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ナノ粒子のろ過装置 回転式ろ過フィルタ 三菱ダイナフィルタ

製品カタログ

あきらめていたナノ粒子スラリーの「ろ過」を可能に!

三菱ダイナフィルターは、ろ過障害となるケーキ形成をろ材の回転により抑制することができ、ナノ粒子のろ過(濃縮)・不純物洗浄・溶媒置換が出来ることを特徴とした、新しいろ過装置です。ろ材となる「セラミックフィルタ」は最少孔径5nmから用意しており、ターゲットとなるナノ粒子をろ室内で補足します。
代表的な分離対象は【電池材料、ファインセラミックス、各種金属微粒子、CMPスラリー、顔料、飲料、化粧品、ポリマー、シリカ、酸化チタン、医療材料、光触媒原料、ナノセルロース、レアメタル 、エマルジョン、廃液・廃棄物、酵母、菌体、藻類、炭素材料】などです。

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このカタログについて

ドキュメント名 ナノ粒子のろ過装置 回転式ろ過フィルタ 三菱ダイナフィルタ
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 1.7Mb
登録カテゴリ
取り扱い企業 工機ホールディングス株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

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遠心力で解決 遠心力活用事例
事例紹介

工機ホールディングス株式会社

このカタログの内容

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A4 W210×H297mm 4C H1_H4 三菱ダイナフィルター DyF152/S Dynamic Crossf low Filtration ■仕様 項 目 仕 様 型 番 DyF152 / S型 ナノ粒子の目詰まりを抑制! 形 式 ダイナミッククロスフロー・セラミックフィルター ろ過面積 / ディスク径 0.034m₂/∅152mm ディスク細孔径 5、7、30、60、200、500、2,000nm ろ室内容量 / ろ過圧 0.24L/0.2MPa 回転式セラミックフィルターの活用事例 ディスク回転速度 0~1,000rpm 電動機出力 0.4kW×200/220V×50/60Hz DyF152 / S 外形寸法 / 重量 W300×D430×H390mm/35kg ※生産向けスケールUPへの対応もご相談ください。 洗浄方式 パルス逆洗、ろ液逆洗、薬液洗浄 DyFセラミックフィルターの細孔径と材質 主に研究・開発レベルにあるナノ粒子を対象に 分類 Ultrafi ltration Microfi ltration 濃縮・溶媒置換・粒子洗浄などのハンドリングについて御提案します。 微粒子分離 酵母や細菌の分離 用途 酵素などの高分子分離 不溶性固形成分の分離 平均細孔径 5nm 7nm 30nm 60nm 200nm 500nm 2,000nm 材質 TiO2 MgAl2O ZrO2 Al2O3 Al2O3 Al2O3 Al2O3 ● 正しく安全にご使用いただくため、製品のご使用前に「取扱説明書」をよくお読みください。 ● 取扱説明書および製品に表示の「  危険 」「   警告 」「   注意 」などの項目に従って、正しく安全にお使いください。 ご安 ● 有害物質、放射性物質、病原性物質、あるいは感染性が否定できない試料等を当製品で処理する場合には、必要な安全対策を講じた上で行ってください。 注全 ● 引火性の試料等を処理する場合には、DyF本体をドラフト等の中に設置して、十分な換気を行い、爆発性雰囲気を生成しない環境で作業を行ってください。 意上 ● 別紙 耐溶剤/耐薬品表に記載のない溶剤や薬品をご使用の場合には、事前に膨潤試験、耐食試験等を実施し、安全を確認してからご使用ください。 の ● 試料はpH3~pH12の範囲でご使用ください。その他、使用する試料に関してご不明な点は、最寄りの営業所までご確認ください。 2018年 6月より、日立工機株式会社は に社名変更します。 これからもよろしくお願い致します♪ 【製造・保守】 【販売】 ライフサイエンス機器事業部 HLD-114A 2018.02
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三菱ダイナフィルター(DyF) 代表的な分離対象 Dynamic Crossf l ow Filtration 電池材料  ファインセラミックス  金属微粒子  CMPスラリー  顔料  飲料  化粧品 ポリマー シリカ 酸化チタン 医療材料 光触媒原料 ナノセルロース レアメタル  三菱ダイナフィルターは、ろ過障害となるケーキ形成を回転により抑制することができ、 ナノ粒子の洗浄・濃縮ができることを特長とした、新しいフィルターです。 エマルジョン 廃液・廃棄物 酵母 菌体 藻類 炭素材料  ( 分離技術会 2015年度技術賞受賞 ) ■外観 特長①:最小細孔径5nmセラミックフィルターにより、 最小細孔径5nmの回転式セラミックフィルターを格納し、ナノ粒子を捕捉     ナノ粒子のろ過/濃縮が可能 各種溶媒に対応し、ドラフトに入るコンパクト卓上タイプ DyFセラミック膜の細孔径と材質 平均細孔径 5nm 7nm 30nm 60nm 200nm 500nm 2,000nm 材質 TiO2 MgAl2O ZrO2 Al2O3 Al2O3 Al2O3 Al2O3 超微細孔セラミックフィルター 回転軸へ 連結する ろ液流路 高さ:390mm ディスク構造 5nmから選べる細孔径 逆洗による目詰防止 ろ過(流路)面積を確保しつつ 高い回転数・逆洗圧に耐えられる 強度を維持できるようハニカム構造を採用 横幅: m30 m0 0 mm 奥行:43 ■構造/ろ過の原理 特長②:閉鎖系でナノ粒子スラリーの溶媒置換や粒子洗浄が可能 超微細セラミックフィルター 回転式フィルターの特長 セラミックフィルターが回転することで、 ナノ粒子のろ過が可能になりました。 ろ過液 排出 【例】原液供給を切り替えて下のような    粒子の洗浄、置換操作を連続的に スラリー ○ ケーキ形成の抑制 原液    行えます。 ○ 高濃度化 原液供給 (加圧) ○ 連続通液可 サン エタ 水 ○ 逆洗により プル ノール   高いろ過速度を維持 ろ液の流れ (濃縮) (洗浄) (置換) △ 粒子がせん断を 粒子 Dynamic Crossfl ow Filtration 受けや すい ろ液 濃縮液 排出 01
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三菱ダイナフィルター(DyF) 代表的な分離対象 Dynamic Crossf l ow Filtration 電池材料  ファインセラミックス  金属微粒子  CMPスラリー  顔料  飲料  化粧品 ポリマー シリカ 酸化チタン 医療材料 光触媒原料 ナノセルロース レアメタル  三菱ダイナフィルターは、ろ過障害となるケーキ形成を回転により抑制することができ、 ナノ粒子の洗浄・濃縮ができることを特長とした、新しいフィルターです。 エマルジョン 廃液・廃棄物 酵母 菌体 藻類 炭素材料  ( 分離技術会 2015年度技術賞受賞 ) ■外観 特長①:最小細孔径5nmセラミックフィルターにより、 最小細孔径5nmの回転式セラミックフィルターを格納し、ナノ粒子を捕捉     ナノ粒子のろ過/濃縮が可能 各種溶媒に対応し、ドラフトに入るコンパクト卓上タイプ DyFセラミック膜の細孔径と材質 平均細孔径 5nm 7nm 30nm 60nm 200nm 500nm 2,000nm 材質 TiO2 MgAl2O ZrO2 Al2O3 Al2O3 Al2O3 Al2O3 超微細孔セラミックフィルター 回転軸へ 連結する ろ液流路 高さ:390mm ディスク構造 5nmから選べる細孔径 逆洗による目詰防止 ろ過(流路)面積を確保しつつ 高い回転数・逆洗圧に耐えられる 強度を維持できるようハニカム構造を採用 横幅: m30 m0 0 mm 奥行:43 ■構造/ろ過の原理 特長②:閉鎖系でナノ粒子スラリーの溶媒置換や粒子洗浄が可能 超微細セラミックフィルター 回転式フィルターの特長 セラミックフィルターが回転することで、 ナノ粒子のろ過が可能になりました。 ろ過液 排出 【例】原液供給を切り替えて下のような    粒子の洗浄、置換操作を連続的に スラリー ○ ケーキ形成の抑制 原液    行えます。 ○ 高濃度化 原液供給 (加圧) ○ 連続通液可 サン エタ 水 ○ 逆洗により プル ノール   高いろ過速度を維持 ろ液の流れ (濃縮) (洗浄) (置換) △ 粒子がせん断を 粒子 Dynamic Crossfl ow Filtration 受けや すい ろ液 濃縮液 排出 02
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ナノ粒子スラリーを スラリー濃度を適度に Case 01 ろ過/濃縮して回収する Case 02 調整して回収する 目 的 目 的 近年の材料微粒化に伴い、従来のフィルター濃縮が困難になっています。 遠心分離で試料を回収する際、沈殿が固い塊になり回収できない場合があります。 そこで、 DyF を用いシリカスラリーの濃縮がどこまで可能か検討を行いました。 後工程でのハンドリングの為、DyFを用いることで試料濃度調整が可能か検討を 行いました。 結 果                                        結 果                                        シリカ粒子スラリーの固形物濃度を16.0wt%から約38.0wt%に上げ、 三菱ダイナフィルター(DyF) ろ過速度を一定ラインから落とすことなく濃縮することが出来ました。 35.0 D y Fを使った 柔らかめ30.0 (~30mPa・s) 25.0 濃縮 濃縮コントロール 20.0 15.0 10.0 従来のフィルター濃縮の 5.0 イメージ ◎ 0.0 硬め 15 20 25 30 35 40 〔サンプル〕 処理前 (~1,000mPa・s ) 固形物濃度 [wt%] シリカ粒子スラリー  (~10mPa・s ) ろ室内 ヘラで掻き取り 従来の遠心分離法 遠心分離 ろ過/濃縮 ←膜層 濃縮コントロール ディスク細孔径60nm ←支持層 50,000 rpm, 1h ガラス状に固結し、 シリカ粒子スラリー 濃縮後 ディスク断面SEM像 × 回収困難(粒子径約700nm) ポイント ポイント DyFはディスクを回転させる動的クロスフローにより、 遠心分離では固結してしまった試料も、DyFは分散を維持しながら脱水することが出来る為 ナノ粒子のフィルター表面への目詰まりを防止することが出来ます。 試料の濃度調整が可能で、スラリーのまま回収することが出来ます。 連続的にサンプルを注入し続けることが出来る為、 従来のバッチ遠心分離では困難であった大容量処理も可能になります。 03 ろ過速度 [kg/hr]
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ナノ粒子スラリーを スラリー濃度を適度に Case 01 ろ過/濃縮して回収する Case 02 調整して回収する 目 的 目 的 近年の材料微粒化に伴い、従来のフィルター濃縮が困難になっています。 遠心分離で試料を回収する際、沈殿が固い塊になり回収できない場合があります。 そこで、 DyF を用いシリカスラリーの濃縮がどこまで可能か検討を行いました。 後工程でのハンドリングの為、DyFを用いることで試料濃度調整が可能か検討を 行いました。 結 果                                        結 果                                        シリカ粒子スラリーの固形物濃度を16.0wt%から約38.0wt%に上げ、 三菱ダイナフィルター(DyF) ろ過速度を一定ラインから落とすことなく濃縮することが出来ました。 35.0 D y Fを使った 柔らかめ30.0 (~30mPa・s) 25.0 濃縮 濃縮コントロール 20.0 15.0 10.0 従来のフィルター濃縮の 5.0 イメージ ◎ 0.0 硬め 15 20 25 30 35 40 〔サンプル〕 処理前 (~1,000mPa・s ) 固形物濃度 [wt%] シリカ粒子スラリー  (~10mPa・s ) ろ室内 ヘラで掻き取り 従来の遠心分離法 遠心分離 ろ過/濃縮 ←膜層 濃縮コントロール ディスク細孔径60nm ←支持層 50,000 rpm, 1h ガラス状に固結し、 シリカ粒子スラリー 濃縮後 ディスク断面SEM像 × 回収困難(粒子径約700nm) ポイント ポイント DyFはディスクを回転させる動的クロスフローにより、 遠心分離では固結してしまった試料も、DyFは分散を維持しながら脱水することが出来る為 ナノ粒子のフィルター表面への目詰まりを防止することが出来ます。 試料の濃度調整が可能で、スラリーのまま回収することが出来ます。 連続的にサンプルを注入し続けることが出来る為、 従来のバッチ遠心分離では困難であった大容量処理も可能になります。 04 ろ過速度 [kg/hr]
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技 術 相 談・ デ モ ご 依 頼・ お 問 い 合 わ せ 専門の技術スタッフが、お客様の分離目的に応じて、フレキシブルにサポートします。 ●最適な分離条件・ろ過条件の算出 ●貸出機によるパイロットテスト、立会テストに対応いたします。 ⇒下記データシートをご記載いただき、お気軽にご依頼ください。 スラリーのまま溶媒置換を 固液分離(ろ過・濃縮・分離)データシート ご照会に際して、下記事項をお知らせ下さい。 Case 03 する ご記入日    年   月   日 目 的 溶媒置換をする際、遠心分離やフィルターで濃縮・ろ過を行い、新しい溶媒に再分散する方法 がありますが、乾燥凝集してしまう・再分散が困難・開放系に出来ない等の理由でこの方法が 使えない場合があります。DyFでスラリーの分散状態を維持したまま溶媒置換が可能か検討 を行いました。 結 果                       ポ イ ント               ■ナノ粒子スラリーに溶媒Aを供給し、溶媒Bから置換しました。 ろ室の5倍量の溶媒供給により、密閉  化学分析により溶媒の置換率を求めました。 状態を維持したまま溶媒置換が可能 99.25% 99.95% 100% 100% でした。分散及び湿式状態を維持した ままの連続的な作業である為、再懸濁 80% の工程が省略でき乾燥凝集の発生を 60% 原液溶媒 B 抑えることができます。また、pH調整 40% 置換溶媒 A などにも応用することが可能です。 20% 0.0 0 1.4 2.9 4.3 5.7 7.1 キリ 溶媒量(ろ室容量比) ト リ 線 効率的/効果的な粒子洗浄を Case 04 する 目 的 従来の粒子洗浄では、ろ過・再分散の繰り返しが必要であったり、大量の洗浄液が必要 になります。DyFを用い、NaClを含むアルミナスラリーを洗浄し、NaClが除去可能か検討 を行いました。 結 果                       ポ イ ント               ■アルミナスラリーを洗浄し、NaClを除去しました。電気伝導度 ろ室容量の7倍量の洗浄液でNaClを十  測定より、スラリー中のNaCl残存率を求めました。 分に除去することが出来ました。粒子 スラリー中に存在する未反応の修飾剤 100.0 1070.7ppm 1000.0 ・表面処理剤の除去についても、同様に 80.0 7倍量の洗浄液で 800.0 効率良く行うことが出来ます。 60.0 1%まで減少 ! 600.0 §ダイアフィルトレーション法* 40.0 洗浄液 *) 特許取得(特開2015-66495)400.0 1ℓ 20.0 200.0 洗浄 5.8ppm 濃縮液1ℓ 0.0 0.0 本データシートにご記載いただきました情報は、三菱化工機株式会社及び日立工機株式会社において、本件に関するお客様へのご連絡、デモテストの実施、アフターサービスの提供、また、今後の 0 1 2 3 4 5 6 7 8 濃縮液 「商品・カタログ等の郵送物の発送」 「新製品のご案内」等のために使用させていただきます。なお、個人情報につきましては、個人情報保護ポリシーに基づき取り扱わせていただきます。1ℓ 洗浄液量 [ろ室容量比] 詳細につきましては、以下をご覧ください。 三菱化工機㈱ http://www.kakoki.co.jp/csr/privacy.html   日立工機㈱ http://www.hitachi-koki.co.jp/footer/privacy.html ■本データシートの提出に当たり、日立工機(株)および三菱化工機(株)の個人情報保護ポリシーを読み、内容に同意した。 【 はい ・ いいえ 】 05 置換率 NaCl残存率 (%) NaCl残存濃度 (ppm)
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技 術 相 談・ デ モ ご 依 頼・ お 問 い 合 わ せ 専門の技術スタッフが、お客様の分離目的に応じて、フレキシブルにサポートします。 ●最適な分離条件・ろ過条件の算出 ●貸出機によるパイロットテスト、立会テストに対応いたします。 ⇒下記データシートをご記載いただき、お気軽にご依頼ください。 スラリーのまま溶媒置換を 固液分離(ろ過・濃縮・分離)データシート ご照会に際して、下記事項をお知らせ下さい。 Case 03 する ご記入日    年   月   日 目 的 溶媒置換をする際、遠心分離やフィルターで濃縮・ろ過を行い、新しい溶媒に再分散する方法 がありますが、乾燥凝集してしまう・再分散が困難・開放系に出来ない等の理由でこの方法が 使えない場合があります。DyFでスラリーの分散状態を維持したまま溶媒置換が可能か検討 を行いました。 結 果                       ポ イ ント               ■ナノ粒子スラリーに溶媒Aを供給し、溶媒Bから置換しました。 ろ室の5倍量の溶媒供給により、密閉  化学分析により溶媒の置換率を求めました。 状態を維持したまま溶媒置換が可能 99.25% 99.95% 100% 100% でした。分散及び湿式状態を維持した ままの連続的な作業である為、再懸濁 80% の工程が省略でき乾燥凝集の発生を 60% 原液溶媒 B 抑えることができます。また、pH調整 40% 置換溶媒 A などにも応用することが可能です。 20% 0.0 0 1.4 2.9 4.3 5.7 7.1 キリ 溶媒量(ろ室容量比) ト リ 線 効率的/効果的な粒子洗浄を Case 04 する 目 的 従来の粒子洗浄では、ろ過・再分散の繰り返しが必要であったり、大量の洗浄液が必要 になります。DyFを用い、NaClを含むアルミナスラリーを洗浄し、NaClが除去可能か検討 を行いました。 結 果                       ポ イ ント               ■アルミナスラリーを洗浄し、NaClを除去しました。電気伝導度 ろ室容量の7倍量の洗浄液でNaClを十  測定より、スラリー中のNaCl残存率を求めました。 分に除去することが出来ました。粒子 スラリー中に存在する未反応の修飾剤 100.0 1070.7ppm 1000.0 ・表面処理剤の除去についても、同様に 80.0 7倍量の洗浄液で 800.0 効率良く行うことが出来ます。 60.0 1%まで減少 ! 600.0 §ダイアフィルトレーション法* 40.0 洗浄液 *) 特許取得(特開2015-66495)400.0 1ℓ 20.0 200.0 洗浄 5.8ppm 濃縮液1ℓ 0.0 0.0 本データシートにご記載いただきました情報は、三菱化工機株式会社及び日立工機株式会社において、本件に関するお客様へのご連絡、デモテストの実施、アフターサービスの提供、また、今後の 0 1 2 3 4 5 6 7 8 濃縮液 「商品・カタログ等の郵送物の発送」 「新製品のご案内」等のために使用させていただきます。なお、個人情報につきましては、個人情報保護ポリシーに基づき取り扱わせていただきます。1ℓ 洗浄液量 [ろ室容量比] 詳細につきましては、以下をご覧ください。 三菱化工機㈱ http://www.kakoki.co.jp/csr/privacy.html   日立工機㈱ http://www.hitachi-koki.co.jp/footer/privacy.html ■本データシートの提出に当たり、日立工機(株)および三菱化工機(株)の個人情報保護ポリシーを読み、内容に同意した。 【 はい ・ いいえ 】 06 置換率 NaCl残存率 (%) NaCl残存濃度 (ppm)
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A4 W210×H297mm 4C H1_H4 三菱ダイナフィルター DyF152/S Dynamic Crossf low Filtration ■仕様 項 目 仕 様 型 番 DyF152 / S型 ナノ粒子の目詰まりを抑制! 形 式 ダイナミッククロスフロー・セラミックフィルター ろ過面積 / ディスク径 0.034m₂/∅152mm ディスク細孔径 5、7、30、60、200、500、2,000nm ろ室内容量 / ろ過圧 0.24L/0.2MPa 回転式セラミックフィルターの活用事例 ディスク回転速度 0~1,000rpm 電動機出力 0.4kW×200/220V×50/60Hz DyF152 / S 外形寸法 / 重量 W300×D430×H390mm/35kg ※生産向けスケールUPへの対応もご相談ください。 洗浄方式 パルス逆洗、ろ液逆洗、薬液洗浄 DyFセラミックフィルターの細孔径と材質 主に研究・開発レベルにあるナノ粒子を対象に 分類 Ultrafi ltration Microfi ltration 濃縮・溶媒置換・粒子洗浄などのハンドリングについて御提案します。 微粒子分離 酵母や細菌の分離 用途 酵素などの高分子分離 不溶性固形成分の分離 平均細孔径 5nm 7nm 30nm 60nm 200nm 500nm 2,000nm 材質 TiO2 MgAl2O ZrO2 Al2O3 Al2O3 Al2O3 Al2O3 ● 正しく安全にご使用いただくため、製品のご使用前に「取扱説明書」をよくお読みください。 ● 取扱説明書および製品に表示の「  危険 」「   警告 」「   注意 」などの項目に従って、正しく安全にお使いください。 ご安 ● 有害物質、放射性物質、病原性物質、あるいは感染性が否定できない試料等を当製品で処理する場合には、必要な安全対策を講じた上で行ってください。 注全 ● 引火性の試料等を処理する場合には、DyF本体をドラフト等の中に設置して、十分な換気を行い、爆発性雰囲気を生成しない環境で作業を行ってください。 意上 ● 別紙 耐溶剤/耐薬品表に記載のない溶剤や薬品をご使用の場合には、事前に膨潤試験、耐食試験等を実施し、安全を確認してからご使用ください。 の ● 試料はpH3~pH12の範囲でご使用ください。その他、使用する試料に関してご不明な点は、最寄りの営業所までご確認ください。 2018年 6月より、日立工機株式会社は に社名変更します。 これからもよろしくお願い致します♪ 【製造・保守】 【販売】 ライフサイエンス機器事業部 HLD-114A 2018.02