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粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』
粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です
また、ソフト販売だけではなく、受託解析も実施しております
◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動 など
◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など
※詳しくはお気軽お問い合わせください
HPhttp://www.wavefront.co.jp
MAIL:information@wavefront.co.jp
このカタログについて
ドキュメント名 | 【Patricle-PLUS解析事例】3D計算 DCマグネトロンスパッタリング解析事例 |
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ドキュメント種別 | 事例紹介 |
ファイルサイズ | 1.1Mb |
取り扱い企業 | 株式会社ウェーブフロント (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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Particle-PLUS計算事例
DCマグネトロンスパッタリング(3D計算)
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モデル概要 DCマグネトロンスパッタリング(3D計算)
ArプラズマのスパッタリングによるCu膜生成 3次元モデル
ガス流入 Ar 1.0 Pa
ガス流出 0.4 Pa
永久磁石 フェライト
標的 材質 Cu
電圧 DC -400 V
2次電子放出 係数 0.1
標的-基板間距離 60 mm
➢ 黒線で示される直方体の上面に基
板、下面に標的、側面に壁がある
とする
➢ 基板と壁は接地されている
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中性ガス圧力 DCマグネトロンスパッタリング(3D計算)
空間中
[ 断面表示 ] 流入口 流出口
標的表面
流入口
[Pa]
流出口
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磁場と電子数密度 DCマグネトロンスパッタリング(3D計算)
電子数密度 (横断面) 磁束密度 (縦断面)
[T]
電子数密度 (縦断面)
[/m3]
✓ クロスコーナー効果などの特徴的な現象の模擬
が可能です。 [Q. H. Fan et. al., 2003]
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エロージョン DCマグネトロンスパッタリング(3D計算)
標的表面の入射Ar+イオンフラックス 標的表面のCuエロージョンレート
[/(m2 s)]
[ 値の押し上げ表示 ]
B
A
[m/s]
A B
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デポジション DCマグネトロンスパッタリング(3D計算)
各表面のCuデポジションレート
流入口
D C D
流出口
C
[m/s]
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お問い合わせ先 DCマグネトロンスパッタリング(3D計算)
Particle-PLUS 開発元 :
株式会社ウェーブフロント
神奈川県横浜市西区みなとみらい 2-3-3 クイーンズタワーB 12階
TEL : 045-682-7070 (代)
E-mail: sales@wavefront.co.jp
Web : http://www.wavefront.co.jp/
弊社取り扱いの製品に関するお問い合わせや、
受託業務に関するご相談などは、上記の連絡先へ
お気軽にお問い合わせください。
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