化学気相成長装置の研究開発
  ・原料およびプロセスに関して、スクリーニングから高精度の成膜まで
   一連の実験を短期間に終結させる装置作製
  ・安価な小型研究用装置の販売

化学気相成長装置を用いた依託実験
  ・半導体新規プロセス用の原料探索や基礎実験の依託成膜
  ・新規プロセスの販売、及び知財活用

新規化学気相成長用原料の開発と成膜評価
  ・原料候補の試作合成と成膜評価
  ・試作から評価へとすばやい動きによる開発を基にした知財獲得

少量高付加価値原料の販売
  ・化学気相成長用原料化合物の合成と分析
  ・通常行われない特殊化学分析
  ・化合物の蒸気圧測定、及び輸送実験

代行実験,レンタルラボ、立会実験

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企業情報

会社名 気相成長株式会社
所在地 〒184-0012 東京都小金井市中町2-24-16 農工大・多摩小金井ベンチャーポート301号室
ロゴ
企業説明 化学気相成長装置の研究開発
  ・原料およびプロセスに関して、スクリーニングから高精度の成膜まで
   一連の実験を短期間に終結させる装置作製
  ・安価な小型研究用装置の販売

化学気相成長装置を用いた依託実験
  ・半導体新規プロセス用の原料探索や基礎実験の依託成膜
  ・新規プロセスの販売、及び知財活用

新規化学気相成長用原料の開発と成膜評価
  ・原料候補の試作合成と成膜評価
  ・試作から評価へとすばやい動きによる開発を基にした知財獲得

少量高付加価値原料の販売
  ・化学気相成長用原料化合物の合成と分析
  ・通常行われない特殊化学分析
  ・化合物の蒸気圧測定、及び輸送実験

代行実験,レンタルラボ、立会実験
設立 2008年 7月29日
資本金 4,500,000円
業種 無機化学工業製品製造業
事業内容 ファインケミカルの研究開発 ファインケミカル及びその関連部品・関連装置の製作・販売 ファインケミカルに関するコンサルタント 化学物質の製造・販売及び分析
従業員数 2名
電話番号 042-401-1783
FAX 042-401-1783
WebサイトURL http://www.kisoh-seicho.com/
会社名
気相成長株式会社
所在地
〒184-0012 東京都小金井市中町2-24-16 農工大・多摩小金井ベンチャーポート301号室
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企業説明
化学気相成長装置の研究開発
  ・原料およびプロセスに関して、スクリーニングから高精度の成膜まで
   一連の実験を短期間に終結させる装置作製
  ・安価な小型研究用装置の販売

化学気相成長装置を用いた依託実験
  ・半導体新規プロセス用の原料探索や基礎実験の依託成膜
  ・新規プロセスの販売、及び知財活用

新規化学気相成長用原料の開発と成膜評価
  ・原料候補の試作合成と成膜評価
  ・試作から評価へとすばやい動きによる開発を基にした知財獲得

少量高付加価値原料の販売
  ・化学気相成長用原料化合物の合成と分析
  ・通常行われない特殊化学分析
  ・化合物の蒸気圧測定、及び輸送実験

代行実験,レンタルラボ、立会実験
設立
2008年 7月29日
資本金
4,500,000円
業種
無機化学工業製品製造業
事業内容
ファインケミカルの研究開発 ファインケミカル及びその関連部品・関連装置の製作・販売 ファインケミカルに関するコンサルタント 化学物質の製造・販売及び分析
従業員数
2名
電話番号
042-401-1783
FAX
042-401-1783
WebサイトURL
http://www.kisoh-seicho.com/

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電話番号 042-401-1783
FAX 042-401-1783
所在地
〒184-0012 東京都小金井市中町2-24-16 農工大・多摩小金井ベンチャーポート301号室
電話番号
042-401-1783
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