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FCVAは現在入手できる最も高度な成膜技術です
従来、薄膜の形成にはプラズマプロセスによるPVD法やCVD法が一般的でしたが、ナノフィルムテクノロジーズ社はアークプラズマ源を用いたイオンビーム蒸着法であるフィルター型カソーディック真空アークFCVA方式(Filtered Cathodic Vacuum Arc)を開発しました。以下にta-C膜の成膜プロセスをご紹介します。
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 革新的な成膜技術 FCVAテクノロジー |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 457.1Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社ナノフィルムテクノロジーズジャパン (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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