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高耐力!デュアルハイパワーレーザー用反射防止膜

製品カタログ

レーザー耐性の優れた反射防止膜の加工を実現!レーザー損傷試験結果や光学分光特性についても掲載しています。

近年、レーザーの高出力化が進む中、より高いレーザー損傷耐性を持つ光学素子が求められています。伊藤光学工業では基板の表面状態や成膜材料及び成膜条件の最適化を行うことで、レーザー耐性の優れた反射防止膜の加工を実現しております。

◆技術特徴
・使用波長:1064nm/532nm
・高透過率:T≧99.5%
・損傷閾値:38 J/cm2 / 19 J/cm2
・対応基板:合成石英、BK7、CaF2

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このカタログについて

ドキュメント名 高耐力!デュアルハイパワーレーザー用反射防止膜
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 664.1Kb
登録カテゴリ
取り扱い企業 伊藤光学工業株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

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このカタログの内容

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 デュアルハイパワーレーザー用反射防止膜 ✺技術概要 近年、レーザーの高出力化が進む中、より高いレーザー損傷耐性を持つ 光学素子が求められています。伊藤光学工業では基板の表面状態や 成膜材料及び成膜条件の最適化を行うことで、レーザー耐性の優れた 反射防止膜の加工を実現しております。 ✺技術特徴 ・使用波⾧:1064nm/532nm ・高透過率:T≧99.5% ・損傷閾値:38 J/cm2 / 19 J/cm2 ・対応基板:合成石英、BK7、CaF2 レーザー損傷試験結果 波⾧ パルス幅 照射角度 偏光 ビーム径 評価方法 損傷閾値 X410μm 1064nm 10ns 0° N 1-on-1 38 J/cm2 Y410μm X320μm 532nm 8ns 0° N 1-on-1 19 J/cm2 Y350μm *上記データは参考値であり保証値ではありません。 光学分光特性 伊藤光学工業株式会社 デュアルハイパワーレーザー用反射防止膜 Ver.1-01