従来のテクノフォス処理に抗菌性を付与した処理です。
・非粘着性、撥水性などの特性は従来のテクノフォスと同等の性能を有しています。 ・複雑な形状に対しても均一な膜厚で処理が可能です。 ・環境負荷物質を使用していません。
剥離して再処理が可能
溶射による凹凸形成とレジスタックIIめっきによる凹凸形成技術を組み合わせることで大表面積を持つ表面処理 ・非粘着性、特性はレジスタックII以上の性能を有しています。 ・環境負荷物質を使用していません。 ・標準膜厚は、溶射20~30μm+レジスタ...