粉体の新しい可能性を生みだす
◆ガス導入により様々な処理が可能(親水化・撥水化)
◆スパッタリング・製膜にも対応可能 ※対応仕様のみ
◆生産対応の大型化も可能
◆主な用途
電池の負極材向け炭素粉体の分散性向上 樹脂粉体の親水性向上(高機能樹脂開発) 各種粉体への金属スパッタリング 粉体への絶縁膜製膜 小型部品の表裏一括処理
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このカタログについて
| ドキュメント名 | ドライプロセスによる粉体表面改質 回転式真空プラズマ装置 YHS-DφS |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 593.6Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社魁半導体 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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■ ドライプロセスによる粉体表面改質
■ ガス導入により様々な処理が可能(親水化・撥水化)
■ スパッタリング・製膜にも対応可能 ※対応仕様のみ
■ 生産対応の大型化も可能
主な用途
電池の負極材向け炭素粉体の分散性向上
樹脂粉体の親水性向上(高機能樹脂開発)
各種粉体への金属スパッタリング
粉体への絶縁膜製膜
小型部品の表裏一括処理
粉体の新しい可能性を生みだす
プラズマ
チャンバー
回転筒 被処理物
チャンバー模式図
YHS-DΦS
Page2
粉体の親水化
水などの液体に混ざりにくい粉体も簡単に混ざるようになります。
界面活性剤なども不要で環境とコストに優しい処理です。
未処理 プラズマ処理
凝集改善
処理ありのものは処理なしよりも凝集が改善されており、
エタノールとほぼ同等の分散性が得られていることがわかります
装置名称 回転式真空プラズマ装置
型式 YHS-DφS
外形寸法 W720mm, D450mm, H450mm
Φ210mm, H200mm
チャンバー寸法
※オプションにて変更対応可能
重量 40kg
処理能力 300mL/1batch
電源出力 170W(60Hz/50Hz)
1系統
ガス系統
※オプションにて複数系統対応可能
浮き子式流量計
ガス制御
※オプションにてMFC対応可能
電源 100V, 15A (60Hz/50Hz)