1/2ページ

このカタログをダウンロードして
すべてを見る

ダウンロード(1.4Mb)

小型スパッタリング装置

製品カタログ

研究開発の加速から小規模生産までを実現します

当社S600/S800装置のユニットが搭載可能な小型スパッタリング装置

このカタログについて

ドキュメント名 小型スパッタリング装置
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 1.4Mb
登録カテゴリ
取り扱い企業 パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

この企業の関連カタログ

インクジェットコーター装置
製品カタログ

パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社

開発用インクジェット印刷装置
製品カタログ

パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社

インクジェット曲面加飾装置
製品カタログ

パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社

このカタログの内容

Page1

スライド番号 1

2020 小型スパッタリング装置 カタログ ご要望の成膜プロセスにお応えする多様なユニットを準備 研究開発の加速から小規模生産までを実現します 制御盤/電源ラック カソード 制御パネル 成膜室 L/L室
Page2

スライド番号 2

機種名 小型スパッタリング装置 ■ 特 長 ● φ8インチ基板/φ300㎜ターゲットに対応 (最大) ● 簡易のロードロック室を装備 (1枚投入) ● 基板セット後の搬送/成膜プロセスは自動制御 ● サセプタの昇降動作にてT/S距離の調整が可能 ● 当社S600/S800装置のユニットが搭載可能 ● 研究開発から小規模生産まで幅広い用途に対応 多様なユニットが搭載可能 ●最大φ8インチ基板まで対応 ●成膜室には様々なユニットが搭載可能 ・DC/RFカソード ・MPスパッタ(独自技術) ・Arクリーニング ・逆スパッタ ・基板バイアス ・基板加熱 ・基板冷却 ・チムニー冷却 スパッタカソード ●磁場設計は当社がシミュレーションにて設計し、 お客様のご要望に最大限対応 T/S調整機構 ● サセプタの昇降動作によるT/S距離調整で、 ・種々の成膜材料にて面内分布の高均一化を実現 ・ターゲット寿命まで膜厚分布の均一性を維持 ロードロック室 成膜プロセスフロー (簡易式L/L仕様) ●目的に応じて、次の形態から選択可能 ① 簡易式 (手動にて基板を投入) ② 真空保持式 (基板を投入した真空容器をセット) 簡易式 真空保持式 > 成膜後の基板を真空状態で取り出すことが可能 蓋を開けて基板を投入 基板投入済み 真空容器をセット 仕 様 対応基板サイズ ~ φ8インチ ターゲットサイズ φ200, φ250, φ300㎜ プロセスユニット数 1基 装置動作 自動制御 (基板セット後) 装置本体サイズ 約 W600㎜×D1400㎜×H1300㎜ ロードロック室 詳しくはホームページ https://www.panasonic.com/jp/company/ppe/jigyo/prod_02_04.html お問合せは・・・ パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社 〒571-8502 大阪府門真市松葉町2-7 TEL 06-6905-4882 FAX 06-6905-4104 このカタログの記載内容は 2020年4月現在のものです。 Ver.2020.04 ● 製品の色は印刷物ですので実際の色と若干異なる場合があります。● 製品の定格およびデザインは改善等のため予告無く変更する場合があります。 ● 本製品は日本国内向けの仕様です。 海外でのご使用の際は、販売店にご相談ください。 ● ご使用の際は、取扱説明書をよくお読みの上正しくお使いください。