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技術資料 フォトマスク Photomask

製品カタログ

高精度レーザー描画装置により最小1μmからの微細パターンに対応しております

・測長装置 高精度測長装置を用いた寸法検査によりフォトマスクの寸法精度を管理しております。
・外観検査装置 最新の外観検査装置により、微小な欠陥を検出致します。
・外観検査装置 最小2μmからの無欠陥規格に対応可能です。

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このカタログについて

ドキュメント名 技術資料 フォトマスク Photomask
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 681.3Kb
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