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高濃度 不透明懸濁液 インライン粒子径計測装置 OPUS

製品カタログ

は超音波減衰法に基づいた粒度分布計測機

【特徴】
測定粒子サイズ<0.1~3000 μm
最大70%の高濃度/高粘度サンプルの粒度分布測定が可能 
完全自動インラインでのリアルタイム計測可能

このカタログについて

ドキュメント名 高濃度 不透明懸濁液 インライン粒子径計測装置 OPUS
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 1Mb
登録カテゴリ
取り扱い企業 株式会社日本レーザー (この企業の取り扱いカタログ一覧)

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このカタログ(高濃度 不透明懸濁液 インライン粒子径計測装置 OPUS)の内容


Page 1:測定粒子サイズ0.1 – 3000ミクロン最大70%の高濃度/高粘度に可能インラインでのリアルタイム計測Sympatec社のOPUSは超音波減衰法に基づいた粒度分布計測機です。スラリー、ペースト、エマルジョンなど高濃度で不透明な懸濁液の粒度分布を測定が可能です。インライン測定を前提としており、劣悪な環境にも耐えるタフな構成です。超音波減衰法では測定領域全体を分析できるため、光学測定のような小さな領域の情報だけでなく、ボリューム全体の粒度情報を得ることができます。ミリング、結晶化(晶析)、重合、沈殿、乳化などのプロセスのリアルタイムモニタに最適です。

Page 2:ミリングプロセスのリアルタイムモニタ左図はミリングプロセスのリアルタイムモニタの適用例で、横軸を時間にとった粒度分布の特性値(x10,x50,x90)を表しています。OPUSを用いることで余計な手間や時間をかけることなく、求める品質に確実にミリングされたことを確認できます。結晶化のリアルタイムモニタ(115℃、2 bar)左図は連続的な塩結晶化プロセス中に測定した粒度分布の特性値です。期間終盤で見られるx10の急激な減少とx90 値の上昇は、この結晶化プロセスに問題があることを示しています。OPUSでは得られた情報をプロセス管理に即時に使用することができます。また、晶析プロセスで特徴的なウェービング現象をモニターすることも可能です。乳化プロセスのリアルタイムモニタOPUSは乳化プロセスのモニタにも適用できます。測定に際して希釈が不要な OPUSによる測定は、乳化プロセスのモニタに最適です。左図は異なる条件下で乳化した際の液滴サイズの分布の変化を示したものです。インライン粒子測定の実現OPUSは過酷なプロセス環境にも対応した完全自動リアルタイム粒子径分析装置です。フィンガープローブタイプで、DN100フランジを介してほとんどのパイプやベッセルに取り付けることができます。小さい/大きいパイプへの設置には専用のアダプタが使用できます。オプションとして防爆バージョン(周囲環境 Zone 1, 測定領域 Zone 0)や自動クリーニングユニットなどもございます。測定範囲 粒子サイズ< 0.1 ~ 3000 um、濃度:1~70 % by volume測定範囲 粒子サイズ< 0.1 ~ 3000 um、濃度:1~70 % by volume原理 超音波減衰法、周波数:100kHz – 200MHz測定時間 約1分前後(サンプルによって前後します)測定環境温度 120℃以下、圧力 40bar以下、PH値 1~14※上記範囲外の環境についてはご相談くださいサイズ プローブ直径:89mm、長さ:330(standard) ~ 3500 mm取付方法 各種アダプタを用意。DN10以上のパイプやベッセルなどに取付可。測定原理 超音波減衰法OPUSでは測定対象空間をサンドイッチするように超音波センサが配置されています。広帯域の超音波が測定領域を通過中、粒子のサイズ・種類や媒質種類などの様々なパラメータに応じて超音波が減衰します。OPUSでは高度なアルゴリズムを用いてこの超音波減衰率から粒度分布を解析します。主な性能適用例OPUSでは高濃度な懸濁液やエマルジョンを希釈することなく測定が可能です。ミリング、結晶化、重合、沈殿、乳化などのプロセスのリアルタイムモニタに最適です。〒169-0051 東京都新宿区西早稲田2-14-1TEL : 03-5285-0863 Fax:03-5285-0860E m a i l : h e l o s @ j a p a n l a s e r . c o . j p