【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置

【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置の製品概要

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材）,EB蒸着, RF/DC兼用マグネトロン式スパッタ, ドライエッチ, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。

・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4
・電子ビーム蒸着
・最大Φ8inch加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）
・RF/DCエッチングシステム
・CVD（熱CVD, PECVD）

【主仕様】
・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）
・真空排気：真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着：最大4点（Model. TE1～TE4蒸着源）
・有機蒸着：最大4点（Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４
・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能（*オプション）
・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4
・膜厚制御：Inficon社製 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ
・ユーティリティ：電源200V ３相 13A, 水冷3ℓ/min, N2ベントガス0.1Mkpa
・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, バイアス印加ステージ, ドライポンプ , ロードロック機構

この製品の利用用途

真空薄膜実験、開発用途
・真空薄膜、電子基板デバイス用薄膜実験
・金属膜（Al, Au, Ag, Pt, Ti, *Ni, *Fe, Mo, Sn, etc..)
・絶縁膜 酸化膜 窒化膜（SiO2, ITO, TiN, MgO, HfO2, ZnO, etc.）