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Fine System Components(ファインシステム機器)

ハンドブック

Ultra High Purity Components

半導体、LED、FPD製造工程向け商品のご紹介パンフレットです。
半導体製造プロセスのトータルサプライヤーとして、半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、薬液・ガス・真空・空圧制御トータルソリューションをご提案。
お客様の“選びやすさ”をご提供します。

薬液、純水、スラリー、ガス・不活性ガス、真空用の商品です。
エアオペレイトバルブ、マニュアルバルブ、流量センサ、レギュレータなどの単体商品から、パネル品まで取り扱っております。

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このカタログについて

ドキュメント名 Fine System Components(ファインシステム機器)
ドキュメント種別 ハンドブック
ファイルサイズ 2.5Mb
登録カテゴリ
取り扱い企業 CKD株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

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このカタログの内容

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Fine System Components For Semiconductor, LED, FPD Manufacturing Processes Ultra High Purity For Manufacturing Improvements CC-1394 1
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Evolution Evolution ファインシステム機器の進化 「1980年代から蓄積してきた技術力」「コア部品の一貫生産へのこだわり」「徹底した製造工程の管理」で 長きにわたり半導体製造プロセスの高精度化・品質安定・高純度を実現して参りました。 これからも、お客様に“使いやすさ”をご提供します。 2020 PGM-2H PMP002 MMD003RN IAVB 電動タイプ TPB IAGD7 MNV AGD-HDF LGD AGD-HD リニューアル タイプ 2010 AMD (VEC-R) Part3R クリーンパネル FSP EVB AGD21R-A 塩ビバルブ マニュアル AMD_L タイプ FMD 高速タイプ AGD-R N2コントローラ PMP AVB Part7 給液用バルブ AMD_H FMGB IAGD5 初期タイプ(VEC) PGM AVB Part5 2000 AMD Part2 IAGD4 IAGD3 ニードルバルブ AMS MFGD チェックバルブ IAGD2 AVB Part3 MCGP AGD-V AMD Part1 AGD Part2 IAGD1 AVB Part2 1990 PYM/PMM AMB CKDのファインシステム機器 スペシャルサイト 1985 AGD 高真空用電磁弁 薬液用電磁弁 AVB HVB EMB 1943 Chemical Gas Vacuum 日本航空電機(株)設立 1 2 半導体プロセスの高度化に 回路合 線わ 幅せて 積 の 層 微化 細製 化品が進化 サック レバ ギック ュバ レル ーブ タ レギュ バレ ルー ブタ 流量調整バルブ IAGD付随機器 高 エ 温・ア 高オ 耐ペレ バ 久 イ ルブトバルブ ガ 集 ス流積 量診化 断ユガ ニッス ト供給システム N2制御機器 エアオペレイトバルブ 電動真空弁 制 真御 空シ 圧ス 力テム 比例制御システム
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Total Supplier Total Supplier 半導体製造プロセスのトータルサプライヤーとして 半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、 薬液・ガス・真空・空圧制御トータルソリューションをご提案。 お客様の“選びやすさ”をご提供します。 Gas Chemical Fluid System Etching エッチング Chemical ●エッチャー Total FA Worldwide Supplier Gas Vacuum Resist Stripping レジスト剥離 Chemical ●アッシャー Vacuum Gas Vacuum Cleaning Planarization 洗浄 研磨 Chemical ●ウェット Chemical ●CMP 洗浄装置 Gas Gas Vacuum Vacuum Deposition Ion Plantation 成膜 イオン注入 Chemical ●CVD Chemical ●イオン注入装置 ●ALD Gas Gas ●PVD Vacuum Vacuum Resist Coating ●拡散炉 Annealing レジスト塗布 ●酸化炉 ●窒化炉 アニール Chemical ●コータ ●スパッタ Chemical ●アニール装置 Gas Gas Vacuum Vacuum Exposure Chemical Supply 露光 薬液供給 Chemical ●ステッパー Chemical Gas Gas Vacuum Vacuum Developing Gas Supply 現像 ガス供給 Chemical ●デベロッパ Chemical Gas Gas Vacuum Vacuum 3 4
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Product Lineup Product Lineup Gas Gas Process ファインシステム機器製品群 ガス・不活性ガスの超精密制御に貢献するドライファインシステム。 バルブ レギュレータ エアオペレイトバルブ エアオペレイトバルブ・マニュアルバルブ レギュレータ AGD(高温・高耐久) LGD PGM » 微細化の進展により求められる高耐 » プロセスガス用バルブの新バ » メタルダイアフラムを Chemical Chemical Process 久に対応するプロセスガス用バルブ。 リエーション。 採用したプロセスガス » お客様のニーズに応じ、3種類ライン 用レギュレータ。 ナップ。 » ガス圧力・流量の安 薬液・純水・スラリーのスーパークリーンな制御を実現するウェットファインシステム。 定化に貢献。 バルブ エアオペレイトバルブ マニュアルバルブ マニュアルバルブ エアオペレイトバルブ エアオペレイトバルブ(メタルレス) エアオペレイトバルブ(高圧用) AGD OGD MGD AMD※※3R AMD※1M AMD※1H » プロセスガス用バルブ » 90°回転スナップアク » マニュアル式バルブ。 の基幹商品。 ション方式のマニュア » 270°回転方式のハン » 薬液用エアオペレイトバルブのス » 金属部品を徹底的に排除し、浸食 » 大流量の薬液を流すために高 » 単体、集積タイプだけ ルバルブ。 ドル開閉タイプ。 タンダードタイプ。 性・透過性の高い強酸(塩酸・ 圧・高背圧に対応可能なバルブ。 ではなく、3方弁、2連3 » 幅広く圧力・温度・流体の条件 フッ酸)ラインに対応。 » 工場の階下ファシリティから安全 方弁など多種多様な に対応するハイグレードモデル。 » 工場の階下ファシリティから安全 な薬液供給を実現。 バリエーションに対応。 » 今まで細分化して使用していた機 な薬液供給を実現。 種を一つに統一可能。 システム システム機能品 エアオペレイトバルブ(マニホールド) 薬液用マニュアルバルブ マニュアルバルブ(メタルレス) 集積化ガス供給システム クリーンパネル 流量診断ユニット バキュームジェネレータ GAMD※※3R MMD※03RN MMD※0M IAGD5 FICS TPB VG » AMD※※3Rをマニホールド化し » 薬液用マニュアルバルブのスタン » 金属部品を徹底的に排除し、浸食 » 省スペース、メンテナン » お客様のご要 » ガス流量を高精度・短 » 省エネタイプの真空 省スペース化・配管機器類の削 ダードタイプ。 性・透過性の高い強酸(塩酸・ ス性を向上させたプロ 望・フローに応 時間にモニタリング。 排気装置。プロセスガ 減を実現。 » 高圧・高温対応によりプロセス フッ酸)ラインに対応。 セスガス供給システム。 じて設計、製造、 » 2~60秒以内/Lineの短 ス排気用バキューム » 形状やアクセスのカスタマイズに の高度化を実現。 » 工場の階下ファシリティから安全 » お客様のご要望フロー 検査までCKDが 時間測定で異常の早期 ジェネレータ。 より薬液の分岐やミキシングなど » 誤作動、誤操作を防ぎ漏れリスク な薬液供給を実現。 に応じ、設計から製作 ユニット保証。 発見を可能に。 » ノズル径:Φ0.5。 への使用が可能に。 を低減。 » 誤作動、誤操作を防ぎリスクを低減。 まで対応可能。 » 装置稼働プロセスの安 » 1.125inch、Wシール対応。 定化に貢献。 マニュアルバルブ(高圧用) 薬液用マニュアルバルブ(マニホールド) MMD※0H GMMD※※3RN Vacuum Vacuum Process » 大流量の薬液を流すために高 » MMD※※3RNをマニホールド化 圧・高背圧に対応可能なバルブ。 し省スペース化・配管機器類の » 工場の階下ファシリティから安全 削減を実現。 チャンバなどの排気・圧力コントロールを高精度化する高真空制御機器。 な薬液供給を実現。 » 薬液のサンプリングラインなど安 » 誤作動、誤操作を防ぎリスクを低 全性を確保しつつ確実な運用が バルブ システム機器 減。 可能。 エアオペレイトバルブ マニュアルバルブ 圧力制御システム 比例制御システム レギュレータ AVB MVB IAVB VEC-R パイロット式レギュレータ マニュアル式レギュレータ » C K D独自の成形べ » ハンドル回転式 » 従来の高真空バルブ » 高精度の高真空比例 ローズを採用した特 の高真空用マ の信頼性はそのまま 制御を実現するAPC PMP PYM・PMM 殊構造で長寿命、高耐 ニュアルバルブ。 に、多彩なプロセスを システム。 久性を実現。 » アルミボディタ 実現する圧力制御が » よりコンパクトで軽量。 » 省スペースタイプ » 純水などの圧力制御用のマニュ » 高い信頼性と使いや イプ、ステンレ 可能。 PMP002Series追加。 アル式レギュレータ。 すさを備えた高真空 スボディタイプ。 » 電空レギュレータとの組み合わせ バルブ。 で遠隔操作も可能。 Fluid System Auxiliary Components 流量調整バルブ 供給エア・冷却水高精度コントロールシステムで半導体製造に貢献。 マニュアル流量調整バルブ 電動流量調整バルブ マニュアル微小流量調整バルブ FMD MNV LYX 流量センサ » マニュアル式の流量調整バルブ » 電動式の流量調整バルブ(ニード » 微小流量を調整できるマニュア 水用流量センサ 水制御集積ユニット 気体用流量センサ ラピフロー® (ニードルバルブ)。 ルバルブ)。 ル式の流量調整バルブ(ニードル » 接液部にフッ素樹脂を使用し腐 » 遠隔操作によって設定流量の変 バルブ)。 WFK2 WXU FSM3 食性の高い流体(塩酸・フッ酸)な 更が可能。 どでも使用可能に。 » 2018年度グッドデザイン賞受賞。 » 冷却水の循環回路の流量センサ » 1台で空気、窒素、アルゴン、炭酸 » 小形化され、よりコンパクトに。 » 0.4~250L/minをカバーするカル とバルブを集積化。 ガス、混合ガスと5種類のガスに » 精密な流量調整を実現。 マン渦式流量センサ。 » 配管作業の工数を大幅軽減、フッ 対応可能な流量センサ。 » 冷却水の流量と温度管理で活躍。 トプリント80%削減で省スペース » 半導体関連パージ用途に、クリー 化。 ン仕様・ステンレスボディ仕様・ その他 流量調整付き仕様をラインナップ。 サックバックバルブ エアオペレイトバルブ・サックバルブ一体形 ファインレベルスイッチ バルブ レギュレータ AMS AMDS KML » 薬液吐出の乱れやボタ落ちを抑 » 薬液吐出の乱れやボタ落ちを抑 » 純水・酸・アルカリ・溶剤 パイロット式3・4ポート電磁弁 直動式3ポート電磁弁 パレクト電空レギュレータ え込むことで均一なレジスト塗布 え込むことで均一なレジスト塗布 など多種流体の液面レベル を実現。 を実現。 を高精度で検知し電気信号 MN3E・MN4E 3QRA/B EVS2 » 流体粘度に応じた最適化特注設 » 流体粘度に応じた最適化特注設 で出力。 » 業界最小級バルブブロック幅 » 大流量・高速切替を実現し » 30mm幅の小形・軽量・高 計対応可能。 計対応可能。 » 薬液雰囲気、異物等の環境に (7mm)・小形化(高さ39.5mm)を 装置の高速化、最適化に貢献。 性能を実現した電空レギュ » エアオペレイトバルブ一体型で 強いエア方式を採用。 実現。 » 業界トップクラスの高耐久 レータ。 配管工数の削減とコンパクト化を » 高性能3・4ポートブロックマニ (1億回)と軽量(19g)を実現。 » 薬液用パイロットレギュ 実現。 ホールド。 » 高温・高耐久ガスバルブの レータ(PMPシリーズ)の遠 » エアオペレイトバルブの駆動用途。 高速駆動用途に最適。 隔制御が可能。 5 6
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Production & Technology Network 〜For Fine System Components〜 春日井工場 北陸工場 愛知県春日井市 (24年竣工予定) Chemical 石川県 小松市 Gas Vacuum その他日本工場: 小牧工場・四日市工場・犬山工場 東北工場 宮城県黒川郡 Chemical 韓国工場 Gas 京畿道始興市 Vacuum Chemical Gas Vacuum 中国工場 江蘇省無錫市 Chemical アメリカ Gas テクニカルセンター Vacuum Santa Clara, CA USA Austin 台湾テクニカルセンター Manufacturing 新竹市 Austin, TX 本カタログに記載の製品及び関連技術は、外国為替及び外国貿易法のキャッチオール規制の対象となります。 本カタログに記載の製品及び関連技術を輸出される場合は、兵器・武器関連用途に使用されるおそれのないよう、ご留意ください。 The goods and/or their replicas, the technology and/or software found in this catalog are subject to complementary export regulations by Foreign Exchange and Foreign Trade Law of Japan. If the goods and/or their replicas, the technology and/or software found in this catalog are to be exported from Japan, Japanese laws require the exporter makes sure that they will never be used for the development and/or manufacture of weapons for mass destruction. 本社・工場 〒485-8551 愛知県小牧市応時2-250 TEL(0568)77-1111 FAX(0568)77-1123 東京オフィス 〒105-0013 東京都港区浜松町1-31-1(文化放送メディアプラス4階) TEL(03)5402-3620 FAX(03)5402-0120 <Website> 大阪オフィス 〒532-0003 大阪府大阪市淀川区宮原4丁目2-10(PMO EX新大阪6階) TEL(06)6152-9415 FAX(06)4866-5391 https://www.ckd.co.jp/ ●このカタログに掲載の仕様および外観を、改善のため予告なく変更することがあります。 0-771060 ●Specifications are subject to change without notice. フリーアクセス   012 お客様技術相談窓口 受付時間 9:00~12:00/13:00~17:00 ○C CKD Corporation 2022 All copy rights reserved. (土日、休日除く) 2022.12.CBC