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湿式メディアレス微粒子化技術 ナノヴェイタ(TM)システム

製品カタログ

ナノテク技術で製品化をサポートする吉田機械興業のナノヴェイタ(TM)システム

○コンタミレス
 サニタリー性・クリーン性
○粒子ダメージレス
 ナノヴェイタ(TM)は高速せん断力にて処理されているため
 直接粒子にダメージを与えずに処理が可能
○均一分散
 処理時にノズル部分の細いオリィフィスを通過させる為
 2種、3種の種類の違う粒子を均一に分散させる事が可能

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このカタログについて

ドキュメント名 湿式メディアレス微粒子化技術 ナノヴェイタ(TM)システム
ドキュメント種別 製品カタログ
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登録カテゴリ
取り扱い企業 吉田機械興業株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

このカタログの内容

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閂 「 F、出竺 、 。 匙 -発- 「  ̄ 苣、§.~ 感 ゛.、 Who↑ is NC 鬮 副NUM鰻 酋呼~惚 〃 ア ヨA >P ノ, ナ 」 ノヴエイ顔Hfシステ圏のご案内 、、し、 守 ■  ̄ 119 、 -已司 口刑DL  ̄ ▽■■ 西  ̄雪 苞 ̄ 品▲ ■Ⅱ 、四口|こ■■咀 凹□一二三電、
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a ② 鞍 困 裾F: ■ ナノテク技術で製品化をサポートする 謹鑑麗澄 吉王il幾械興業の ナノヴェイタww'シス ナノデク技術は、蝋錨瀧iQii鑿iiiiij鎗接に関わっ ています。医薬品、電頴溌器電麹べ:化粧品食品等 潅初め稲その技術は身!;iliiiiili製品にli1ijibれています。 吉田機械興業のブゾ湯ク事業は簿湿式メディアレス 微粒子化妓術(ナノヴ頭イタマ!)をコアとした、コンタ ミレス、粒子ダル蕊瞬均~分散化等の市場要求 に対応すると共により適吹アプリケーションとラ イン化を提案させて頂いております。 職客様の新製品開発ど市場投入鰯お手伝いとして、 実験や、受託生産(試作、サンプル作成)等も対応さ せて頂いておりますので、お気軽に問合せ下さい。 目■ロバ こんなご要望にお応え致します!| ⑪コンタミネーショ或繊|來愚限妙なく出来机)か 鐙粒子にダメージを与えず処理が出来ないか ●原料の分子量調整を出来ないか(低分子化) ●繊維を切断が出来恋いが ③粒度分布の粗大粒子を無くせないか ⑬粒度分布をシャープに出来芯いか 慰極少量(Bml~)の試料蕊霊験が出来ないか 《●色々な処理(加熱,2液処理等)方法を試せないか わ量産化移行条件を簡単に出来ないか
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ナノヴェイダMシステムのご案内 INDEX ナノヴエイタT1mの特徴………………………3 ナノヴェイダMの構造と ノズルについて……………………4 [乳乳イ化: 】 ・透明化 ・安定化(分離防止) 。浸透性 頚イ和訳鯛 Z切断2 ・金属コンタミ発生量について……・…5 。粘質改善 HL ・ナノヴエイタァ側分散の特徴・…………6 L’ ・ナノヴェイタTM破砕の特徴,……………7 .`低分子化 陽一  ̄ [ [ 製品ラインアップ ・量産機……………………………………………8 関係 ・卓上実験機………………………・……9.10 ・2液処理装置・…………・…………………・11 ■ 凸t口. ・粗粒処蝉装置…………………………11 ・ダマトリシステム………………………・…12 オプション…………………………………13.14 分野ご ・外付けオプション ・本体オプション 実験・レンタルについて………………15.16 導入支援……………………・…………………17 実簾奉・昌業窓口紹介……………………18 几 鋤! 昼 膠 慾 導入支援 寸望臼エイタ祁仁づいて 技術説明 製品ラインア璽望 オプション 実験・レンタルについて 実験室・営業窓口紹介
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ナノヴェイイタTl、について 鍵ナノヴェイ夕TIwの特徴 炉’ 粉砕媒体不要なのでで、5 メヂイアコンタミ及び管理が不要でです。。ハハードよりのコンタミ発生を コンタミレし:ス 極小I((pppbbオオーーダー)にI抑ええらられます。実験機~量産機まで高いサニタリー性を維持し、ているため、 ■ ●サニタリー性 クロスコ ■ ンタミを抑えるこアとンと右が1出出来ます。 鰯卓上実実験機(L( /L Cシリーズ) 接液部の分解。洗浄御組立が容易となり、多品種試験の効率アッププととなりjまii ますす。 蝋 ■■ 動:! 宙 驫 ,ソ冠 趨罫涛劃、W憲 鰯騒鐵雫 I衝 樋,…y 鐵ri 空=円山一 力バーヘットド゙は開閉可龍でですす。 各部品をを分解しして洗浄。簡単に 組立ることが力でできまます。 L-ESOO70甲 轡量蘂産機(B/TTシリーズ〕 i「 I。 lUUd L 浄・■ 殺菌・保管管理.メンテナナンススのユーザピリティが b I 用 .?△ 0房 【〔 句 ■ 、層GMP対応に毛も】貢献致しします。● 鱈’@ !&! ザ扇雫9画「蔦. Ⅱ Ⅲ 鱗 、! 分解する喬ことで、おお客様己自身に ま よるメンテフナンソスが可能です。 ●クリーン性 ナノヴェイタ夕TMの駆動まは、電動に拘っててしいます。(一部防爆の雷関係でエⅡ■ア 駆動あり) ■ ンタミは装置の接液部分(溶、」 出や残遭)と思われがちですすが、電子材料や医薬・化粧品の製造現場では、 クリーソンル11 ームは当たり風前」で すす。 そこに油圧ユユニット等の、油分力Y飛散散すする可能性のある装置は提供出来ません。弊社ではよりクリーンである事キヨ コンタミ対応と考え、これ力からもコンタミリスクの少ない装置を提提供して参ります。巴 ■ ̄■■■▲■台已■□●B●■●ロ■、■巳■bBC-=B□■●eUbq■q■。●■■■■an■⑪ロロ■■C■■ロロ■■■■■■はロニーニーー----■=●D■□●■■■■■■■■■●●●し■■■■□■■■●b■、■■ PPP・印9▽Bp■やP~==宕干ロロ■。Ceq●■?■O■⑤Cpq■守守■●■ ̄C■q●ロP■■巳・pd■■▽U■①巳、●●P己●■■D■■■口ら■■p■■■■■●■■■■C■■の■P5 ̄■■p■■■■Bd■■bq ■■■0 合までの粒子に直接ダメージを与える微微粒化方法に対し、ナノヴェイタ夕Tmは高速せん断力にて Z 粒子ダメージレス 8 -- 処理されていいるため胴直接粒子にダメージを与え7正ずずにに処処理鐸が可, 能となりま乞已すI 。 、g●巳■■●●●■▽■竹■■■●p■■q●P■qP■■0■■、■■■■●B■■ロ■■■■⑰■■p■■■、■■■、q■■U■O●ppb■pp■bdq P□。‐■■■■■■■ョ-=--可■守一■□■■■■P■■■UPqPP■Pワp■甲ニマ。■UCU印■C巴■缶pp9■q■の■■Sq旱 ●CcnF?q■■■B9口伐り■go●■■9■ロPC■●■CD■■pp0●■p■■UUB9qpqq●■ UU 処理時にノズル部分の細IUい オリィフィスを通過させる為2種逼種の種類の違うつ 3 均一分散 用■粒子を均一に“分 散させせる事雷が可能です。 口090■q■■H0n■Sc■■●■9.--戸。、′・己山-.-二。-‐z四---ェ、子■SSpG9印Wq●■■ODP■⑩H●B■P■■ロ■白日qU■■q■g、うり■■らnqqGCDq9pCOO●■■Dqf●RpO合pcD0PSQn■●qQdgnUDOニョ豈曰二二百二F目角三二今UUdかaDq■巳・けUqb●PqO刀●Cロリマ●DUqQ◆■09可●ロ●GOUDDCPBqUDqO●CO●●DUDeCUO●◆、や●●OBO。●r0●■■、OCC●bO■DbQO■■■00■■00□,01 灘ナノノヴェイイタ夕TMの処理条件 愚高肩粘度(10'@ Qooompa.S s以上)、処理対対応可能℃で す 醗最大投入可能粒径に制限があがり、目安ととしして卓上実験機では30ノリ、以下、量産機では10、0江、以下ととなりまます。 ⑨ 一一一】’ 頤叩一 |』一 弓曽 F■Ⅱ日 ●■0■■ |]』’
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I ナノヴェイタ1Mとは、湿式のメディアレス微粒化装置です。媒体となるメディアが無く、メディアによる打撃や、粒子が直接衝突する タイプと這う為、粒子に与えるエネルギーのコントロールが可能となります。 四ナナノウヴエェイイタMダvMiの原理 。 最高圧力(200MPa)時に得られる遠流(2S0m/s)より発生する超高速せん断力による流体エネルギーを利用して乳化・分散・破砕を 行います。 暉ナノヴェイダMの構造とノズルについて ロスノズル内j思匿 ■●向■■ウ 350 試料--拳。。。⑪ 。。。。。。: 300 口。⑨台恂 。‘:・・・ 250 鰹 <ノズル) Pユ 〈プランジャ) ⑥ ロ⑪方 託I牙 ■ロ■ 1M  ̄ ̄ 、= 圧 ・16 吐出圧力 Max20 櫻口lwJ面。 畷艇位iH5hm) ■06 町 。● 可■ |P ■ 可 b■●■□戸 ●OSD- のO■ F鰻誘圏 |クロス点流速’  ̄ 、■ 青い流路より押し込まれた高速流が中央のクロス部分で、90度 b Qd 圧■ 変芯して赤い流路に送り込まれます。クロス部分で起こる、強力 騨鐵‘ な乱流によって起こるせん断力によって処理されます。…零 qd エネルギー 小 鰹Wズル クロス《 ヨ1- 卸忍 細い部分で流速を上げ合流時点で大き な乱流エネルギー左肇生させます。 発生エネルギーが大きいノズルです。2つの高速流を90度クロスさせる 発生エネルギーをマイルドに抑えたノズルです。2つの穴を通過する間 頚で小さな反応場で大きなせん断力(乱流)を作り出します。 にクロス型ノズルより大吉芯空間を作り、その中でせん断力(乱流)を作 材闘も単結晶ダイヤモンド、焼結ダイヤモンド等を使い分けることでコン り出します。 タミネーションを抑さえています。 材質は単結晶ダイヤモンドを使いコンタミネーションを抑えています。 ◎溝サイズ:Bqum~1mm澱処J里匠MuJ型WUによって適正サイズに股肘しますも ◎溝サイズ:BOUm~1mm蕊処理圏t・処狸物によって適正サイズに認濁します。 ④ ・す〆笥量イタⅧについて ’一( 剛Ⅷ掴川艸訶艸ド ラ モ》 】、 》5 』1 胆奇》「ぬ qqIⅡOG■ ■■』●●◆■■ びゅ■ □■●■の■ I I
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技術] 説明 09金属コンタミ発生舅について ニッケル、銀、チタンなど精巧な電子部品に用いられる材料や、生体に対して医薬品として用いられる材料は、製品の電気的特性や人体への悪影響を 減らすため、製造工程で混入する金属系不純物をppbオーダー以下に抑えることが求められています。 金属系不純物は主に材料の精製限界により残留するものと、材料の加工段階で機械装置等から混入するものがあり、特に粉砕。分散の工程で叩く・潰 すなどの原理を用いる場合には、粉砕メディアの摩耗粉が不純物として混入するケースがあります。粉砕メディアを用いない吉田機械興業の超高圧 流体せん断方式では、粉砕・分散の工程で混入する金属系不純物の量を極めて低レベルに抑えることが可能です。 ゼロ 。 コンタミ  ̄  ̄ 粒ヨニダメージ ● O`,微粒化技術 可 ■量産機(BED)におけるシリカスラリー詩散時の金属ココ愛三発生舅 ]パスあたりの金属コンタミ発生量(ppb) ●処理液 鯛'鰯〕水分散液 ●処理条件 処理圧力:170~200MPa(定吐出) パス回数:~1000(循環) ◇分析方法 固形分の酸分解後、 lCP発光分析 <プランジャ・弁体の材質〉 ●データ表記 1000バスの数値を アルミナセラミック 1パスに換算し、大きい方を表記 |窒化ケイ素セラミック’ 1 2 眉 456 7 '8 10 金属コンタミ発生量(ppb=ppm/1000) 司 ■雷産擢(B-ED)におけるコンタミ発生のメカニズム ’ <チェック弁〉 do 弁体:アルミナ、窒化ケイ素、ジノ レコニアetc Ⅱ■ 〈=》〉 弁座:タングステンカーバイド Press Ⅱ1 消耗 <プランジヤシール>- ナイロン、 ポリエチレンetc 呂壼 I 匂 =D SlurⅣw # 開 霧 Fine 蝋 開|閉蘭 i PsI-ticiee デー ̄、 <ノズル〉 誉 単結晶or焼結ダイヤモンドⅡ② 。〈=〉 、_ Press 、匡二づ シリンダ>ステンレス  ̄〈プランジャ>アルミナ、窒化ケイ素、ジルコニアetc 趣 ,●) !I や■ 8唖8 00 6 04 0 3 0 』叩、 0 0 ■ Ⅱ “■皿。 0 川岸W動□西川叱叱助陥
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合までの微粒子化概念と違い、ノズル内での発生エネルギーがほぼ一定である事を利利用用し、粒子にかかるエネルギーをコントロール する事で今まで出来なかった様々芯処理が可能となりましたた。。そその一例が「ダメージレレスス」」分散です。 囚ナノヴェイタTM分散の特徴 弊社では発生エネルギーをコントロールする事で粒子へのダメージを低減した「ダメージレス分散処理」が可能です。 焼成や表面処理、コーティングなどによる、粒子の凝集・凝結を壊したり傷つけたり、コーティングを剥がしたりすることなく、-次粒子に分散します‘  ̄雪可 国■4粒5子iダ昌メ晨愛ー婁ジ一レ董ス陛夏分蓋散散のの例 藤“ L 蒲 雛jPP6j 技蝋 llji 、、 501U、 粒子径分布 4 0- 焼成前 0 10 ダメージレス 分散 【0 ダメージ分散 (砿砕碑) 成後 /~~---、 1 510100 100C ParticleDiameteKum) クロス型ノズル ストレート型ノズル ilop。、。。●@ 。。 。。、。・・=①: @,000`可一凧一 処理条件:クロス型ノズル 処理条件:ストレート型ノズル BOMPax1パス SOMPa×1パス 鰯 職■■紳熱 ooioJ・J1… 》◎ い■蝿酊鍜 8 2 (ま)のE。|○ン
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技術説明 .]ナノヴェイタTM破砕の特徴 ナノヴェイタTIにおける破砕の特徴は鎚超高速で流れる流体により発生するせん断力です。 その為、今までの粉砕・分散・乳化装置とは異なったナノヴェイタTM特有の傾向があります。 粒子径分布 、ぱ §。 日。 ピークがスライド ■ 7。 するわけではない  ̄ / iliIill1巴I 1. 0. DD oo40:10.`1i2‘i6qb的jblOo2bO4boIdbo2docPar11cleD1amete「(u、】 DPC●の。p■■●■。●■●■●CO●・P■●■■け■●■■●●●▽●Uの●●●●●□●●。●●●●O●●■p■●。●p■●●●●可●■●p●●■●■ ②破砕は角をとりながら進行 ・球状または展性延性のある物質の破砕は苦手 1パスで凝霊は解けるが、1次粒径は窒化しない。 ●凸■●■■凸●▲e●▲◆●■凸●●■Sの●▲●■し●■●●△●●凸●の■▲凸a●の。■●■▲●。■■Sc▲■■●■▲●■-■●凸■■●▲●■凸■SGI 可 ■真真]球:i状i聾状リ聾リカ力カ【宇【部宇日部日東東化化成成((株株))ハハイイププレレシカ】 。 迦麗鍵一 蕊 ;1粒子経分布 1Pass 畷g) pooo遷。 10Pass (重なっている) 興溌ⅧdUljJ 。。蝿。。 騒魎 呵避 鐵篝 - 1 が【鰯 鴬了。ロハh凸已二J詮ii1,;Ⅱ 】 W瀞 。`!早!#_憐,。 ■ 11傘讓繍,ル ■■ 召 11 llN』喋揃肺’10.OOum/dM・ 0 04Q2自白IOEO409COZCD4001Cm220DdU 一 ■ ~■ユ咄 Par【icleDiameler(um】 ■ ■球状ポリエ、チレン【住友糖化(株)フロービーズ】 処 ● 副粒子径分布 謬騨。 a5. 露鑿 6. 台U二Te55. 名にサニ‐ ̄ヨ 月型 DJ魁軸。[aMFH- 粒子表面| 粒子衣ifiiI  ̄臼 戸 -可0 ! L-型 ,lilmjiliiiiiiiiiili i品1Jハ$脚di鵬i2鋤舎,02.鋤!⑪迩麺!。。。…Pa「licleDiamete(um】 鰍 ●■■ 宙副堕餉旧旧Ⅱ E■】48[尼 (誤)のE三○ン (韻)⑩E三○ン (誤)①E三○シ 山 遅 》劇画 掴威哩咽 》》』
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ナノヴエイタTm〔NV)シリーズ量産機ラインアップ ■舅産機 ワニ B-ED '震 全電動(オイルレス)型。増設設置が可能な省スペース設計。 操作パネルからの制御が可能な多機能モデルです。 処理圧力 電源 200MPa(MAX)AC200V22kVA ※内圧防爆仕様での対応も可能です。 処理量 最小処理量200mL 外形寸法 迦繍処理囮BOO(W)x1BOO(D)×1195(H)mm 60Uhr(MAXB4L/hOat200MPa(、20) 120UhKMAX165UI1r)atlOOMPa(D2B)質量 800kg B-EDX(ビルドアップ型) BEDタイプの大量処理タイプ。 B-EDタイプの操作性を更に機能アップしました。 処理圧力電源 200MPa(MAX)AC200V55kVA(基本unit) *増設ユニット48kVA/Uunit 処理量 ※内圧防爆仕様(Exp)での対応も可能です。 迦統処理瞳 150L/hKMAX200Uhr)at200MPa(、24)外形寸法 300Uhr(MAX400L/h「)atlOOMPa(、34)1250(W)x1BOO(、)x1gOO(H)mm ※(W)寸法|ま1unit追加毎に600mm+となります。 質量 1SOOkg P-15DO600※最大運結数4unit(塾本unit+増設sunit) ご要望の圧力・処理量によりオーダーメイド設計製作。周辺機器、 付帯設備連結、流れのレイアウトなど任意に設計・製造が可能です。 処理圧力外形寸法 150MPa(MAX)2350(W)×1200(D)×2000(H)mm 処理通質量 最小処理量1000mし~連続処理量600L/h「,1,800|<g(制御盤装置一体型) 蝋源 AO200V100kVA ※耐圧防燃仕様での対応も可能です。 150.0BOC 、ナノヴェイタTM量産機対応表 処理寵 50L/H『 100L/Hrl200L/H「l300L/H「I400L/卜lr500L/H「'750L/HrllOOOL/Hr3000L/H「 B000UHr 10MPa ●  ̄ 15MI旨〕a :-::-昌一:l毎』::’十 の 2DMPa -万一一・「.・・七丁~|・ 30MPa ・。|・・・。。-丁 B0MPa ●●。i●●Z, 。⑤. ●⑧ ● 75MPa 。●蕊譲。・・。● lOOMPa .。=。。。。. l50MPa - 200MF)E】 :'::l:,::. 幼印部を標準として対応(標準外処理量をご要望の場合は、ご連絡下さい) ⑬ 技術説明・製品ラインア塁茎 巴●あ⑰ 魁● 8? ⑤一②●’@0■ 3●■● ‐1111- I 処理圧力
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ナノヴェイダ、〔NV)シリーズラボ機ラインアップ 石卓上実験機 b】弧U麺而 % MfFii ;:;:::ii察;息:鴬?:二:再fY電ir了露下 豆一 !  ̄ I 1MA 慰轤、 目=& ■日乙 r、鯨:& 騨呂零 篭 -=零一一一 驫篝鑿 写真はGESを撮影 可 ■電動タイプ LES 湿式メディアレス微粒化実験機のスタンダードモデル。 1台で乳化・分散・破砕の3役をこなす卓上型実験機です。 処理圧力 電源 200MPa(MAX) AC200V1.5kVA(L-ESOOS) 皿碑量 外形寸法 最小処理量6mL 548(W)xS4g(D)×517(H)mm 連続肌理最 質量 6L/hKMAX11L/h「)at200MPa(、10) 11L/h「(MAX21Uh「)atlOOMPa(、14) 88kg *処理量はノズルサイズによb変わります。 ※AO100VOBl<VA(L-ESOO4) (受洋牛潅) C-ES 、 ---- ̄‐-■■-■---■■■‐堂■■■- ̄■■■■ ̄ ̄ ̄ ̄---------■ ̄ ̄= 省スペースへの要望を追求したコンパクトタイプです。 LESタイプよりひとまわり小型となりました。 処理圧力 電源 200MPa(MAXXD10) AC200V151<VA(C-ESOOB) 処揮臺 外形寸法 最小処理量SmL 370(W)x2Bg(D)×314.(H)mlrm 連続処理量 質量 6Uh「(MAX9Uh「)at200MPa(、10) 11L/hKMAX17L/h「)atlOOMPa(、14) 41kg *処理量はノズルサイズにより変わります。 ※AC100VOBkVA(C-ESOO4) (受燕牛灌) 麺! 》蕊鰄 賀…
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弊社ナノヴェイタTIvIは、卓上型試験機から量産機、オプション品まで、お客様の用途に合わせたラインアップをご用意していますG 付帯周辺機器も含めやお客様のご使用環境に合わせた製作も可能です。 L-ED 定吐出モードや倍吐出モードに加え、各軸に異種試料を投入し、 任意の割合で吐出できる異種吐出モードを装備しています。 処理圧力 電源 200MPa(MAX) AC200VSkVA 肌理攝 外形寸法 最小処理量6mL 703(W)xaB3(D)xSB4(H)mrr 連続処理量 質量 17L/h「胸(MAX22Uh「[倍])at200MPa(、10) 82L/h「[定](MAX43Uhr脂])atlOOMPa(、14) 90kg *定=定吐出モード、倍=倍吐出モード選択時。 ■エアタイプ(防爆対応) 劃 L-AS 電動型のLESに対する、エア駆動型のスタンダードモデル。 電源不要、防爆対応になります。 処理圧力 エアー源 200MPa(MAX) Q7MPagOONL/min.以上 処理曇 外形寸法 最小処理量8mし 737(W)×282(D)x4Sg(H)mm 連続処理量 質量 MAX12L/hrat200MPa(D10) MAX24UhratlOOMPa(D14) S7kg ※コンパクトタイプL-AS160もあります。 (受洋牛i毒) 1 1 1-A、 LASを2台並列接続した処理量拡大モデル。単軸使用、複軸使用が 任意に操作可能。非吐出速度の調整による脈動低減運転が可能です。 処理圧力 エアー源 200MPa(MAX) O7MPal500NL/min.以上 処碑:厨 外形寸法 蕊遷 最小処理量BmL 880(W)×570(D)×608(H)mm 連続処理量 質量 MAX18Uhrat200MPa(D10) MAXBBL/hratlOOMPa(D14) 1SBkg 鐵 l-AD20D 綱 製品ラインアッゴ
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製品ラインアップ I 国事例超微粒子酸化チタン(颪5F面iW7)アルコキシド加水分解反応 IJ則り高圧マイクロリアクタ 弊社マイクロリアクタは2液が100~1gqum OPLJ弓DB邸 利 の反応場にて高圧(高速流)で反応する為、今ま 臘鱗 でのマイクロリアクタと違った反応が期待出来 一正ゼ ます。 iiLiiiFfIi議塾 ラボ検討(2軸)最少処理量10mL~泥 容易に可能 |蕊蕊i:i③ 景産化移行(4軸) ↓ MRノズルを凪産機に付け替えのみ 回事例難水溶性ポリフェノール(ルチン)(筑溌蝿・凧析〕 鬮鰯 量産M1,蝿量~3sし/Hr(水、ノズル1本の閣台) 国平均粒径(似、)H粒径のばらつぎに,v@%) w霧鬮馴糾繩塞…鬮圖■ NVMRゾズル ビーカー瀧蔭'1虐弩1…繩ビ'ルf隈ア法ップ 反応鰯拡大図 鰄繍柵|鑿鑿!i鳩i--獺蝋 0-01.1刺00 BSF:皿ui 装置サイズ 卓上可能 電力消費量 4ドルチン撒粒子生Iillの聡台 Ba日船削減 回高圧鵬麺 (200MPaxlOOバス) 鑑Ⅱ (当*+Hd ■樹曄イクロリアクタ (50MPaxlパス) lmWiK ■粗粒処理装置 NVR-PO20-OSOOはS00jum以下の粗粒を数十ノumオーダーまで分散する事を目的として製造致しました。粗粒分散、微粒子化処理の前処理 (ビーズミルやメディアレス装置への投入前処理)装置としてご利用頂けます。 <原理> ダマトリ、ナノヴェイタTMと同じくせん断力を利用した製品で、液体中に高速ジェット流を作る事で、液中に乱流を起こし処理をします。 弊社の得意技術であるコンタミを押さえた処理を実現しました。 処理圧力 20MPa(MAX) 処理流量 水換算600L/Hr(MaX760L/Hr) 電源 S相AC200VBOHz 消費電力 12kVAMax.(40A:推奨) ※内圧防爆仕様での対応も可能です。 lliHllCXlf1H 腫蚕|鷺鳫鬮,塵(,園燭憲= 7露 ‘;: 鍵】固圏⑨ lⅡ//&; ミ1腱 ご…/ BU。Ⅲ [qbユヅxUIC3OIェIエ万UF 壗鶉篭;詩/-坐一三G IE / f11 “iiO 鶴|霞 NVR-PO20-OSOC 橇…一舜一 '1-副二瓦 鰯 》卿雷週一一一一鬮 |酸 ! 』」 一一超にⅢ
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■ダマトリシステム 「攪枠。混合。予備分散。予備乳化」 ダマトリは粉体の懸濁時に発生するダマをとる 園ダマトリシステム(2L用) ■Fp ノズルです。効率の良い攪枠混合をお手伝い 致します。濡れの悪い微粉混合や、界面活性剤 j,繭iZ;ポンプ#: …|瀞瓢期u蝋Ⅷ による泡立ちの防止などを、アウトライン・イン ケニb2の妙迄 0.3~Q7MPa .ごン.2.1 エア圧ラインで解消できます。 (mmaaxx220000NNLL) ユーティリティ ■ウマbF■ロ エア接続 ハイカプラ20型 ダタマ゙マトトリリ’1/21'クラス、接続口径:10A ホツッパ゙仕織|,SSoooo、、容容足量::22LL((OOPP::BL5、M1O0LL)) j凝F綱〔、使i用部値材用料材鼠lSSUUSSSS11SSLL、PPTTFFEE 句ダマトリの構造と原理 9 J。」 図外形寸法(DTM 議喪 =経Jj ( 鶚共  ̄ 。、 」 耐圧91MPB(ケース楓準)』 ●』 噸I-L獺ビド⑩、)椥恢dyP繼 日白(鳥親】の640(P4B62Sへルール ・複数の孔を有した部屋を流量i・孔通過時の乱流発生 1s・13s’150の505①2a41sへルール 壁衝突やせん断力による微粒化と強力な混合作用を発揮します。 1/2S10sの34,0の14.01/2Sへルール 相互衝突によるエネルギーで微粒化します。 瀞]管接擶方法(F)変更の鳰台、問合せ下さい。 轍Ejlsフランジ、典サイズヘルール等への対応も可鵬です‘ ロ■■■G■■●●。●●●●0。●◆中●0●●●■●●●■OCb●●qODC●●0℃□■●●●●●O●●■GB●●■■●。●qq●ロ00■■■D●●●●●~■●●●●●●●●●■●U●●●①●。●●●●●●C●■0●●●。●●●qDc●●B■●P●?●■qB●■●■q 蕊Sアダプタ取付時の誠法ですぐ 国材・質 慰他の攪桴方法との比 ケーヌォ本体 SUS316(標準】 ・強力な混合作用で “ダマ,,を除去 i<i鱸 …紗藝鱸豐篝iiim剥轤 (OMC1wt96、O3MPa、8分) 鑑0勺台●●p、●●pロロDOC。■M●■●。b■ 漁上記以外の材質での製作も行いますu 蕊ケース本体は内団髭iH部に21面処、E罷工あるいはエレメント同材質急可鵬ぞすぐ 混合作用 〆 、 園適用スラリー液 呼び!i投入可能-次粒径ベル蕊太醗珂繊径 2S 0-25mm 2.2mm &・賎一 小 1s 025mm 22mm iK・鐺,;關, loFL・・ 1s-s’0.10mm 0-7mm 選議: 塾 l/2SlQ12mnn 5HSIml祠勇躍ロメ 」 灘上衷の媛大投入可能粒径は、拙先ま随は爪にて瀦すことができる程1Hzの 擬製体憲化は多鰭農体に限ります画 手動プロペラ撹押ホモジナイザーダマトリ ■D0D0O●■●●DBC●●00●■●ODOOpO●●●●CQ●●●CO●BD■●■●DP●。◆pDDDO●DCOU6BbQ■、●●●□■●DP●00●●OB●●●0●●Pb●DDG■CD●●●■●●COC●■OB●■00●の●。●●●OeCDDODC□●GC●◆。 図粘度変化 ダマトリを通すことによる粘度変化 ●圧カー流量線図 10000F ■処理前■処理後 (水処理の場合) -試験流体:水道水-2s ̄ 試料名:CMC8000  ̄ 厨ii蘆i嚢mUT]  ̄ 6000 /1s K'000 /-- /二一二二二一 2000 Z/ ̄1ノロロ に m LOOH 050秘 00.1020.3U、4upu、Du 7 遮度 ダマトリノズル前圧力[MPa] 軽お客柧のご甑慌頂く試料粘度によって異なります。 ロ 製品ライ夢アップ 粘度(ヨロ口・巴 』乱流発生 |》← 000000000b BS42OBS42 11111 [Eピコ]醐擴
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オプション及び材質変更可能部品 ■■■ 旨慮p 露バックプレッシャーノズル 1W 廟I:1M昌鯛 瀞熱交換器ユニット 釘加熱システム 露大容量リザーバ 、 鰯1N弁座 P 」 ⑱ 』
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鰹営蜑!::iZIIHZj7壱ZAPオ”ヨンは下記のようになります。お客様のご要望やご要求を実現するため、 I様々な周辺機器をご用意しております。 的 |材質変更可能部品 ■7大E容1寄量舅リリザワーノバK 塵■I1ⅡNⅥチ弁ド座鯉 7言喀# 処理が多い場合はSUS31S製のロート 硬い粒子を処理する場合は、超硬(弁座 (500mm1M,O1O0O0m0lm1、,22000000mmll)を製 ソ 作可能です。 部のみ)1N弁座を使用する事により、耐 久性を上げる事が可能です。 蕊蕊塩…《 ※標準:ガラスロローートト<<110000mmll>>がが付付属属。 w蕊 ※標準:SSUUSS3311BB製製11NN弁座が付属。へliiil鞠 l`|i曇ljiIi1li1i;1蘂Ⅱ M園、ポホーール 剛■ぞへ鷺ツツドト 窒化珪素ポールを使用する事で、コンタ 材質をSUSG30にする事で強度 ミのコントロールが可能です。. アップが可能です。又接液部を特 .』郵鰹》否添 ※標準:アルミセラミック製ポールが付属。 露醤 殊電解研磨にする事によりコンタ⑤△。』 ミや残漬によるクロスコンタミレス、洗浄性を向上できます。 ■ ※標準:SUSSSS11SS製製ヘヘッットド゙が付属㈹。 髄 円‐可 園■フプランジャヤガイド ■園プゾランフジャンンヤ._ ジルコニア、窒化珪素を使う事でコンタ ジルコニア、窒化珪素やボアフリー材質 ミや耐腐食性があげられます。 を使用する事にによよりり、ココンンタタミの量や種 ※標準:C1720(ベリリウム銅)プラン 類をコントロールする頚事が可能です。 ジヤガイドが付`,属。 ※標準:アルミナセラミックス製プラン ジャが付属。 ■園フプフランシジャヤシール プランジヤシールは、処理する材料や、使 |オプション 用する溶媒によって、耐久性が変わりま 四F昼 す。罰 ■バックプレッシャーノズル 露。。 ■加熱加シス熱テム,システム- 特にエマルジョンの製造時、ノズル処理後にバックプレッ シャーノズルを接続する事でより小さなエマルジョンを製造す る事が可能となります。 ■園熱交換器ユニット 毎正 篭 琶; オートクレープ処理ではどうしてもバッチ処理になってし まいますが、弊社加熱システムは実液く水>処理温度が 11B0℃まで可能です。 高せん断力のかかる装置は処理後の温潟度層上卜昇があります。 弊社の熱交換器ユニットは二重管構造になっており、効率よく熱交 換が可能な為小型でありながら高効率芯な熱処理が可能です。 鰯 オプション
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実験。レンタルについて j実験について 基本お客様立会による 項目 1000~16:80 テスト開始及び終了時間 、事前打合せ(別紙実験前資料及び実験可否伺い、実験依頼書)に基づき実施 テスト条件 ・お客様ご指示に基づき実施 .1日で処理可能な量、又は1日で処理可能検体数にて実施 テスト試料 燕騨細はテスト内容仁にて大きく変わる為、別途内容お打合せの上決定します。 ,縣濁液、洗浄液、分散剤、サンプル瓶、廃液処理容器はお客様にてご負担(ご支給) 準備品 ※テスト残品、廃液は全て返却させて頂きますのでお客様にて処理下さい。 三重ナノテク生産技術センター(ナノテク事業本部) 〒511C102 三重県桑名市多度町香取2B45 TEL:O5S4-4g-2255/FAX:O5g44g-2277 環境:実験室:已室(共有測定室1室)少量実験 試験室IS室(共有調合室1皇)量産実験 設備:ラボ機:CES]しAS,LEDダマトリシステム 型園幾:P-150-O100、BED 測定器レーザー顕微鏡、光学顕微鏡、粒度分布計、 粘度計、光電比色計 装置設備 塾 L-AS200 L-EDO15G 、目ヨニIQIQI二 マイクロリアクタ 測定設備他 ②粒度分布測定器 レーザー回折倣目戒 、比色計 光融比色計(典京光圃社騨】 (ペックマン・コールター社副) 型式lLS1aa2O ・幽式型l式ANA-AN1A-B1BA-十l- i1MI定レンジIOO4-2000um 瀞IフFィ瀞フルィタルタ|波長772200,,m 」 試料脚入部|繩モジュールタイプ(約200ml】 試賊料鰯鰯入入8BMM11100mm角mカ角゙ガララススセル9M体棚箙|水または一般的な有掘溶而 拠jM位F凝位熟示読|船T髄まTたまはたはAAbbss ②その他の機器 ②レーザー顕微鏡 3口形状測定画臘鰯(キーエンス社劉) 温和1 性IMj輔数m1 型式式|VHB500 ③粘度計 秤 ,01~59,01~1200092台 コーソプレート型粘腰叶(にE型型))((プフル゚ツルクッフクイフーィルートル゙ド社壮剛劉】  ̄ ̄ I箇寧宮1Z2圏00~B20O0O~(B光O学O(ズ光ー学ムズ便ー用ム便爾用は爾1は81800000】) 型式i式LVDVL-VDIV+-隠I+度C制昌度御制付御付きき)) PHメータ室.簡易型(半導体方式)1台 照明方式|落射 測定範囲ICB0.~s~2300..772200((mmPPaa,.s(cP)) ホモジナイt''-.|卓上型(so~BooomI)1台 ,,1K艫囲賦鰄料l刷H’050.~5~]1 .0omlI 強WmW1風醗燃臓140~270℃450x400x400mIT1 1台③光学顕微鏡 デジタルマイクロスコープ〔キーエンス社副) ロータリ常烈1M(lノータ100~2000m 1台 型式VHBVOH・DBOCDO デジタル皿粘Mlf(B型)(ブルックフィールド社齪) lil鷲澱lMiiiilM#l240W506x30ax150mml台 ズー゙ムー1K巡'副りバ乱ス ノズVHVH、-フZ92円S VVH-Z45 鰯幽式パl識H‘VDVHV-DVI-I十十 200~2SPO Ⅱ000(mPa,s(cP) 撫拶Wil 巳O~1巳QOmrI1 2台傭.率:|率2S~2S1~1775 4s0~43500~3000□0 J;WMI姫定顯範1囲1111200~2SPOO1OOO(mPa's(cP)) 】照W明明方.式式|藩9落3鮒 落射・透過 11MM醐醐賦卿賊l料il1ill50~550000m’I スターラ許’50~500ml程度 1台 ⑩