粉体プラズマ処理の第一歩
◆コンパクトながらも充実の機能を搭載 ・スローリーク&スロー排気機能(粉体飛散防止) ・回転速度調整 ・粉体投入部は簡単取外し、洗浄可能
◆少量の初期実験に最適
◆オプションでガス導入可能
◆主な用途
電池の負極材向け炭素粉体の分散性向上
樹脂粉体の親水性向上(高機能樹脂開発)
小型部品の表裏一括処理
少量を用いた初期実験
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 安価で簡易な粉体処理装置 小型回転式真空プラズマ装置 MUG-80 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 464.6Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社魁半導体 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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粉体プラズマ処理の第一歩
■ コンパクトながらも充実の機能を搭載
・スローリーク＆スロー排気機能(粉体飛散防止)
・回転速度調整
・粉体投入部は簡単取外し、洗浄可能
■ 安価で簡易な粉体処理装置
■ 少量の初期実験に最適
■ オプションでガス導入可能
主な用途
電池の負極材向け炭素粉体の分散性向上
樹脂粉体の親水性向上(高機能樹脂開発)
小型部品の表裏一括処理
少量を用いた初期実験
MUG-80
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粉体の親水化
水などの液体に混ざりにくい粉体も簡単に混ざるようになります。
界面活性剤なども不要で環境とコストに優しい処理です。
未処理 プラズマ処理
凝集改善
処理ありのものは処理なしよりも凝集が改善されており、
エタノールとほぼ同等の分散性が得られていることがわかります
装置名称 小型回転式真空プラズマ装置
型式 W440mm, D360mm, H340mm
外形寸法 Φ80mm, H42mm
チャンバー寸法 30kg
重量 10mL/1batch
処理能力 170W(60Hz/50Hz)
電源出力 W440mm, D360mm, H340mm
なし
ガス系統
※オプションにて変更対応可能
電源 100V, 15A (60Hz/50Hz)