多検体高性能比表面積・細孔分布測定装置　3FLex

多検体高性能比表面積・細孔分布測定装置 豊富な経験と最新技術を 駆使したガス吸着装置

相対圧の増分、吸着量の増分ま たはその両方の組み合わせが使 える先進のガス導入法を採用 先進のマニフォールド設計及び 制御機構は、極めて安定した圧 力と温度測定の提供により分解 能の限界を拡大 先進のパフォーマンスとテクノロジー ● フレキシブルに設定可能な3つの測定ポートはユーザーの特定的 な用途にも対応します。 ● 研究向けの3Flexは、優れたメソポア/マイクロポア、物理吸着、化 学吸着の分析を提供します。 測定ポートは低比表面積材料の測定用にクリプトンガスも設定可 能です。 ● 蒸気吸着も測定可能です。 ● 先進のマニフォールド設計は高い耐化学性、容易な真空排気及び 業界で最も低い排出ガスレートを提供するためにハードシール・ バルブ及びVCR継手を使用しています。 ● P0ポートに専用の圧力トランスデューサーを設け、飽和蒸気圧の 連続モニタが可能です。 ● 1.33×10-4Pa（N2で10-9相対圧）の範囲で等温線データの収集を 多検体高性能比表面積・細孔分布測定装置 開始します。 MicroActive解析ソフトは、強力で対話型式に設定されたデータ 全自動の3ステーション型装置は優れた正確性、解像度、そしてデータ 解析、或はユーザー定義のレポートを提供します。 処理ソフトを備え色々な分析の為に設計されました。 ● 先進のガス導入方法は相対圧の増分、吸着量の増分またはその ● 比表面積 両方を組み合わせる事が出来ます。 ● メソポア ● 小さな設置面積で実験台の貴重なスペースを有効利用します。 ● マイクロポア ● 化学吸着 ● 吸着熱 ● 蒸気吸着

高分解能・スループットの向上 マイクロポア/メソポア分析 多検体高性能比表面積・細孔分布測定装置3Flexは、全自動の3測 定ポートを搭載したハイスループットな装置です。サンプルの比表 面積、メソポア／マイクロポアの細孔分布を高い正確性と分解能で 測定することができます。必要に応じて、各ポートに搭載したトラン スデューサーをメソポア仕様からマイクロポア仕様にアップグレード できます。 3Flexは、多くの拡張機能を搭載し、オプション（３ポート）にて 蒸気吸着、化学吸着にも対応可能です。 3Flexの各測定ポートは、高真空システムに 対応できるマニホールド設計により、 非常に低い絶対圧まで到達することが できます。より小さなポアサイズは低い 相対圧で測られますので、マイクロポアデータ はより正確に測定されます。 3FlexはMOFs、ゼオライト、活性炭、 吸収剤、多孔質および非多孔質材料等の 多種多様な物性測定には最適な装置です。 新しい設計ポイント 新設計 特長 利点 超低圧領域の等温線を測定する場合に正確 VCR継手と空気圧駆動バルブ リークフリーと共に業界で最も低い排出ガスレートを提供します。 なガスの吸着量を測定し、高い測定精度を提供します。 メソポア／マイクロポアの細孔分布を測定可 3Flex一台で高いコストパフォーマンスを得 現在のニーズに対応し且つ将来のニーズに 能な3ポートを搭載したハイスループット られます。 も対応可能な拡張性を有し、大きな投資対効果が得られます。 エラストマーシールとO-リングが原因のコン 316ステンレス鋼のガスインレット、マニホー 化学的に高い安定性を有する素材の使用に タミネーションと脱ガスの影響がなくなりま ルド、バルブとガスケット よりコンタミネーションのない内部環境を提 した。化学的に高い安定性を有する素材によ供します。 り、多種のガスによる測定や蒸気吸着測定を 利用可能にします。 パフォーマンス指標により定期的なメンテナ システム性能をワンクリックで確認でき、測定 ダッシュボードモニタで装置の重要な運転状 ンスの必要性が一目で判ります。異常運手時 結果の信頼性を向上します。メンテナンスス 況を監視 の警告などが判りやすくなるなど、装置の運 ケジュールを見逃すことがなくなり、その結 転効率を最適に維持します。 果高い稼働率を実現します。 業界最小の設置面積で3サンプルポートと6 コンパクトな設計 ポートのガス導入口を搭載しつつ、高感度、 貴重な設置スペースを節約しつつ、高いパ 高い正確性、高い再現性を実現しました。 フォーマンスと信頼性を提供します。

高分解能な等温線 先進のマニホールド設計と内部制御システムは極めて安定した圧力 と温度測定のための測定環境を提供します。 ハードウェアの先進性に加えて、3Flexは、相対圧力の増分、吸着量 の増分、またはその両方を組み合わせる高度なガス導入方法を採用 した最新のソフトウェアが含まれます。 y-AluminaのN2ガス吸着等温線 ZSM-5のN2ガス吸着等温線 蒸気吸着 3Flexは、吸着ガス及び一般的に用いられる蒸気の液体特性のデー タベースを搭載しています。 蒸気吸着等温線は炭化水素を吸着質として使用し簡単に得ることが ペレット化したカーボンへのブタン、ペンタン、ヘキサンの吸着等温線 できます。 斬新なダッシュボードモニタ 3Flexはワン・クリックでリアルタイムの操作状態と 分析状況を見ながら一連の情報を提供します。

カーソルバーで 直接解析範囲を変更すると リアルタイムに再計算されます。 斬新なMicroActive解析ソフトは、等温線データを対話形式で 判断することが可能です。 カーソルバーを利用し、設定した望ましいデータ範囲のフィッ ティング計算に簡単にデータを加えたり除外することができ ます。 等温線はそれぞれの計算モデルでリニアかログスケールに変 換することができます。 MCM-41シリカ上の77K温度によるN2ガスt-プロットの計算は、 多くのN2ガスを吸着しているのにマイクロ細孔が存在していない材料です。 3Flex用MicroActive解析ソフトと 制御ソフトウエア ● 単にカーソルバーを移動させるだけで等温線データと連動しダイ レクトに更新されます。 重要なパラメーターへの変更は、マウスのワンク リックで可能です。 ● カーソルバーをスライドさせることにより、ダイア ログ・ボックスを開かず、計算範囲を選択できま す。これは、材料の比表面積や細孔分布を効率的 に再解析させる事になります。 ● 水銀圧入データを含め最大25ファイルのデータ を重ね合わせて表示することができます。 ● 対話型式の解析ソフトウエアにより、正確に比表 面積、細孔分布と細孔容積を簡単に解析できま す。また、ユーザーがグラフ上から直接範囲を指 定することで、BET、t-プロット、ラングミュアおよ 対話型のMicroActive解析ソフトの特徴は、スクリーン上で直接変更点を反映させることで びDFTの解析が可能です。MicroActive解析ソフトの等温線分 t-Plotにフィットさせる際の面倒なトライアンドエラー作業を減らします。 析は細孔径分布を計算するために多くのNLDFTモデルを提供し ます。 ● レポートオプションの編集機能により画面上のプレビューを見なが らレポートの構成を編集することができます。各々のレポートに は、1つの要約と表、グラフの情報枠等を持つことができます。

Pythonプログラミング言語搭載 ユーザー定義のレポート Pythonプログラミング言語は 3Flex解析ソフトに組み込まれています。 この強力なスクリプト言語により、 ユーザーは、３Flexアプリケーション内で 標準レポートライブラリの拡張機能を 開発することができます。 新しい等温線モデルまたは計算を容易にレポート・システムに追加できます。 Pythonインターフェースは、 ユーザーがレポートをカスタマイズし、 MicroActive解析ソフトの機能を拡張することができます。 3Flexの対話形式レポート内容 ● 吸脱着等温線 ● 多点法・1点法BET比表面積 ● Langmuir比表面積 ● t-プロット ● A lpha-S 法によるマイクロポア解析 ● BJH法によるメソポア細孔分布/吸・脱着 ● Dollimore-Heal吸・脱着 ● Horvath-Kawazoe法マイクロポア細孔分布 ● M P法マイクロポア細孔分布 ● DFT 細孔分布と表面エネルギー ● Dubinin-Radushkevich法 ● Dubinin-Astakhov法 ● 要 約 ● ユーザー自身で定義可能なレポートフォーム

デュアルDFTモデル デュアルDFTモデルは最新の細孔分布解析法であり、分子サイズの細孔が存在する 材料上(炭素の様なスリット細孔)の全細孔分布を解消する為に窒素と二酸化炭素の等 温線を組み合わせ計算を行います。 この方法の細孔径分布範囲はこれ迄の標準的な窒素分析と比較し、より小さな細孔サ イズ迄拡張されます。これはCO2分子がN2分子より小さく、非常に小さな細孔へ吸 着出来るという事実によります。 デュアルDFTモデルは、ユーザーが2つの等温線を使用して サンプルの細孔径分布を決定することが可能です。 77KでのN2吸着等温線（緑）と273KでのCO2吸着等温線（赤）を利用し、 一つの細孔径分布を計算した例です。 ユーザーは、CO2や窒素から両方の等温線を用いて決定される細孔径分布を カットアンドペーストする必要はありません。 水銀圧入法/ガス吸着法データの 重ね合わせ 3FlexのMicroActive解析ソフトは、強力なユーティリティ機能を搭載、ガ ス吸着等温線から算出した細孔径分布と水銀圧入法による細孔分布を重 ねることが可能です。この新しいインポート機能で、ユーザーは簡単にマ イクロポア、メソポアおよびマクロ孔の分布を表示することができます。 アルミナペレットのガス吸着BJH（脱）と水銀圧入法の細孔径分布の重ね書き

触媒物性測定-3Flex化学吸着オプション 化学吸着は、触媒材料の設計・製造段階で評価するために必要な多くの情報を提供すると同様に、 使用前後の評価による触媒材料の寿命も分析できます。化学吸着等温線は、活性点についての情報を明らかにすることができます。 ３Flex化学吸着オプションは、化学吸着測定を行うことによって、 触媒、触媒担体および様々な材料の物理的または化学的特性に関する貴重な情報を研究者に提供することができます。 フローセル、 超クリーンバルブによって、 超高真空環境下で 触媒の活性情報を提供 3Flex化学吸着システムの特長 ● VCR継手を採用した高真空ターボ分子ポンプにより、シス テム全体を清潔に保ち、サンプルの脱ガスも高い効率を提 供します。その結果、正確な低圧化学吸着等温線および酸 素に敏感な材料を測定することが可能 ● 高精度のマスフローコントローラは、極めて正確でプログラ ム可能なガス制御を提供 ● 高温電気炉（最大1100℃）は、優れた温度制御と再現性を 実現し、希望の温度に迅速でかつ正確な昇温プログラムを 提供 ● 合計12ガスポートによる複数の吸着ガスは、効率良く利用 でき、広範囲なアプリケーションを提供することが可能 ● 優れた温度制御により単分子層の吸着等温線を高い精度と 再現性を実現 ● 数分以内で化学吸着システムから物理吸着システムに切り 替え可能な設計 ● 新設計の高温に対応できる石英セルは、精度と感度を改善 ● 加熱された専用の排気口に、質量分析計又はTCDを外部検 出器として接続することにより、昇温還元（TPR）、昇温脱離 （TPD）、又は昇温反応などの実験が可能 ● 加熱可能な蒸気源は、化学吸着分析用吸着ガスとして使用 することが可能 ● Kalrez、Viton、BunaなどのOリングは、化学的適合性が高 く、様々なガスに対応可能

優れたハードウェア 合計12ガスポートと蒸気発生源は、様々な化学吸着測定に対応できま す。正確で再現性の良い測定をするため、サンプルの活性化と前処理 には、マスフローコントローラ（MFC）を利用します。MFCは、標準的 な化学吸着ハードウェアに含まれています。 セルを装着したままで前処理と活性化 セルを装着したままの前処理と活性化では、ユーザーの手間をかけ ず、活性化と分析を統合したアプリケーションを利用でき、完全に自 動化された方法を提供します。柔軟な前処理オプションより、還元、 酸化、真空排気、パージを選択できます。 サンプル分析オプション ● ガスの選択 ● 室温と測定温度においてフリースペース測定 ● 導入ガスでは、各データポイント間に対して、圧力テーブル、 相対圧力の増分、吸着量の増分および平衡時間を自由に設定 ● 導入ガスは、吸着ガスポートと蒸気源から供給可能 ● 可逆吸着（弱い吸着）を分析するための等温線を測定 上記は、300℃でのセリア系材料の酸素吸収等温線です。 分析前に、試料を30分間300℃にて還元処理を行った。 データは、この圧力範囲におけるすべて吸着が不可逆的であることを示す 酸素空孔サイトの吸着であります。

共通インタフェースで新しい測定条件 物理と化学吸着の分析条件を統一し、共通のインターフェースを使 用して新しい測定条件を作成することができます。 高分解能な等温線 先進技術で造られたマニホールドは、化学吸着のための超クリーンな環 境を提供し、活性表面上に吸着したガスの等温線は、高解像で測定する ことが可能です。 データ解析 ● 活性金属比表面積 ● 結 晶サイズ ● 不可逆／可逆吸着量 ● 単分子吸着量 ● 活性金属分散率 対話形式のMicroActive解析ソフト MicroActive解析ソフトによりユーザーは化学吸着等温線に直接 アクセスすることにより対話形式で等温線の解析を行う事ができ ます。直感的なグラフィカル·ユーザー ·インタフェースは、可逆的 ／不可逆的に結合したデータを迅速な解析によって吸着ガス量を 算出することができます。解析結果としては、活性金属分散率、金 属表面積、結晶子サイズが含まれます。

豊富な外部サンプル前処理装置 マイクロメリティックス社のサンプル前処理装置は、比表面積および細孔容積の分析のためのサンプルを一括して処 理します。それは、サンプルの表面及び細孔から吸着した水蒸気または大気汚染物質ガスなどを除去するために、加熱 しながら不活性ガスを流すか、真空引きします。比表面積および細孔容積解析法により計算されたデータの品質は、試 料表面の清浄度に大きく依存します。すべてのマイクロメリティックス社のサンプル前処理装置は、ヘリウム、窒素、ア ルゴン、及び他の非腐食性ガスを利用できます。 FlowPrep™ 060 - 表面及び細孔に吸着された物質の除去のためにサンプルを加熱し、 不活性ガスを流しながら前処理します。6ポートを搭載し、温度、ガスを選択し サンプル物質およびアプリケーションに最適な条件で前処理をすることができます。 VacPrep™ 061 - 吸着された水蒸気などの物質を除去するためにガスを流すことに加えて、 サンプルを加熱及び真空排気により前処理することもできます。VacPrepは、6ポートを搭載し、 各々に真空脱気またはガス流通が可能です。 SmartPrep™ 065 - 吸着された物質を除去するために高温でサンプルを加熱し、 不活性ガスを流しながら前処理します。温度、昇温速度および各サンプルの処理時間は、 6ポートを個々にコンピュータによって制御されます。 5種のプリセット条件（昇温速度、時間等）の設定が可能です。 また、すべての脱ガスの情報は次回の参照用として サンプルデータファイルに統合されています。 SmartVacPrep™ 067 新しいスマートVacPrepは加熱及び真空排気により 試料の前処理を行う6ポートシステムです。 各ポートは、独立して動作させることができサンプルは 前処理を経て他のサンプルの処理を妨げることなく、追加又は 脱気ポートから移動することができます。サーボ制御機構により サンプルが飛散せず真空排気する事ができます。 サンプルはすべてプログラムされた手順に従って全自動で行われます。 試料前処理装置仕様 FlowPrep060 VacPrep061 SmartPrep065 SmartVacPrep067 前処理方式 加熱ガスフロー方式 加熱ガスフロー方式 加熱ガスフロー方式 加熱ガスフロー方式加熱真空排気方式（選択可能） 加熱真空排気方式 前処理ステージ数 6個（温度共通） 6個（独立温度設定可能） 温度範囲 室温～400℃ 室温～425℃ 40℃～450℃ 精度 ±5℃ ±10℃ 使用ガス 窒素、ヘリウム、アルゴン、他の不活性化ガス など コンピュータ制御 不可 可能（ ASAP2460ソフトウェアによる制御、もしくはスタンドアロンソフトウェアによる） 昇温・ 保持サイクル - 最大5サイクルまで 昇温速度 5～20℃/min 0.1～10℃/min 真空速度 - 1.0～50mmHg/秒（サーボ制御） 保持時間 最大999min設定は1minきざみ 使用環境温度 動作時 10～35℃、非動作時0～50℃ 大きさ・ 重さ 43cm（H）×36cm（W）×30cm 43cm（H）×36cm（W）×30cm 50cm（H）×50cm（W）×40cm 69cm（H）×53cm（W）×43cm（D）　約8.5kg （D）　約10kg （D）　約15kg （D）　約32kg 所要電源 100/120/220/240V AC±10％, 50/60Hz 最大200VA 85～265V AC±10％, 50/60Hz 最大500VA 100/120/230V AC±10％, 50/60Hz 最大500VA

物理/化学吸着システム仕様 項目 仕様 解説 3メソポアポート サンプルポート １、2または3マイクロポアポート メソポア仕様からマイクロポア仕様にアップグレードできます。 １化学吸着測定ポート 真空システム ターボ分子ポンプ+4ステージダイアフラムポンプ オイルフリーの２種のポンプにより高真空を確保します。 ポンプ排気速度 53L/秒（水素）61L/秒（窒素） 高い排気速度により、装置内部を素早く真空にすることができ、測定時間の短縮が可能になりました。 真空度 3.75×10-10mmHg（8.0×10-6mmHgサンプルポート） マイクロポア測定時に迅速かつ高精度な測定を提供します。 デュアル真空ゲージ（冷陰極電離ゲージとマイクロピラニ真空ゲー 真空ゲージを、サンプルポートの近くに設置することで、装置全体を従来よ真空ゲージ ジ）を、サンプルポートの近くに設置 り高真空に保ち、その確認がしやすくなりました。また、トランスデューサーが自動でゼロ点調整を行うことで、精度の維持と再現性を保証します。 2 最低比表面積 0.01m /g（窒素使用時に） 標準仕様でKrガスを利用可能で、非常に低い表面積サンプルでも正確0.0005m2/g（Krガス使用時に） に測定できます。 マニホールド温度制御 45°C+/- 0.05°C 正確なマニホールドの温度制御により高い精度と再現性を提供します。 133.3KPa（1000mmHg）×5個、 精度 ±0.12%以内、分解能 1.333Pa（0.01mmHg） トランスデューサーは正確に温度制御されたマニホールド内に設置され トランスデューサー 1.333KPa（10mmHg）×3または4個、 従来より非常に高い精度と分解能が得られます。精度 ±0.12%、分解能 0.01333Pa（0.0001mmHg） また、3種類のトランスデューサーで幅広い圧力レンジを正確に測定し、 0.013KPa（0.1mmHg）×2または3個、　 より高い精度を得られます。 精度 ±0.15%、分解能 0.0001333Pa（0.000001mmHg） ガスの導入と排気 サーボ制御 ガスの導入と排気用サーボ制御は、ガス量の管理をより精密に制御し、正確に任意の相対圧で測定が可能です。 吸着ガスポート 6ポート（最大12ポート追加可能） 高い拡張性があり、測定ニーズに応じてガスポートを追加することが可12ポート（化学吸着） 能です。（物理吸着） 3ポート（本体標準搭載） 脱ガスは、温度、時間および真空度を最大５段階で設定可能です。 脱ガス 6ポートの前処理装置（オプション） マイクロポアのサンプルを測定する場合、Heガスでフリースペース測 電気炉：室温～450℃ 定後の再脱ガスを行うこともできます。 3.2L デュワーびん容積 持続時間>80時間（１ポート使用） 独自の等温ジャケットに加え、新設計のデュワーびんにより液体窒素の 持続時間>70時間（3ポート使用） 持続時間を延長します。 フローコントローラー 流量1～100 cm3/min ± 1%設定値 自動化された正確なガス制御、手動でニードルバルブ調整をする必要（化学吸着） はありません。 サンプル温度 室温～1100°C ± 1°C 700°C 数分以内で化学吸着システムから物理吸着システムに切り替えできま （化学吸着） ± 2°C 1100°C す。 昇温速度 ～600°C　50°C/min 正確な温度制御を用いた高速昇温電気炉は、温度ドリフトやオーバー （化学吸着） 600～800°C　20°C/min シュートを防ぐ機能を搭載します。1.5時間未満で最高温度から50℃ま800～1100°C　10°C/min で冷却が可能です。 サンプルセル 9mm、12mm（平底型） 独自のシーリング機能を搭載したサンプルセルで、脱ガス後の空気逆流 標準石英フローセル、大容量石英フローセル（化学吸着） を防止可能です。文字記入欄によりサンプル管理が容易です。 使用環境 外 寸 ・ 重 量　111.76cm（H）57.15 cm（W）60.96cm（D）、83.91kg 保管環境温度　0 ～ 50 ºC 電　　　　源　100/115/230 VAC　50/60 Hz　1500 VA, 最大 湿　　　　度　20 ～ 80% 露点なし 利用環境温度　10 ～ 35 ºC 改良のため仕様は予告なく変更することがあります。 代理店 マイクロメリティックスジャパン合同会社 www.microjp.com 本 社 〒277-0882 千葉県柏市柏の葉 5-4-6-501 東葛テクノプラザ5階 TEL：04-7128-5051　FAX：04-7128-5054 大阪オフィス 〒564- 0051 大阪府吹田市豊津町 1-18 エクラート江坂ビル510号 TEL： 06-6170-7590