1/5ページ
ダウンロード(2.5Mb)
Ultra High Purity Components
半導体、LED、FPD製造工程向け商品のご紹介パンフレットです。
半導体製造プロセスのトータルサプライヤーとして、半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、薬液・ガス・真空・空圧制御トータルソリューションをご提案。
お客様の“選びやすさ”をご提供します。
薬液、純水、スラリー、ガス・不活性ガス、真空用の商品です。
エアオペレイトバルブ、マニュアルバルブ、流量センサ、レギュレータなどの単体商品から、パネル品まで取り扱っております。
関連メディア
このカタログについて
ドキュメント名 | Fine System Components(ファインシステム機器) |
---|---|
ドキュメント種別 | ハンドブック |
ファイルサイズ | 2.5Mb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | CKD株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
この企業の関連カタログ
このカタログの内容
Page1
Fine System Components
For Semiconductor, LED, FPD
Manufacturing Processes
Ultra High Purity
For Manufacturing Improvements
CC-1394 1
Page2
Evolution Evolution
ファインシステム機器の進化
「1980年代から蓄積してきた技術力」「コア部品の一貫生産へのこだわり」「徹底した製造工程の管理」で
長きにわたり半導体製造プロセスの高精度化・品質安定・高純度を実現して参りました。
これからも、お客様に“使いやすさ”をご提供します。
2020 PGM-2H
PMP002
MMD003RN
IAVB
電動タイプ TPB IAGD7
MNV
AGD-HDF LGD
AGD-HD リニューアル
タイプ
2010 AMD (VEC-R)
Part3R クリーンパネル
FSP EVB
AGD21R-A
塩ビバルブ マニュアル
AMD_L タイプ
FMD 高速タイプ
AGD-R N2コントローラ
PMP
AVB Part7
給液用バルブ
AMD_H FMGB
IAGD5
初期タイプ(VEC)
PGM AVB Part5
2000 AMD Part2 IAGD4
IAGD3
ニードルバルブ
AMS MFGD
チェックバルブ IAGD2 AVB Part3
MCGP
AGD-V
AMD Part1 AGD Part2 IAGD1 AVB Part2
1990 PYM/PMM
AMB CKDのファインシステム機器
スペシャルサイト
1985 AGD 高真空用電磁弁
薬液用電磁弁 AVB
HVB
EMB
1943 Chemical Gas Vacuum
日本航空電機(株)設立
1 2
半導体プロセスの高度化に 回路合 線わ 幅せて 積
の
層 微化 細製 化品が進化
サック レバ ギック ュバ レル ーブ タ
レギュ バレ ルー ブタ 流量調整バルブ
IAGD付随機器 高
エ 温・ア 高オ 耐ペレ バ
久
イ ルブトバルブ
ガ
集 ス流積 量診化 断ユガ ニッス ト供給システム
N2制御機器
エアオペレイトバルブ
電動真空弁
制 真御 空シ 圧ス 力テム
比例制御システム
Page3
Total Supplier Total Supplier
半導体製造プロセスのトータルサプライヤーとして
半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、
薬液・ガス・真空・空圧制御トータルソリューションをご提案。
お客様の“選びやすさ”をご提供します。
Gas
Chemical Fluid System Etching
エッチング
Chemical ●エッチャー
Total FA Worldwide Supplier
Gas
Vacuum
Resist Stripping
レジスト剥離
Chemical ●アッシャー
Vacuum
Gas
Vacuum
Cleaning Planarization
洗浄 研磨
Chemical ●ウェット Chemical ●CMP
洗浄装置
Gas Gas
Vacuum Vacuum
Deposition Ion Plantation
成膜 イオン注入
Chemical ●CVD Chemical ●イオン注入装置
●ALD
Gas Gas
●PVD
Vacuum Vacuum
Resist Coating ●拡散炉 Annealing
レジスト塗布 ●酸化炉
●窒化炉 アニール
Chemical ●コータ ●スパッタ Chemical ●アニール装置
Gas Gas
Vacuum Vacuum
Exposure Chemical Supply
露光 薬液供給
Chemical ●ステッパー Chemical
Gas Gas
Vacuum Vacuum
Developing Gas Supply
現像 ガス供給
Chemical ●デベロッパ Chemical
Gas Gas
Vacuum Vacuum
3 4
Page4
Product Lineup Product Lineup
Gas Gas Process
ファインシステム機器製品群 ガス・不活性ガスの超精密制御に貢献するドライファインシステム。
バルブ レギュレータ
エアオペレイトバルブ エアオペレイトバルブ・マニュアルバルブ レギュレータ
AGD(高温・高耐久) LGD PGM
» 微細化の進展により求められる高耐 » プロセスガス用バルブの新バ » メタルダイアフラムを
Chemical Chemical Process 久に対応するプロセスガス用バルブ。 リエーション。 採用したプロセスガス
» お客様のニーズに応じ、3種類ライン 用レギュレータ。
ナップ。 » ガス圧力・流量の安
薬液・純水・スラリーのスーパークリーンな制御を実現するウェットファインシステム。 定化に貢献。
バルブ エアオペレイトバルブ マニュアルバルブ マニュアルバルブ
エアオペレイトバルブ エアオペレイトバルブ(メタルレス) エアオペレイトバルブ(高圧用) AGD OGD MGD
AMD※※3R AMD※1M AMD※1H » プロセスガス用バルブ » 90°回転スナップアク » マニュアル式バルブ。
の基幹商品。 ション方式のマニュア » 270°回転方式のハン
» 薬液用エアオペレイトバルブのス » 金属部品を徹底的に排除し、浸食 » 大流量の薬液を流すために高 » 単体、集積タイプだけ ルバルブ。 ドル開閉タイプ。
タンダードタイプ。 性・透過性の高い強酸(塩酸・ 圧・高背圧に対応可能なバルブ。 ではなく、3方弁、2連3
» 幅広く圧力・温度・流体の条件 フッ酸)ラインに対応。 » 工場の階下ファシリティから安全 方弁など多種多様な
に対応するハイグレードモデル。 » 工場の階下ファシリティから安全 な薬液供給を実現。 バリエーションに対応。
» 今まで細分化して使用していた機 な薬液供給を実現。
種を一つに統一可能。 システム システム機能品
エアオペレイトバルブ(マニホールド) 薬液用マニュアルバルブ マニュアルバルブ(メタルレス) 集積化ガス供給システム クリーンパネル 流量診断ユニット バキュームジェネレータ
GAMD※※3R MMD※03RN MMD※0M IAGD5 FICS TPB VG
» AMD※※3Rをマニホールド化し » 薬液用マニュアルバルブのスタン » 金属部品を徹底的に排除し、浸食 » 省スペース、メンテナン » お客様のご要 » ガス流量を高精度・短 » 省エネタイプの真空
省スペース化・配管機器類の削 ダードタイプ。 性・透過性の高い強酸(塩酸・ ス性を向上させたプロ 望・フローに応 時間にモニタリング。 排気装置。プロセスガ
減を実現。 » 高圧・高温対応によりプロセス フッ酸)ラインに対応。 セスガス供給システム。 じて設計、製造、 » 2~60秒以内/Lineの短 ス排気用バキューム
» 形状やアクセスのカスタマイズに の高度化を実現。 » 工場の階下ファシリティから安全 » お客様のご要望フロー 検査までCKDが 時間測定で異常の早期 ジェネレータ。
より薬液の分岐やミキシングなど » 誤作動、誤操作を防ぎ漏れリスク な薬液供給を実現。 に応じ、設計から製作 ユニット保証。 発見を可能に。 » ノズル径:Φ0.5。
への使用が可能に。 を低減。 » 誤作動、誤操作を防ぎリスクを低減。 まで対応可能。 » 装置稼働プロセスの安
» 1.125inch、Wシール対応。 定化に貢献。
マニュアルバルブ(高圧用) 薬液用マニュアルバルブ(マニホールド)
MMD※0H GMMD※※3RN Vacuum Vacuum Process
» 大流量の薬液を流すために高 » MMD※※3RNをマニホールド化
圧・高背圧に対応可能なバルブ。 し省スペース化・配管機器類の
» 工場の階下ファシリティから安全 削減を実現。 チャンバなどの排気・圧力コントロールを高精度化する高真空制御機器。
な薬液供給を実現。 » 薬液のサンプリングラインなど安
» 誤作動、誤操作を防ぎリスクを低 全性を確保しつつ確実な運用が バルブ システム機器
減。 可能。
エアオペレイトバルブ マニュアルバルブ 圧力制御システム 比例制御システム
レギュレータ AVB MVB IAVB VEC-R
パイロット式レギュレータ マニュアル式レギュレータ » C K D独自の成形べ » ハンドル回転式 » 従来の高真空バルブ » 高精度の高真空比例
ローズを採用した特 の高真空用マ の信頼性はそのまま 制御を実現するAPC
PMP PYM・PMM 殊構造で長寿命、高耐 ニュアルバルブ。 に、多彩なプロセスを システム。
久性を実現。 » アルミボディタ 実現する圧力制御が » よりコンパクトで軽量。
» 省スペースタイプ » 純水などの圧力制御用のマニュ » 高い信頼性と使いや イプ、ステンレ 可能。
PMP002Series追加。 アル式レギュレータ。 すさを備えた高真空 スボディタイプ。
» 電空レギュレータとの組み合わせ バルブ。
で遠隔操作も可能。
Fluid System Auxiliary Components
流量調整バルブ
供給エア・冷却水高精度コントロールシステムで半導体製造に貢献。
マニュアル流量調整バルブ 電動流量調整バルブ マニュアル微小流量調整バルブ
FMD MNV LYX 流量センサ
» マニュアル式の流量調整バルブ » 電動式の流量調整バルブ(ニード » 微小流量を調整できるマニュア 水用流量センサ 水制御集積ユニット 気体用流量センサ ラピフロー®
(ニードルバルブ)。 ルバルブ)。 ル式の流量調整バルブ(ニードル
» 接液部にフッ素樹脂を使用し腐 » 遠隔操作によって設定流量の変 バルブ)。 WFK2 WXU FSM3
食性の高い流体(塩酸・フッ酸)な 更が可能。
どでも使用可能に。 » 2018年度グッドデザイン賞受賞。 » 冷却水の循環回路の流量センサ » 1台で空気、窒素、アルゴン、炭酸
» 小形化され、よりコンパクトに。
» 0.4~250L/minをカバーするカル とバルブを集積化。 ガス、混合ガスと5種類のガスに
» 精密な流量調整を実現。
マン渦式流量センサ。 » 配管作業の工数を大幅軽減、フッ 対応可能な流量センサ。
» 冷却水の流量と温度管理で活躍。 トプリント80%削減で省スペース » 半導体関連パージ用途に、クリー
化。 ン仕様・ステンレスボディ仕様・
その他 流量調整付き仕様をラインナップ。
サックバックバルブ エアオペレイトバルブ・サックバルブ一体形 ファインレベルスイッチ バルブ レギュレータ
AMS AMDS KML
» 薬液吐出の乱れやボタ落ちを抑 » 薬液吐出の乱れやボタ落ちを抑 » 純水・酸・アルカリ・溶剤 パイロット式3・4ポート電磁弁 直動式3ポート電磁弁 パレクト電空レギュレータ
え込むことで均一なレジスト塗布 え込むことで均一なレジスト塗布 など多種流体の液面レベル
を実現。 を実現。 を高精度で検知し電気信号 MN3E・MN4E 3QRA/B EVS2
» 流体粘度に応じた最適化特注設 » 流体粘度に応じた最適化特注設 で出力。 » 業界最小級バルブブロック幅 » 大流量・高速切替を実現し » 30mm幅の小形・軽量・高
計対応可能。 計対応可能。 » 薬液雰囲気、異物等の環境に (7mm)・小形化(高さ39.5mm)を 装置の高速化、最適化に貢献。 性能を実現した電空レギュ
» エアオペレイトバルブ一体型で 強いエア方式を採用。 実現。 » 業界トップクラスの高耐久 レータ。
配管工数の削減とコンパクト化を » 高性能3・4ポートブロックマニ (1億回)と軽量(19g)を実現。 » 薬液用パイロットレギュ
実現。 ホールド。 » 高温・高耐久ガスバルブの レータ(PMPシリーズ)の遠
» エアオペレイトバルブの駆動用途。 高速駆動用途に最適。 隔制御が可能。
5 6
Page5
Production & Technology Network
〜For Fine System Components〜
春日井工場 北陸工場
愛知県春日井市 (24年竣工予定)
Chemical 石川県 小松市
Gas
Vacuum
その他日本工場:
小牧工場・四日市工場・犬山工場 東北工場
宮城県黒川郡
Chemical
韓国工場 Gas
京畿道始興市 Vacuum
Chemical
Gas
Vacuum
中国工場
江蘇省無錫市
Chemical アメリカ
Gas テクニカルセンター
Vacuum Santa Clara, CA
USA Austin
台湾テクニカルセンター Manufacturing
新竹市 Austin, TX
本カタログに記載の製品及び関連技術は、外国為替及び外国貿易法のキャッチオール規制の対象となります。
本カタログに記載の製品及び関連技術を輸出される場合は、兵器・武器関連用途に使用されるおそれのないよう、ご留意ください。
The goods and/or their replicas, the technology and/or software found in this catalog are subject to complementary export regulations by
Foreign Exchange and Foreign Trade Law of Japan. If the goods and/or their replicas, the technology and/or software found in this catalog
are to be exported from Japan, Japanese laws require the exporter makes sure that they will never be used for the development and/or
manufacture of weapons for mass destruction.
本社・工場 〒485-8551 愛知県小牧市応時2-250 TEL(0568)77-1111 FAX(0568)77-1123
東京オフィス 〒105-0013 東京都港区浜松町1-31-1(文化放送メディアプラス4階) TEL(03)5402-3620 FAX(03)5402-0120
<Website> 大阪オフィス 〒532-0003 大阪府大阪市淀川区宮原4丁目2-10(PMO EX新大阪6階) TEL(06)6152-9415 FAX(06)4866-5391
https://www.ckd.co.jp/
●このカタログに掲載の仕様および外観を、改善のため予告なく変更することがあります。 0-771060
●Specifications are subject to change without notice. フリーアクセス 012
お客様技術相談窓口 受付時間 9:00~12:00/13:00~17:00
○C CKD Corporation 2022 All copy rights reserved. (土日、休日除く) 2022.12.CBC