四重極質量分析計　HIDEN ANALYTICAL社モデルEQP シリーズ

HIDEN ANALYTICAL社 モデルEQP シリーズ 高感度エネルギー質量計による、プラズマ中のイオン、中性粒子、ラジカルの 観測、管理、特性評価

HIDEN ANALYTICAL社製 モデルEQPシリーズ-プラズマ診断および 特性評価向けのエネルギーアナライザー付四重極質量分析計 プラズマサンプリングインターフェース X プラズマサンプリングは30～300µm径レーザードリル加工のオリフィスを介 して行います X オリフィスは薄層部品を使用することで、プラズマサンプリングに特化させ ています X イオン化質量分析計はソフトウェアで制御され、最小プラズマ摂動用に最 適化されています モデルEQP プラズマサンプリングインターフェイス 内部イオナイザー X 内部の電極を調節することで、電子、中性粒子、ラジカルに加えて、　　 +ve および –ve イオンの検出が可能です イオン化ソース Xイオナイザーの印可電圧はソフトウェアにより制御及び調整可能で、電子エネ ルギー（electron energy:4-150 eV）および熱電子放出（emission current: 0.2-2000 µA）の制御をします Xトリアコートイリジウムフィラメントは放射状に対称なケージを備えており、電 子衝撃、出現電位、およびソフトイオン化モードで、プラズマからの中性種とラ ジカル種を特性評価します XEQPイオン化ソースの重要な機能として、ソースケージ内への電子の閉じ込 モデルEQP イオン化ソース めがあります。これにより、ラジカル種とエネルギー中性粒子を分析するため の出現電位測定を正確に制御できます Xオプションの電子付着イオナイゼーション機能により、プラズマからのラジカル 種に電子を付着させ負イオンにすることで、ラジカルの接触断面積の分析が可 能になります。 エネルギーアナライザー XモデルEQPアナライザーは、イオンの最小飛行経路を分析し、すべてのエネ モデルEQP 45°偏光 静電セクター型エネルギーアナライザー ルギーで一定の透過率を提供します X45°静電平行平板エネルギーアナライザーを使用して、アナライザー内のイ オン飛行摂動を最小限に抑え、エネルギー分解能を最適化します Xイオンエネルギー分析範囲+/- 100 eVまたは+/- 1000 eVにおけるイオンエネ ルギー透過変換 Xソフトウェア制御のエネルギースキャン増分は0.05 eVからで、＜0.25 eV FWHMエネルギー分解能となっています XモデルEQPシステムは、オプションの外部電源で10 keVまでのイオンエネル ギーを測定できます Ion Energy eV 典型的なエネルギースペクトラムデータ例 Sem C/S

100 90 80 70 60 C+ at ~20PPB 50 40 30 20 100PPB 10 0 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 mass : amu The Hiden EQP Series - Mass and Energy Analysers for Plasma Diagnostics and Characterisation 1.6e+08 1.4e+08 1.2e+08 1e+08 8e+07 6e+07 4e+07 90000 真空計取付ポート 2e+07 80000 ICF70 0 70000 35 36 37 38 36 40 41 42 43 44 45 mass : amu 60000 50000 FWHM 0.24ev 40000 パルスイオン モデルEQP アバンダンス感度- 典型的 30000 カウント検出器 なAr+ and ArH+ 質量分解能 スペクトラム 20000 10000 0 100 8.5 8.7 8.9 9.1 9.3 9.5 9.7 9.9 10.1 10.3 10.5 energy eV トリプルフィルター 90 四重極質量分析計 80 70 モデルEQP エネルギー分解能 60 C+ at ~20PPB 50 40 30 20 100PPB 10 0 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 mass : amu モデルEQP 感度 - CF4プラズマから のC +イオンの20 ppb検出 241mmから750mmまでのプラ ズマサンプリングを提供する 45˚セクターフィールド イオンフライトチューブ エネルギーアナライザー 1.6e+08 1.4e+08 差動排気用ターボ分子ポンプ ICF114ポート 1.2e+08 1e+08 モデ8ルe+0E7 QP-6 3F 質量分析器 検出器 6e+07 質量分析計 4e+07 Xデジタルイオンカウント検出器は、7桁ダイナミックレンジタイプ 2e+07 を標準搭載しています。 計測カウントは、1c/s分解能の32ビッ XモデルEQPシステムにはHIDEN ANALY0T3I5C3A6 L37社38の36 ト40リ4プ1 4ル2 4フ3 4ィ4 45 トカウンターを介して行われます。 mass : amu ルター四重極質量分析計が搭載されています X別途ファラデーカップオプションは、高密度プラズマアプリケー ション用に範囲を最大5 E10 c/sに拡張できます X20、200、300、510、1000、2500、5000の質量範囲 XモデルEQP MASsoft プロフェッショナルソフトウェアは、積算カ ウント、秒間カウント、または混合カウントでデータを取得分析し X6mm標準、9および20 mmの四重極ポール径は、スペシャリスト ます。質量スキャンとエネルギースキャンの反復により、カウン 向けのプラズマサンプリング研究用に開発されています トを累積平均化することで、微量成分の分析で信号対ノイズ比 Xトリプルマスフィルターシステムは、RFおよびDCフィルター機能を を大幅に増加することができます 備えたメインフィルターと、RFのみのプレフィルターおよびポストフィ ルターで構成されています。この技術は、一次質量フィルターの入 口と出口でのフリンジフィールドの影響を最小限に抑え、質量分解 X制御用のTTL出力(5ch標準装備）は、モデルEQPコントローラ 能と透過率を高めます。 トリプルフィルター技術により、メインフィ の外部コネクタを介して接続できます ルターへの蒸着などの影響が最小限になるため、プラズマ蒸着で Xエネルギーおよび質量を100 nsの時間分解能で信号識別 使用されるクラスターや金属化合物などの高質量種の分析が長 （接続ケーブル及びプログラムは別途オプション） 時間に渡って可能になります。 X別途オプションのマルチチャネルスケーラー（MCS）デバイス X存在比感度は0.1 ppmで、最小検出プラズマ種は20 ppbです。 は、HiPIMS、プラズマの立ち上がり/変調/アフターグロー実験、 イオン飛行時間測定などの過渡事象分析に50 nsの時間分解能 X質量フィルターロッドは、放射状のセラミックで精密に固定され、 モリブデンから精密に加工されています を提供します。 SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s

Hiden EQP Plasma diagnostics Systems HIDEN ANALYTICAL社製モデルEQPプラズマ診断システム HIDEN ANALYTICAL社製モデルEQPシステムは、高透過イオンエネルギー アナライザーとトリプルフィルタータイプの四重極質量分析計を組み合わせ モデルEQP オペレーティングモード た高感度プラズマ診断ツールです。指定したイオンエネルギー質量スペクト 3.5e+06 ルと、プラズマイオンのイオンエネルギー分布を取得分析します。モデル Ar+ IED 3e+06 Inductively Coupled Plasma Source EQPは、中性粒子とラジカルの検出が可能です。電子付着イオン化では、電 2.5e+06 3x10-2 mbar 100W 2e+06 気陰性プラズマ化学におけるラジカル検出機能が強化されています 1.5e+06 1e+06 XX高感度 500000 0 プラズマイオン、中性粒子、ラジカルのサブppm検出機能 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 electron-energy: V XXイオンエネルギー分析 イオンエネルギー分布 対象+veと-ve イオン プラズマイオンのイオンエネルギー分布は数秒で取得されます。 Replace ‘Mass Spectra’ with this one: ±100 eVおよび±1000 eVのエネルギー範囲バージョンが選択可能です。 1e+06 + + + Ar Ti Replace ElectronN Atta chment ionisation with this one: 100000 2+ 6000 Ti Plasma Off 100005000 Plasma On XXHiPIMS, アフターグロー、パルスおよびレーザーアブレーション 4000 1000 時間分解研究用の標準TTL信号ゲーティング入力端子がシステムに含まれ 3000 100 2000 ています。 設定変更が可能な信号識別オプションは、プラズマパルスを介して 101000 0 指定時間軸の自動データ収集機能を搭載しています。ここでの ゲーティング 0 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 10 20 30 40 50 mass : amu 解像度は100 nsとなっています Xオプションのマルチチャネルスケーラー (MCS）がコントローラーファーム 指定イオンエネルギーの質量スペクトラム　+veイオン、-veイオ ウェアとMASsoft Professionalソフトウェアを統合して分析処理をします ン、および中性粒子 X50 nsの時間分解能を提供する6000ビンマルチチャネルスカラー分解能 は、ExcelやOriginなどの外部プログラムに取り込んで利用できます Appearance Potential of O + 2 from CO2 10000 9000 8000 400 W plasma 7000 metastable O2 6000 excited state a1Δg XX正イオン・負イオン 5000 4000 イオン測定ソフトウェアモードで登録済みの動作処理を実行することで、 3000 no plasma ground state O - 2 2000 X3 Σ- g 正イオン、負イオン、中性分子モードの間で自動切り替えが可能です。 1000 0 10 10.5 11 11.5 12 12.51 3 13.51 4 14.51 5 electron-energy: V XX中性分子およびラジカル検出 EQP一体型電子衝撃イオン化装置は、中性分子およびラジカル種の分 安定分子からラジカル種を同定するための出現電位スペクトル 析を可能にします。 X電子付着イオン化 このソフトイオン化技術は、プラズマ中の電気陰性種分析のオプションとし CF - 3 Ions By Attachment by in CF4 3500 て用意されており、中性分子およびラジカル分析機能を拡張します。 3000 2500 2000 Plasma On Plasma Off XX 1500 出現電位スペクトラム 1000 モデルEQPイオナイザーは、出現電位スペクトルの電子エネルギーを正確 500 0 にスキャンする機能を持っており、すべてのイオン源パラメーターの精密制 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 electron-energy: V 御をすることを役割としています。出現電位スペクトルは、プラズマ中性種 のフラグメンテーションと励起状態を分析します。 電子付着イオン化スキャンは、電気陰性ガスからプラズマで生成さ れたラジカル種を特定します。 SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s SEM : c/s

Example EQP Data EQPデータ例 双周波数 RF プラズマの イオンエネルギー分布 ここでは、2つのRF電源と、2つのプラズマ検出器を使用することで、 質量分析計・エネルギー質量計を介して、正イオンと負イオンのイオ ンエネルギー分布（IED）を測定しています。1つ目のリアクターは容量 結合インプットを使用し、もう一方は誘導結合インプットを使用してい ます。 さまざまな位相関係を、2.26、13.56、および27.1 MHzでデータを 表示しています。IEDは、異なるイオン種間で取得データの違いを明 確に示しています。 この違いは、プラズマ/表面シース領域で発生す 位相差0℃〜180℃の13.56および27.12 MHzの2.5x10-2 mbarのアルゴンプラズ るイオン分子の衝突に起因しています。 マのED。 指定位相差2.26 MHzおよび13.56 MHzの混合信号に対する チヤンバー圧力6 Pa の 窒素プラズマ中のN +イオンのIED。 指定位相差での亜酸化窒素プラズマからのO-イオンのIED. XX20 kHz AC電源で駆動される平行平板アルゴンプラズマ。 Ar+ ion energies. 6x10-2 mbar 20 kHz plasma. X 質量分解イオンエネルギー分析用MCSデバイスは200 ns間隔 でのAr +プラズマ分布を収集します 12000 10000 8000 X このデータは、通常、平均時間測定で取得できないイオンエネ 6000 ルギースペクトルの特徴を表示しています 4000 2000 0 20 eV 0 eV RFプラズマの時間分解Ar +イオンエネルギー分布

EXAMPELXEA EMQPPL ED AETQAP DATA Hiden EHQidPe Pn lEasQmPa P Dlaisamgnao Dstiaicg Snyosteicm Ssystems Plasma etchinPgl aosf mHaf-beatcsheidn gh iogfh H kf -tbhains efidlm hsigh k thin films The Hiden EQP SyTshtem H isd eanEaQdvPaSncysetde mpl ai s manaadvanced plaEsmQaP OperatingE QMPo dOepserating Modes diagnostic tool withdicaogmnobsinticedto hoigl whitrhacnosmibsisnieodn hioignh transmission ion 3 mTorr, 500Watt 3 mT5o mrr,T5o0rr0,W30a0ttWatt 5 mTorr, 300Watt • Ion Energy Distribut•io Inosn oEf nserlegcyteDdis +trivbeutions of selected +ve QMS-measured plQasMmSa- mioenaicsusrpeedc pielsa samrea s ihoonwicnspinecies are shown in energy analyser anedn eqrugaydarunpaloylsee mr ansds qspueacdtrruopmoelete mr, ass specatnrdo m-vee itoenr,s. and -ve ions. (a) and (b). Higher(am)aasnsd i o(bn)ic. Hspigehceier sm masesa siounriecds bpyecies measured by acquiring both maassc qsupiericntgra b aott hspmeacsifsie sdp ieocntrean aetr gsipeescified ion energies モデルEQP データ例 QMS are shown inQ (cM) Sa nadre ( dsh).o Twhne idna (tca) iann tdh e(d le).f tThe data in the left and ion energy disatrnibdu itoionnesn oefrgseyledcistterdib uptliaosnms ao fiosnesle. cted plasma i3o.5e+n06 s. 3.5e+06 column are taken acto 3lu mTnoarrrea ntadk 5e0n0aWt 3 ( hmigThordreansdit y500W (high density The advanced EQPThioen aisdevrapnrcoevdid EeQs Pfoironeisuetrapl raonvdides for neutral and Ar+ IED Ar+ IED 3e+06 3e+06 Inductively Coupled Inductively Coupled radical detection, trhaed ieclaelc dtreotnecattitoanc,htmhee netl eiocntriosnataiottnachment ionisatio Plasma Source plasma condition) pwlahsilme tah ocosen dinititohne) rwighhilte c tohloumn Plasma Source se in the right column 2.5e+06n 25mT 100W 2.5e+06 25mT 100W are taken at 5 mToarrrea ntadk 3e0n0aWt 5 ( lmowTodrrenasnidty 3p0la0Wsm (alow density plasma feature further enhfaenactuinrge tfhuert hdeertecnthioan cianpga tbhieli tdyefoterction capability2e+f0o6 r 2e+06 condition). condition). Hiden EQP HSiydsetne mEQs PH SigyhstSeemnsitivHitiyghMSaesns saitnivdit yEnMeargssy Aanda lyEsneerrsg fyoAr nalysers for radicals in electronreagdaictaivles ipnlaeslemcatr ocnhegmaistitvreie ps.lasma chemistries. 1.5e+06 1.5e+06 Data ref: Data ref: Monitoring, CMoonntirtolr ianngd, Cohnatrraocl taenridsa Ctihoanraocf tIeornisa, tion of Ions, 1e+06 1e+06 • High Sensitivity• High Sensitivity Ryan M. Martin, JaRnyea Pn. CMh. aMnagrtin, Jane P. Chang Neutrals andN Reaudtriaclasl sa nind PRlasdmica.ls in Plasma. 500000 500000 Sub PPM detectionSuobf pPlaPsMmdae itoencsti,oneouftrpallass amnad ions, neutrals and0 0 0 10 20 30 40 50 0 60 10 70 20 80 30 90 40 100 50 60 70 80 90 100 University of CalifoUrnniaiv,eLrsoisty AonfgCealelisfo, rUnSiaA, .Los Angeles, USA. radicals. radicals. Cycle number 0000001 energCy:y Vcle number 0000001 energy: V J.Vac. Sci. TechnolJ. .AVa 2c7. (S2c) i. Technol. A 27(2) • Ion Energy Ana•lysIoisn Energy Analysis マグネトロンスパッタリング – 正・負イオン質量分析計 Ion Energy distribuIotionnEsn oefrgpyladsmistari biountiso nasre of plasma ions a•r eMass Spectra at sele•c Mteads iso nS peneecrtgraieast fsoer lected ion energies for acquired in secondasc,q1u0ir0e de Vin asnedc o10n0d0s ,e1V0 0e neeVr gaynd 1000 eV+ evnee iorgnsy, -ve ions and +nevuet rioanlss., -ve ions and neutrals. EXAMPLE EQP DEAXTAMPLE EQP DATA Hiden EQP PlasmHaid Deina gEnQoPs tPicla Ssymsate Dmiasgnostic Systemrangse versions arer anvgaiela vbelers.ions are available. MagnPelatrsomna estcphMuintgat egorfn iHnefg-tbr ao–s nePd so hpsiguihtti Pkvt letahrs ianm nfagidlem – tcsn hPeinoggsa oittfi ivHef-b iaosned m hniagehsg ska ttshiipvn efi clmiotsrna mass spectra The Hiden EQP System is an advanced plasTmhae Hiden EQP SEysQtePm Ois panearadvtianngce Md poladsemsa EQP Operating Modes • Afterglow, Pulse•dAPftlearsgmloaw, ,a Pnudl sLeadsePrlaAsbmlaati,oannd Laser Ablation 100000 100000 diagnostic tool with combined high transmisdsiaognnionstic tool with combined high transmission ion 3 mTorr, 500Watt 5 mTorr, 300Watt 3 mTorr, 500Watt 5 mTorr, 300Watt • Ion Energy Distributions of selected +ve • Ion Energy Distributions of selected +ve A standard TTL sigAn astl agnadtianrgd iTnTpLuts iisg ninacl lugdaetindg f oinrput is included fo900r00 90000 QMS-measured plasma ionic species are shQoMwnS-imn easured plasma ionic species are shown in energy analyser and quadrupole mass specetrnoemrgeytear,nalyser aanndd q-vuea iodnrsu.pole mass spectrometer, and -ve ions. 80000 80000 (a) and (b). Higher mass ionic species meas(uar)eadn bdy (b). Higher mass ionic species measured by acquiring both mass spectra at specified ionaecqneurirginiegs both mass spectra at specified ion energies time resolved studtiiemse. resolved studies. 70000 70000 QMS are shown in (c) and (d). The data in thQeM leSft are shown in (c) and (d). The data in the left and ion energy distributions of selected plasamnad iionse. nergy distributions of selected plasma ions. 3.5e+06 3.5e+06 The programmableT hseig pnraol gratminmg aobplteio snigpnraolv gidaetsing option provide6s0000 60000 50000 50000 16000 16000 column are taken80a00t 3 mTorr and 500W (hi8g00h0cdoelunmsintyare taken at 3 mTorr and 500W (high density The advanced EQP ioniser provides for neutTrahle a andvanced EQP ion3ies+06er pAr+rIoEDvides for neutral and Ar+ IED 3e+06 Inductively Coupled Inductively Coupled for automatic dataf oacr qauitsoimtioanticfodr adteaf ianceqdu tiismiteion for defined time 40000 40000 14000 14000 plasma condition7)0 0w0 hile those in the right 7c0o00plulamsnma condition) while those in the right column radical detection, the electron attachment iornaisdaictiaoln detection, the el ctroPlnasmaa Stoutrce 2.5e+06 25mT 100Wachment ionisation Plasma Source 2.5e+06 25mT 100W 30000 30000 are taken at 5 mTorr and 300W (low density palraes tmakaen at 5 mTorr and 300W (low density plasma feature further enhancing the detection capafbeailittuyrfeo frurther enhancin2e+g06 the detection capability for 2e+06 slices through the splliacsems tah rpouulsgeh. tGhea tpinlags rmesao pluutilosen. Gating resoluti2o0000n 20000 12000 12000 6000 6000 condition). condition). Hiden EQP Systems High HSeidnesniti vEitQy PM aSsyss atenmd sEneHrigyhASneanlyssiteivristy foMrass and Energy Analysraedrisca lfso inr electronegative plasma chemistrierasd. icals in electronega1t.5ie+v06e plasma chemistries. 1.5e+06 is 100 nanosecondiss .100 nanoseconds. 10000 10000 0 10000 0 10000 5000 5000 Data ref: Data ref: Monitoring, Control and CharaMcotenriitsoaritniogn, CofoInotnrosl, and Characterisation of Ions, 1e+06 1e+06 0 20 40 60 80 0 100 20120 40140 60 80 100 120 140 • High Sensitivity • High Sensitivity 8000 500000 8000 4000 Ryan M. Martin, Jane P. Chang 4000 500000 Ryan M. Martin, Jane P. Chang Neutrals and Radicals in PlasNmeau. trals and Radicals in Plasma. Sub PPM detection of plasma ions, neutrals Saunbd PPM detection of plasma ions, neutrals and • Positive and Ne•gaPtoivseit iIvoen aMnedaNsuergeamtiveen tIon Measurement 0 0 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 6000 6000 University of Cali3fo00r0nia, Los Angeles, USA3.000University of California, Los Angeles, USA. radicals. radicals. Cycle number 0000001 energy: V Cycle number 0000001 energy: V Pre-set software mPordee- se et nsaobftlwe aaruet ommoadteics sewniatcbhlein agutomatic switching 4000 4000 J.Vac. Sci. Techn2o00l.0 A 27(2) 2000J.Vac. Sci. Technol. A 27(2) • Ion Energy Analysis • Ion Energy Analysis between positive iobne,twnegenatpivoes iiotinvea inodn ,nneeugtratlive ion and n•e uAtprpael arance potenti•a lAspppeecatranfocre i dpeontteifnictaiatilosnp oefctra for identification of 2000 2000 1000 1000 Ion Energy distributions of plasma ions are Ion Energy dist•r iMbuastiso Snpse octfraplaat ssmeleac tieodn iso na erenergies for • Mass Spectra at selected ion energies for analysis modes. analysis modes. radical species from pararednict aslt asbplec mieosl efrcoumle ps.arent stable molecules. 0 0 0 0 acquired in seconds, 100 eV and 1000 eV enaecrqguyired in seco+nvdes io, n1s0, 0-v e iVo nasn adnd 1 n0e0u0tr aelsV. energy +ve ions, -ve ions and neutrals. 90 100 110 120 130 14090 150100 160110 170120 180130 190140 200150 210160 220170 180 190 200140 210 21250 160 170 140 180 150 190 160 200 170 210 180 220 190 200 210 220 mass : amu mass : amu mass : amu mass : amu range versions are available. range versions are available. • Neutral and Rad•icNaeluDtreatel actniodn Radical Detection Magnetron sputtering – Positive and negative ion mass spectra 5 lpm CO2, Plasma Reactor: 1 Torr Appearanc5e l pPmot eCnOtia, lP: lmasamssa 3R2eactor: 1 Torr Appearance Potential: mass 32 Magnetron sputtering – Positive and negative ion mass spectra • Afterglow, Pulsed Plasma, and Laser Ab•laAtifotenrglow, Pulsed Plasma, and Laser Ablation 2 100000 10000 10000 HIPIMS and coHnIPveIMntSio annadl csopnuvtteenrtiniogn caol mspuatrteedri n– gm cass and energy spectra 100000 The EQP integral eTlehcet rEoQnPiminptaecgtr aiol neilseecrtrporovides ompared – mas and energy spectra n impact ioniser provides A standard TTL signal gating input is includeAd sftoarndard TTL signal9 00g00 ating input is included for 90000 9000 9000 80000 80000 time resolved studies. time resolved studies. for analysis of neuftorarl aannadly rsaids iocaf ln sepuetrcaile asn. d radical species. 8000 400 W plasma 8000 400 W plasma 70000 70000 2 2 3 3 7000 metastable O2 7000 metastable O2 The programmable signal gating option provTidhe sprogrammable sig600n00 al gating option provides 60000 excited state a1∆ excited state a1 g ∆g 50000 50000 6000 6000 (a) 16000 101M6000 (a) 10M 8000 (b) 10M POSITIVE IONS モリブデンカソード。 六フッ化硫黄ガス。 フッ化モリブE デ= 0ン.5 イeVオンを示す E =N 0E.5G eVATIVE IONSAr (モ1+リ) ブ(b) 810000M for automatic data acquisition for defined timfoer automatic data acquisition for defined time • Electron Attach•mEenletc ItornoinsaAttitoanchment Ionisation 40000 デンカソード。 六Ar(1フ+ッ) 化硫黄ガ 40000 5000 5000 14000 14000 7000 7000 E = 0.5 eVス。 SF⁶⁻、MoF⁵E⁻、 =お 0.よ5 eびV MoF⁶⁻イオ 30000 30000 ンを示す質量スペクトル_140〜22 m/z slices through the plasma pulse. Gating resoslluictieosn through the plas200m00 a pulse. Gating resolution 20000 質量スペクトル_90〜220 m/z This technique of sTohfits i otencishantiqouneo offfesreodft aiosn aisnation offered as an 4000 4000 12000 1M 60100M 3000 3000 no plasma no plasma 11M2000 1M 6000 10000 10000 ground state O2- ground state O2- 10000 N2(1+) 10000 5000 5000 N2(1+) is 100 nanoseconds. is 100 nanoseconds. 0 0 2000 + 2000 3 - 3 - + 0 20 40 60 80 100 120 140 0 20 40 60 80 100 120 140option for the analyospistio onf efolercthtreo naengaalytsivise osfpelceicetsr oinegative species in X Σ g X Σ g 1+ 1+ Ar Ar 1008k000 Cr(1+) + Cr + Cr 100k CArr(1+) 8000 4000 Ar 100k 41000k + + • Positive and Negative Ion Measurement• Positive and Negative Ion Measurement 1000 1000 N2 N2 plasma, further enhpalanscmesa ,thfuer tahnear leynsihsa onfcneesu tthrael sanalysis of neutra0ls 0 6000 6000 3000 3000 Certificate No. 6738 Certificate No. 6738 Pre-set software modes enable automatic swPirtec-hsinetg software modes enable automatic switching 10 10.5 11 11.5 12 12.5 10 13 10.513.5 11 14 11.514.5 12 15 12.5 13 13.5 14 14.5 15 10k 1 k electron-energy: V electron-energy: V 104k000 10k 4000 2000 2000 2 2 between positive ion, negative ion and neutrbael tween positi•v eA piopne,arnaengcea tpivoete inotinalasnpdec ntreaufotr aidlentification of • Appearance potential spectra for identificaatinond o fradicals. and radicals. HIPIMSと一般スパッタリ2000ング比較-質量・エネルギー2000 N (1+) + N (1+) スペ+ クト100ラ0 ム 1000 Manufactured in England bMya:nufactured in England by: analysis modes. analysis modes.radical species from parent stable molecules. radical species from parent stable molecules. 2 2 1k 0 N12k 0 N2 0 1k Cr(1+) 10k Cr(1+) • Appearance Po•te Antpiaple Sapraencctrea Potential Spectra 90 100 110 120 130 140 150 160 170 180 190 200 210 92020 100 110 120 141030 140150 150 161600 170 171080 190 180 200 129100 220 200 210 142020 150 160 170 180 190 200 210 220 mass : amu mass : amu mass : amu mass : amu • Neutral and Radical Detection • Neutral and Radical Detection HIDEN ANALYTICAHLIDLTEDN ANALYTICAL LTD 5 lpm CO2, Plasma Reactor: 1 Torr Appearance Potential: mass 32 5 lpm CO2, Plasma Reactor: 1 Torr Appearance Potential: mass 32 10 10 10 The EQP integral electron impact ioniser proTvhidee EsQP integral electron impact ioniser provides The EQP ioniser feTahtuer eEsQ pPreiocnis10 isioenr fceoantutrroels o pf raelcl iosinon contr•o lE olefcatrlol nion 1 1 10000 10000 attachmen•t iEolneicstartoionn asttcaacnhsm toe nidte inotnifiysation scans to identify HIPIMS andA rc(1o+n) ventional spuAttre(1r+Hi)nIgP IcMoSm apnadre cdo –n vmeanstiso naanld sepnuetrtgeyri nspge ccotrmapared – mass and energy spectra 9000 9000 for analysis of neutral and radical species. for analysis of neutra80l0 0and radica40l0 Ws plasmeacies. 8000 400 W plasma source parameterss,oinucrclued pinagra tmhee tfearcsi,litiynctoluding the facility toradical species producread i cina lt hsep epclaiessm par ofrdoumced in the plasma from 120 10 10 10 420 EUROPA BOU4L2E0V EAURRDOPA BOULEVARD 7000 metastable O2 7000 metastable O2 2 3 3 0 5 10 0 5 10 0 5 10 0 5 10 • Electron Attachment Ionisation • Electron Attachmen60t00 Ionisatioenxcited state a1∆ 1 g 6000 excited state a ∆g 10M accurately scan eleactcrourna etenlye rsgcya fno re alepcptreoanr aenceergy for appeaerlaecntcroenegative gases.electronegative gases. (a) 10MEnergy, (eV) Energy, (e 10M 10M Energy, (eV) Energy, (eV) 5000 5000 E = 0.5 eVV()a) (b) Ar(1+) E = 0.5 eV E = 0.5 eV (b) Ar(1+) E = 0.5 eV 1 1 1M 1M WARRINGTON, WAW5A 7RURNIN,GETNOGNLA, WNDA5 7UN, ENGLAND This technique of soft ionisation offered as aTnhis technique of sof40t00 ionisation offered as an 4000 3000 no plasma 3000 no plasmpa otential spectra opfosteelnectiatel ds psepcetcraie os.f Tsehleected species. The 1M 1M - ground state O2- + + N2(1+) N2(1+) N N + option for the analysis of electronegative speocpietiso ninfor the analys2is of electronegative specigerousnd sitnate O2 000 X3 Σ- g 2000 X3 Σ- g 1+ + Cr1+ + Cr Ar+ Ar Cr(1+) Ar Cr(1+) 1000 100k Ar 100k 1000 appearance potenatipalp sepaeracntrcae p provteidneti adl irsepcetctra provide direct - - 100k Tel: +44 (0)1925 4T4e5l:2+254 4 (0)1925 445225 plasma, further enhances the analysis of neutrals CF4 Ions By Attachment in CF4 CF4 Ions By Attachment in CF 100k + N + N2 2 plasma, further enhances the analysis of neutrals 4 0 0 Certificate No. 6738 Certificate No. 6738 10 10.5 11 11.5 12 12.5 13 13.5 14 14.5 15 10 10.5 11 11.5 12 12.5 13 13.5 14 14.5 15 10k 10k 10k 10k Fax: +44 (0)1925 4F1a6x:5+1844 (0)1925 416518 and radicals. and radicals. electron-energy: V electron-energy: V information to confinirmfor tmhea tfiroangtmo ecnotnaftiromn tahned fragmentation and 2 2 1+ 1+ N2(1+) + N + N2(1+) 1k N Cr(1+) + 1k + Cr(1+) Cr Cr 1k 1k 2 Manufactured in England by: Manufactured in England by: 2 N N • Appearance Potential Spectra • Appearance Potential Spectra excitation state of pexlacsitmataio nesuttaratel sopf epclaiessm. a neutral species. Cr2+ Cr2+ 2+ 10 Cr 10 Cr2+ HIDEN ANALYTICAL LTD HIDEN ANALYTICAL LTD Email: info@hidenE.mcoa.uil:k info@hiden.co.uk 10 10 The EQP ioniser features precision control oTf haell iEoQn P ionise•r Efleeacttruorne sat tparcehcmiseinotn iocnoisnattrioonl oscfaall i 1 1 ns too nidentify • Electron attachment ionisation scans to identify Ar(1+) Ar(1+) 0 0 0 0 source parameters, including the facility to source parameterardsi,cainl scpluedciiensg p rtohdeu cfaedc i liinty thteo plasma from radical species produced in the plasma from 10 10 10 10 420 EUROPA BOULEVARD 10 0 5 10 30 10 50 300 5 010 505 10 10 30 100 5 10 420 EUROPA BOULEVARD 50 30 50 Web Site: www.HiWdeenbA Snaitely:ticwawl.cwo.HmidenAnalytical.com accurately scan electron energy for appearaancceurately scan elelecctrotrnoeng aetinve rggayse 0 fso. r appearance electronegative gases. Energy2, 0(eV) 0 40 20 En6e0rgy, (e4V0) Energy, 0(eV) 60 20 0 En4e0rgy, (e2V0) 60 40 60 mass : amu mass : amu 1 ma1ss : amu mass : amu WARRINGTON, WA5 7UN, ENGLAND WARRINGTON, WA5 7UN, ENGLAND potential spectra of selected species. The potential spectra of selected species. The N+ N+ It is Hiden Analytical’s pIto islic Hyidtoe ncoAnntianluytaicllyali’ms proolivcey ptoro cdounctitn puearlfloyrimapnrocvee a pnrdo dthuecrte pfoerrefo srpmeacnifcicea atinodn st haerere sfourbej escpte tcoi fcichaatinognes. are subject to change. Tel: +44 (0)1925 445225 appearance potential spectra provide directappearance potential spectra pCrFo4- Ivonisd Bye A ttdachimrentc int CF4 CF4- Ions By Attachment in CF Tel: +44 (0)1925 445225 4 Mass and energy sMpaescstr an odf (ean)e HrgIPyI MspSe cotfr aC ro af n(ad) (HbI)P cIMonSv eonf tCior naanl dd c(b s) pcuotntevreingti oonf aCl rd icn sApr uatntedr inNg2 of Cr in Ar and N information to confirm the fragmentation andinformation to confirm the fragmentation and 2 Fax: +44 (0)1925 416518 Fax: +44 (0)1925 416518 1+ Cr1+ Cr TECHNICAL DATA SHETETC 1H7N2ICAL DATA SHEET 172 + + excitation state of plasma neutral species. excitation state of plasma neutral species. atm2+ osphere as useadtm to sdpehpeoresi ta tsh eu2+ sCerNdN t/oN bdNe2+p noasnito tlhaey eCrrcNo/aNtbinNg .nanolaN yer coating. Cr Cr Cr Cr2+ Email: info@hiden.co.uk Email: info@hiden.co.uk 0 Data ref: Purandare0 , EhiasDaariatan rae0nf:dP Huroavnsdeapriea,nE. hJ.iVaasca.riaSnciaTnedc hHnoovl.sAep 2ia6n(2.)J..Vac0 . Sci Technol. A 26(2). 10 30 50 10 30 50 10 Web Site: www.HidenAnalytical.com Web Site: www.HidenAnalytical.com 0 20 40 0 60 0 20 10 20 40 30 40 60 50 0 60 20 30 40 50 60 mass : amu mass : amu mass : amu mass : amu It is Hiden Analytical’s policy to continually improve prodIt uisc tH pideerfnorAmnanlycteic aln’sd pthoelirceyfotore c sopneticniufiaclalytioimnsp raorvee s purbojdecutc to p cehrfaonrmgea.nce and therefore specifications are subject to change. Mass and energy spectra of (a) HIPIMS of CMr ansds a(bn)d c eonevregnyt iospneacl dtrca sopf u(att)e HrinIPgI MofS C orf iCn rA ar nadn d(b N) 2conventional dc sputtering of Cr in Ar and N2 TECHNICAL DATA SHEET 172 TECHNICAL DATA SHEET 172 atmosphere as used to deposit the CrN/NbNa tnmaonsoplahyeerre caosa utinsegd. to deposit the CrN/NbN nanolayer coating. Data ref: Purandare, Ehiasarian and Hovsepian. J.Vac. Sci TechDnaotla. Are 2f:6P(2u)r.andare, Ehiasarian and Hovsepian. J.Vac. Sci Technol. A 26(2). （a）CrのHIPIMS および （b）ArとN2大気内Crの通常dcスパッタリングでの質量・エネルギースペクトルでCrN / NbNナノコーティング堆積層を 形成 Data ref: Purandare, Ehiasarian and Hovsepian. J.Vac. Sci Technol. A 26(2). Flux, (x106 counts-1) SEM: c/s Flux, (x106 counts-1) Countrate, csS-E1M: c/s Countrate, cs-1 Flux, (x106 counts-1) SEM: c/s Countrate, cs-1 Flux, (x106 counts-1) SEM: c/s Countrate, cs-1 Flux, (x106 counts-1) SEM: c/s Countrate, cs-1 Flux, (x106 counts-1) SEM: c/s Countrate, cs-1 Flux, (x106 counts-1) SEM: c/s Flux, (x106 counts-1) SEM: c/s Countrate, cs-1 Countrate, cs-1 vacuum analysis surface science gas analysis vacuum analysis plasma diagnostics surface science gas analysis plasma diagnostics vacuum analysis vsaucrfuaucme sacnieanlycseis SEM: c/s SEM: c/s sgas SEM: c/s urfaacnaelyssicsience gpalassmanaalysdisiagnostics SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s plasma diagnostics SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s SEM: c/s

モデルEQP システム仕様 システムオプション EQPシステムは、多くのプラズマ条件に合わせて、幅広いカスタマ イズオプションを用意しています モデルEQP 質量範囲 オプション Part No. ±1000 eV エネルギーレンジ 620100 モデルEQP-6 デュアルファラデー/ エレクトロンマルチプライヤー検出器 443020 6 mm四重極ロッド径 延長フライトチューブ 321 or 400 mm 620200 - 質量範囲オプション300、又は510 m/z 延長フライトチューブ 750 mm 620400 マグネティックシールド 800 Gauss 610201 モデルEQP-9 マグネティックシールド 500 Gauss 610211 9 mm四重極ロッド径 電子付着イオン化 610320 - 質量範囲オプション50、300、510、1000、2500、5000 m/z DC駆動電極 44 mm 径 618010 モデルEQP-20 RF / DC駆動電極_直径150 mm 618020 水冷RF / DC電極_直径84 mm 618030 20 mm四重極ロッド径 4.5” UHV ゲートバルブ(ICF114） 202350 - ゾーンH 質量範囲20 m/z Z-ドライブ4” (100mm)ストローク – マニュアル 202500 - ゾーン1 質量範囲200 m/z Z-ドライブ12” ストローク – 電動式 202900 フロントエンドシャッター 610440 プラズマ圧力オプション RIV60リエントラントアイソレーションバルブ 610450 MASsoft プロフェッショナル プレインストールPC 800624 XX最大50 Pa – 60 L/secの差動排気ターボ分子ポンプ Windows NIST MSデータベース 800500 XX最大200 Pa – 240 L/secの差動排気ターボ分子ポンプ 0-10V、8チャンネルアナログ出力カード 304908 ペニングゲージとコントローラーを含む システム保護のための真空インターロック 303805 XX> 200Pa - モデルEQPシステムは、マルチステージ モデル フォアグラウンド・バックグラウンド遅延タイマー搭載の調整可能な信号ゲーティング HPR-60分子ビームサンプリングシステム（大気圧対応まで）に 　 110600 アップグレード可能 50 nsの時間分解能のマルチチャネルスカラー（MCS）モード 800404 大気プラズマサンプリング用のモデルHPR-60分子ビームサンプリングオプション 303065 プラズマアプリケーション EQPシステムは、多岐にわたるプラズマ使用目的に対して、標 準的なサンプリング用の様々なオプションを用意しています。 XXHiPIMS Xパルスプラズマとレーザー XXECR – 電子サイクロトロ アブレーション X平行平板–RFプラズマ ン放電 XICP – 誘導結合プラズマ Xマグネトロン放電 モデルEQPシステム プラズマ中 PLASMA NEEDLE - 大気プラズマ- Xヘリコンソース モデルEQP/HPR-60分子ビームサ ンプリングシステムによる分析 XDCグロー放電プラズマ

HIDEN ANALYTICAL社の四重極質量分析計システムは、 様々な用途で利用されています。 ガス分析 反応ガス流量の経過測定 触媒分析と熱解析 分子ビーム研究 溶解対象計測プローブ 発酵、環境、生態学的研究 表面分析 UHV TPD SIMS イオンビームエッチングの終点検出 Hiden Analytical Ltd. 元素イメージング – 3D マッピング 420 Europa Boulevard Warrington WA5 7UN England プラズマ分析 T +44 [0] 1925 445 225 F +44 [0] 1925 416 518 プラズマ因子の特性 E info@hiden.co.uk エッチングと堆積プロセスの運動学的研究 W www.HidenAnalytical.com 中性種とラジカル種分析 真空分析 プロセスガスの分圧測定と制御 スパッタリング反応制御 真空分析 真空コーティング行程観察 イノベーションサイエンス株式会社 〒213-0012 神奈川県川崎市高津区坂戸3-2-1 KSP東棟 210 TEL: (044)982-3152 FAX: (044)982-3153 Email: info@innovation-science.co.jp Web: http://www.innovation-science.co.jp/ TDS 172/2