粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』
粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です
また、ソフト販売だけではなく、受託解析も実施しております
◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動 など
◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など
※詳しくはお気軽お問い合わせください
HPhttp://www.wavefront.co.jp
MAIL:information@wavefront.co.jp
このカタログについて
| ドキュメント名 | 【Patricle-PLUS解析事例】対向ターゲット式スパッタ解析事例 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 事例紹介 |
| ファイルサイズ | 1.1Mb |
| 取り扱い企業 | 株式会社ウェーブフロント (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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Particle-PLUS計算事例
対向ターゲット式スパッタ
※励起ガス分布（≒ プラズマの発光部）
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モデル概要(1) 対向ターゲット式スパッタ
対面ターゲットを用いたAl薄膜作製 3次元モデル
Page3
モデル概要(2) 対向ターゲット式スパッタ
対面ターゲットを用いたAl薄膜作製 3次元モデル
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静磁場 対向ターゲット式スパッタ
表面 断面
[T]
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Page5
電子数密度 対向ターゲット式スパッタ
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エネルギーフラックス 対向ターゲット式スパッタ
電子エネルギー流束 イオンエネルギー流束
高エネルギーの
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成膜 対向ターゲット式スパッタ
Alスパッタ率 Alデポジション率
[m/s]
✓ 対面ターゲット式のマグネトロン装置では、
[m/s]
基盤に低ダメージな成膜が可能である。
[K]
表面到達Alの
エネルギー分布
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お問い合わせ先 対向ターゲット式スパッタ
Particle-PLUS 開発元 :
株式会社ウェーブフロント
神奈川県横浜市西区みなとみらい 2-3-3 クイーンズタワーB 12階
TEL : 045-682-7070 (代)
E-mail: sales@wavefront.co.jp
Web : http://www.wavefront.co.jp/
弊社取り扱いの製品に関するお問い合わせや、
受託業務に関するご相談などは、上記の連絡先へ
お気軽にお問い合わせください。
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