カタログの表紙
カタログの表紙

このカタログをダウンロードして
すべてを見る

ダウンロード(833.9Kb)

用途に応じてコントロールする新たなガス軟窒化 M-NCプロセス

製品カタログ

M-NCプロセス カタログのご案内です

M-NCプロセスとは、ガス軟窒化処理をする際に「窒化ポテンシャル制御」を行うもので、窒化ポテンシャルを高精度に制御することにより化合物層の形成、およびその組成を用途に応じてコントロールする新たなガス軟窒化プロセスです。このプロセスにより、従来のガス軟窒化処理に比べ、機能特性に優れた化合物層の形成制御が可能となり、ポーラス層厚の制御と機能特性(疲労強度、耐摩耗性)の改善に有効です。

◆詳細はカタログをダウンロードしてご覧下さい。

このカタログについて

ドキュメント名 用途に応じてコントロールする新たなガス軟窒化 M-NCプロセス
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 833.9Kb
取り扱い企業 株式会社丸眞製作所 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

このカタログ(用途に応じてコントロールする新たなガス軟窒化 M-NCプロセス)の内容


Page 1:Ih■GllaMgHUieS1Dirit&OneStopSewice|卜」NEWSWLE MARUSlMN観OUPHP;'’111噂111,1i;用遥に応じてコントロールする新た職ガス軟窒(|‐、曲■■1期IIJ‐aiF・…ず‘i参一熟-11審・壁PZ■『U抄一カF!「M綱璽'四櫨勇Jとは制ガス軟窒化処理する際に塵鵬ポデッッ寵J蝿UIHlljを行うもので露窒化ポテンシャルを高精度臆制御することにより化合物層の形成寵およびその組成を用途に応じてコン$画一ルする新たなガス軟窒化』」C二プロセスです。このプロセスにより企従来のガス歌窒化処理に比べ、機能特性に優れた化合物層の形成制御が可能となり、ポーラス層厚の抑制と機能詩性(疲労強度、耐摩耗i性)の改善に有効です。(当社試験結果より)制御システム図 新プロセスによる窒化層γ相(Fe4N)主体の化合物層形成E相(Fe23N)主体の化合物層形成ポーラス層を抑制した化合物層の形成化合物層を形成し怠し!(拡散層のみ)センサー調節計lLli1iiガス]、|制御盤!I記録計’聾~罫ガス熱窒化炉EBSD化合物層分析結果 疲労強度試験S15C■7[、、熱割.Ii6jbPpPFU;ihオギ、い、=IMBB2・面聿PHl4pPy識二・:[2二]b損慢震喋.l十而叩画4巳一辮醤園】雇到鰯I!~百雨-18511mγ相主体 g相主体 0.0 0.1 mlOOTOOO1000o繰返し数N[万回]鰯1M!」Il11111l91111鰹http://www・maTushinss・cojp1本 社J〒394-0091長野県岡谷市10016-471エコワァクトリーパーク湯殿山-1TELO266-75-8100(代)FAXO266-7S-810フ場]〒399-042B長野県上伊那罰辰野町伊那富6340-1TELD266-41-4311FAX20266-41-4310[辰野工場【、、組織形成技術により、疲労強度を10%改善(当社従来比較)、:、.{③雰囲気制御型ガス軟窒化辱従来ガス軟窒化玉、一~qqD{、{、0