エネルギー分散形蛍光 X線分析装置 JSX-1000S Element Eye

Scientific / Metrology Instruments エネルギー分散形蛍光X線分析装置 JSX-1000S Element EyeTM Smart Solution for Ultimate Analysis

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 よりスマートに、より多くのユーザーへ JSX-1000S は、タッチパネルを採用した、簡単かつ迅速に元素分析が行える蛍光 X 線分析装置です。 1

シンプルオペレーションを支える高性能 長年培った当社独自のアルゴリズムによる FP（ファンダメンタルパラメータ）法により、 標準試料を使わず高精度な定性・定量分析が行えます。 新開発・自社製 SDD（シリコンドリフト検出器）と新設計の光学系、全エネルギー範囲対応フィルターにより 高感度分析が可能です。 試料室排気ユニット（オプション）を装着することにより軽元素の検出感度が向上します。 ■ シンプルオペレーション 試料をセットし、画面をタッチ するだけの簡単操作です。 分析値・合否判定結果はリアルタイムに更新され、スペクトルの確認も容易です。 「セット＆タッチ」のシンプルオペレーション 1試料をセット 2 画面をタッチ 3 分析結果のリアルタイム表示 スワイプで画面を切換え、ピークの有無を確認できます。 2

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 ■ 全エネルギー範囲高感度分析 コリメーター 二次フィルター 最大９種類のフィルター * と試料室排気ユニットにより 一次フィルター 全エネルギー範囲で高感度分析が可能になります。 カラーカメラ X 線管球 SDD 表 1　フィルターと試料室排気ユニットにおける主要元素対応表 * Cl、Cu、Mo、Sb はオプション K-line 9F 〜 20Ca（試料室排気ユニット（オプション）使用時） フィルター開放 K-line 9F 〜 55Cs L-line 30Zn 〜 83 ND（減光）フィルター Bi CI 分析用フィルター * K-line 16S 〜 19K L-line 38Sr〜 53I Cr 分析用フィルター K-line 20Ca 〜 26Fe L-line 52Te 〜 66Dy Cu 分析用フィルター * K-line 27Co 〜 31Ga L-line 67Ho 〜 82Pb Pb 分析用フィルター K-line 32Ge 〜 39Y L-line 78Pt〜 83Bi Mo 分析用フィルター * K-line 38Sr〜 44Ru Cd 分析用フィルター K-line 42Mo 〜 51Sb Sb 分析用フィルター * K-line 49In 〜 55Cs 0 5 10 15 20 25 30 35（単位：keV） 濃度　Fe,Co,Ni,Cu,Zn, Pb：10 ppm 濃度　Pb：10 ppm 濃度　Cd：10 ppm 　　　Zr： 1 ppm keV keV keV ■ オプション ・ 試料室排気ユニット ・ 多試料自動交換ユニット 　真空中で分析を行うことで軽元素（F 〜 Al）の 　最大１２個のサンプルを自動交換し、 感度向上が期待できます。 連続測定を自動実行します。 F（フッ素）検出例　メンブレンフィルター Na Al Mg ー青：真空 ー赤：大気 S keV keV 3

■ 高精度定量分析 新開発のスマート FP（ファンダメンタルパラメータ）法により、標準試料を準備することなく、かつ自動的に 残成分および厚さの補正を行った高精度な定量結果が得られます。 （残成分補正および厚さ補正機能は、有機物試料のみに対応しています） 表 2　ポリエチレン分析例 厚み 補正 Cr Zn Cd Pb 自動バランス 0.5 mm 0.008 0.037 0.001 0.002 99.76 無 3.8 mm 0.012 0.109 0.004 0.006 99.64 0.5 mm 0.011 0.137 0.015 0.010 99.54 有 3.8 mm 0.011 0.134 0.016 0.011 99.55 標準値 0.010 0.125 0.014 0.010 ■ ハイスループット 新開発の高感度 SDD（シリコンドリフト検出器）とショートパス光学系により、当社従来機（JSX-3100RⅡ） と比較して最大約 7.6 倍のスループットを実現しました。 表 3　Cd 10 ppm・Pb 50 ppm の測定時間による比較 材 料 元 素 スループット Cd 7.6倍 PVC Pb Element EyeTM JSX-3100RⅡ Cd 真 鍮 Pb ■ ソリューションの提供 ソリューションアプリは、あらかじめ登録されたレシピに従い、目的の測定分析を自動実行します。 ソリューションアプリリストから目的のソリューションアイコンを選択するだけで、簡単に分析結果が得られます。 ソリューションアプリは、多種多様な業界において簡単分析を提供します 標準：Standard Solution ● RoHS 分析ソリューション（金属） ● RoHS 分析ソリューション（プラスチック） ● 簡易分析ソリューション（金属：大気 / 真空 *） ● 簡易分析ソリューション（有機物：大気 / 真空 *）　 ● 簡易分析ソリューション（酸化物：大気 / 真空 *） * オプション オプション：Optional Solution ● Ni メッキスクリーニングソリューション ● Sn メッキスクリーニングソリューション ● ハロゲンスクリーニングソリューション ● フォレージソリューション 4

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 TM Element Eye によるスマート・アシスト 蛍光 X 線分析装置は、簡単な試料調整または試料調整なしに元素分析が可能です。 お客様の分析を Element EyeTM は簡単操作でアシストします。 SEM - EDS 　XRF 固体分析アシスト XRF：全砂粒を分析 SEM：反射電子像 EDS MO フィルター Si Kα + a Zr K α + b Zr Lα OKα Zr K β CKα a b keV Energy(keV) ジルコニウム（Zr）は、海浜や河川の砂に含まれています。しかし、全ての砂にZrが含まれているわけではありま せん。XRFを用いることで、砂粒群にZrが含まれているかを迅速に判別することができます。また、SEM-EDSを 利用すると、Zrが存在する砂粒を特定することができます。 XRFとSEM-EDSを併用することで、目的元素の所在を絞り込むことができます。 XPS　XRF 薄膜分析アシスト XRF XPS プリント基板 1 1, Cu 各層の厚み分析結果 緑色：Cu 2 2, Ni 3 3, Cr 第 1 層　Cu：48 nm 桃色：Ni 第 2 層　Ni：43 nm 青色：Cr 4 4, ポリイミド 第 3 層　Cr：10 nm 赤色：O keV Etching depth(nm) XPSで多層薄膜試料のデプスプロファイルデータ（深さ方向分析）を取得する場合、あらかじめ各層の膜厚が分 かっていると、適切なエッチングの条件を設定することができます。XRFを用いると、多層膜の厚みを迅速に求め ることができます。右のデプスプロファイルデータは、XRFで求めた膜厚をもとにエッチンングの条件を設定し、 得られた結果です。XPSでは、主成分の膜構造に加え、不均一な酸素の分布も知ることができます。 NMR　XRF 液体分析アシスト XRF NMR 20111219_K2PtC16_single_pulse-4-5.jdf FP 法 single_pulse Pt 信号 Pt　0.36 mass％ keV X: parts per million : Platinum-195 NMRは有機材料の構造解析に広く用いられており、主に水素（1H）や炭素（13C）が測定対象となっています。 1H や13C以外の核種を測定する場合は、核種の濃度によって感度が変わることから、あらかじめ試料に含まれる成分情 報を入手することで、適切な測定条件を見積もることができます。XRFを利用すると、Ptなど含有元素の種類と濃 度を簡単に知ることができます。 5 CPS CPS/mA CPS/mA [ x1. E-3 ] Counts Intensity(arb.unit) (thousandths)

■ 主な仕様 ＆ オプション 主な仕様 検出元素範囲 Mg 〜 U F 〜 U（オプション） X 線発生装置 5 〜 50 kV　1 m A ターゲット Rh OPEN、ND（減光フィルター）、Cr、Pb、Cd フィルター　最大 9 種　自動交換 Cl、Cu、Mo、Sb（オプション） コリメーター　3 種　自動交換 0.9 mm, 2 mm, 9 mm 検出器 シリコンドリフト検出器 試料室サイズ 300 mmφ × 80 mmH 試料室雰囲気 大気　/　真空（オプション） 試料室観察機構 カラーカメラ 操作用コンピューター Windows®　タッチパネル式デスクトップパソコン 分析用ソフトウェア 定性分析（自動定性、KLM マーカー、サムピーク表示、スペクトル検索） 定量分析（バルク FP 法、検量線法） RoHS ソリューション（Cd,Pb,Cr,Br,Hg) 簡易分析ソリューション レポート作成ソフトウェア 日常チェック用ソフトウェア 管球エージング、エネルギーチェック、強度チェック ＊ Windows は米国マイクロソフト社の米国もしくはその他の国においての登録商標または商標です 主なオプション JSX-1000S 設置図 ● 試料室排気ユニット ● 薄膜 FP 法分析ソフトウェア ● 多試料自動交換ユニット ● サムピーク除去ソフトウェア ● フィルターセット ● Ni メッキスクリーニングソリューション ● 高感度コリメーター ● Sn メッキスクリーニングソリューション ● フィルター FP 法分析ソフトウェア ● ハロゲンスクリーニングソリューション Table (1,800 × 750) ● UTW 検出器 ● フォレージソリューション 設置条件 500 1,800 電 源 単相１００-120 V ±10％　１５A　５０/６０ Hz D 種接地 電圧変動　±10％以内　（最大電圧　125 V） （但し、1.5 kVA 時の電圧降下 5% 以内） 環 境 室温１８〜２８ ℃　 湿度 30 〜７0％（結露のないこと） 本体サイズ 600 mm (W) x 560 mm (D) x 430 mm (H). 64 kg 腐食性ガスや粉塵および有感振動のないこと 空調の風が直に装置に当たらないこと ＊装置の周辺には 50 cm 以上のメンテナンススペースを設けてください。 ＊装置の外観・仕様は、改良のため予告なく変更する場合があります。 ＊本体と PC を置くテーブルとイスは、お客様でご用意ください。 X 線装置設置に関する届出について 本装置の使用について、労働安全衛生法、労働安全衛生規則 （安衛則）および電離放射障害防止規則（電離則）にしたがっ て装置の設置手続きが必要です。詳細につきましてはお問い 合わせください。設置要項書のご案内をさせていただきます。 6 750 500

No.1108B555C(Bn)