクリールーム内のフットプ 携も可能。
渣の監視は必須。ポンプの性能 リントも気にする必要は全くありま 最終製品のデータの後追いも出
確認も併せて行うことも可能。 せん。 来ます。
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スパッタリング装置においてプロセ 最適なProcess条件
ス条件が異なった際のData比較
スパッタリングプロセスにおいて、大
気リークの常時監視は最重要ポイ
ントのひとつ。
大気成分の窒素(N2)や酸素(O2)
の混入は、最終製品への窒化や酸
化によるシート抵抗の増大や反射
率・結晶性の低下を招きます。 ガスラインに微小リーク(N2)
真空計での圧力監視だけでは見逃 があったProcess条件
してしまう可能性があります。
■Qulee CGM2 仕様表
型式名 CGM2-051 CGM2-052 CGM2-101 CGM2-102
質量分離方式 四重極型質量分析計
質量数範囲 1-50 amu 1-100 amu
最小検知分圧 10-7Pa 10-10Pa 10-7Pa 10-10Pa
最大使用圧力 2Pa(リニアリティ/1Pa)ファラデーカップ測定時
電源電圧 DC24V±10%/50W(AC電源でのご利用時はオプションのACアダプタを準備願います)
通信インターフェース Ethernet仕様
ソフトウエア（標準装備） Qulee QCS Ver4.2（Windows 10/11対応）
オプション 自動測定開始･Data保存機能(QIP仕様)、ACアダプタ、LANケーブル(5/10/15m)、
USB-LANアダプタ、スイッチングハブ、ジャケットヒーター、キャリーケース
安心の実績
ULVACはプロセスガスモニタの製造販売が2020年で50年
全世界 Quleeシリーズ Qulee2
10,000台以上の 6,000台以上 全機種
販売実績 販売の リニューアル
大ヒット商品 パワーアップ
Qulee CGM2-101 Qulee BGM2-202
お問い合わせ先
PN-QM01-028-02J