光電融合設計を 1 プラットフォームで実現 －「ADS Photonic Designer」の可能性

光電融合設計を 1プラットフォームで実現 「ADS Photonic Designer」の可能性 キーサイト・テクノロジー株式会社 2025.10 1

PIC設計の現状と課題 Agenda ADS Photonic Designerの導入効果 アプリケーション例と設計シナリオ 2

PIC設計の現状と課題 光と電気の両方を扱う設計が急速に拡大しています。 PIC設計者は、複雑なマルチドメイン環境での開発を求められています。 光学設計、電子回路設計、シミュレーション、レイアウトなど、 複数の専用ツールを使い分ける必要があります。 現状の課題 PIC設計からFoundryデータ提出までの ツールチェーン／設計フローの分断 一貫したフローの欠如 • 精度のばらつき • 設計ルールや製造条件への適合が困難 異なるツール間でシミュレーション結果が一致しないことがあり、 設計と製造の間にギャップがあり、製造可能性の検証が 設計の信頼性が低下する 後工程に偏りがち Foundry提出用データの整備に時間と労力がかかる • データの整合性の欠如 設計変更のたびに複数のツールでデータを更新する必要があり、 手間とミスの原因になる 3

ADS Photonic Designerの導入効果 ADS Photonic Designerは、これらの課題を解決する 統合型設計プラットフォームです 統合環境 多彩なシミュレーション機能 製造対応 設計支援機能 • ADSプラットフォーム上で動作 • OFDE、Sパラメータ、AC/DC、 • Foundry提供のPDK • 直感的なGUIによる し、RF/マイクロ波設計との トランジェント、ハーモニック （Process Design Kit）との 回路レイアウト作成 連携が可能 バランスなど多彩な解析手法 互換性により、設計から • シリコンフォトニクス向け 製造までのギャップを解消 • 光学と電子回路を同一環境で テンプレートPDK 設計・解析・検証 • 設計ルールに準拠した • 実測データとの統合による レイアウト作成と モデルパラメータの最適化 製造条件への適合 設計者にもたらすメリット 設計精度の向上 統合環境と高精度シミュレーションにより、設計の信頼性が向上 設計時間の短縮 ツール間の切り替えや手動作業の削減 製造成功率の向上 PDK対応により、製造条件への適合が容易に 4

アプリケーション例 DCI Pluggable CPO EIC on EIC on ASIC PIC PIC Photonic Interposer PIC EIC on EIC on PIC PIC Substrate EIC on EIC on PIC PIC Sensing Biosensor LiDAR Photonic Computing AI/ML Reservoir Computing X1 Y1 ?1 ?11 ?12 ? = 1 X2 Y2 ?2 ?21 ?22 ?2 5 Switch

設計シナリオ SPICE 光 光回路設計 Models エレキ シングルプラットフォーム Spara 光電融合 Files シミュレーション よりマクロ的な視点の シミュレーションをサポート DRC LVS GDS LCA Spara Simulation Model システム設計 コンポーネント設計 6

ADS Photonic Designerの詳細とお問合せはこちら https://www.keysight.com/jp/ja/product/W3803B/photonic-designer.html 7

Thank you 8