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サブフェムトインクジェット加工装置、微小量分注装置、レジストマーキングプリンターなど
・サブフェムトインクジェット加工装置
超微量 高粘度対応 立体構造体形成
最少吐出量0.1フェムトリットル
高粘度液(10,000cps)非加熱吐出
立体構造体(ピラー)形成
・微少量分注装置 sciFLEXARRAYER
・レジスト・マーキングプリンター
・超微細噴霧装置スプレーコーター
ほか
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このカタログについて
ドキュメント名 | サブフェムトインクジェット加工装置ほか製品のご案内 |
---|---|
ドキュメント種別 | 製品カタログ |
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登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | 株式会社SIJテクノロジ (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
Page1
■~
11サブフエムトインクジエットカロエ装装置
一超微量高粘度対応立体構造体形成一
◇最少吐出量01フエムトリットル
◇高粘度液(10,OOOcps)非加熱吐出
 ̄
◇立体構造体(ビラー)形成  ̄
し ゴ
。=装置技術の概要 既存インクジェット スーパー方式で吐出できる インクジェット
液滴サイズ の液滴サイズ
■サブフェムトインクジェットカロエ装置は論独自開発のスーパーインクジェット(Slj)
ヘッドを搭載し、超微量・高粘度吐出を可能にしました。現在市販されている家庭犀
インクジェットプリンターに使われているヘッドの吐出できる液滴サイズに比べ、体 体調
積で1/1000以下の超微小液滴の吐出が可能です。 1/1000以下1pl
(直【径約13側、) >
1f1以下
■サブフェムトインクジェット加エ装置は、デスクトップに置けるほどコンパクトです。 (直径1ノリ、以下)
大気中。常温で、フォトリソグラフエ法に匹敵する微細なパターンを直接描画し、短
時間で簡単操作で試作可能です。
基板上
直径数十|」mに広がってしまう直径11」m以下も可能
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=・特長 'E2■■■■■| ■
pH 側■■■■■1
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■吐出量:Ojfl(フエムトリットル)~10pl(ピコリットル)世界最少吐出量 1国■■■■■|⑤1
ライン1幅:0.61」m~数十|」、 溌■叩■ 議 )団■■■■■’
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軸 ■=己------m
■対応粘度範囲:05~10,OOOcps(非加熱)高粘度液非加熱吐出
線幅311m、銀ペースト 綴1幅51J、、金ペースト
■立体構造体(ピラー)形成高精度な着弾位置!
CoCo。[ゴロ。。。ご
CCC。□pcClCoc
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■広範な種類の液種が吐出可能専用インク不要I UoCCoQd0QDo
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導電、絶縁、レジスト接着剤、たんぱく質、溶剤系、UV系など ロコQUOOcoOOq
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樹脂インク吐止
回I燗パターン雁’
=●高いユーザビリテイ
■わずらわしいヘッドや供給系の洗浄不要
辺わずか1Cl」|の微量充填により長時間使用可能。希少・高価な材料を無駄にしません。
■簡単にインクの充填ができ、わずか3分でヘッド交換可能
■専用ソフトウェアへの数値入力により、吐出量(ライン幅、ドット径)の変更が即可能
■分解能0.11」m、繰返し位置決め±0.21」mの高精度試料ステージ搭載
回塗布最中の映像をリアルタイム観察可能 7DUzJmnj"miFTgTI』T「諺顕V
■CODカメラにて再現良<位置合わせ可能(ソフトウェアによる0補正機能付) 立体構造体(ピラー)形成
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照鱒灘蒟蒻ノロジ………2…… www,sijtechnology,CO、/
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型:11
Page2
最先端研究開発に貢献
スーパーインクジェットレンタルサービス
サブフエムトイインクジエットカロエ装置
一超微量高粘度対応立体構造体形成一
◇最少吐出量01フエムトリットル
◇高粘度液(10,OOOcps)非加熱吐出
上立体構造体(ピラー)形成
Q墨辱
.=装置技術の概要
既存インクジェット スーパー
□サブフエムトインクジェットカロエ装置は、独自開発のスーパーインクジェット
方式で吐出できる インクジェット
(Slj)ヘッドを搭載し、超微量・高粘度吐出を可能にしました。
液滴サイズ の液滴サイズ
■吐出量:O1fl(フェムトリットル)~10pl(ピコリットル)世界最少吐出量!
ライン幅0.6ノリ、~数十JUm
■対応粘度範囲:0.5~10,OOOcps(非加熱)高粘度液非加熱吐出 体頑
■立体構造体(ピラー)形成高精度な着弾位置! 1/1000以下1pl
■広範な種類の液種が吐出可能専用インク不要I (直径約13u、) し
1,以下
導電.絶縁、レジスト、接着剤、たんぱく質、溶剤系、UV系など (直径1は、以下)
=。高いユーザビリテイ 基板上
■わずらわしいヘッドや供給系の洗浄不要
■わずか10ノリlの微量充填により長時間使用可能。希少。高価な材料を無駄にしません。
■簡単にインクの充填ができ、わずか3分でヘッド交換可能
■専用ソフトウエアへの数値入力により、吐出量(ライン幅、ドット径)の変更が即可能
■分解能0Mm、繰返し位置決め±02ノリmの高精度試料ステージ搭載
■塗布最中の映像をリアルタイム観察可能
■CCDカメラにて再現良<位置合わせ可能(ソフトウェアによる0補正機能付)
●=装置仕様 吐出量 0.11フフェェムムトト~~1100ピピコリットル
対応粘度 00..55~'100,.OOOmPa・s
描画エリア 50x50mm
描画ステージ・ステージ精度|リニリアニモアーモター駆タ動駆2動軸2・軸・分分解解能能::00..11」ノum
アライメント機能 0000,,カメラによる位置合わせ(ソフト0補正)、指定位置への塗布可
描画パターン 点、線、、円、四角、バンプ形成
オプション ピエェゾ型インクジェット吸鵠/ヒーターステージ.、オートフナオカースユニットなど
●● レンタル価格
●
標準モデル:STOSO(定価\15DOC,000(税抜)
契約期間:12ケ月、24ケ月、36ケ月プランをご用意
例:12ケ月契約時月額¥542000(税抜)
※一括のお支払。複数年にわたる月払い可 ※本サービスはアカデミック向けのみ。
※記載の内容、価格鯵仕様などは予告なしに
※契約期間終了後の買い取りご希望対応可 変更する場合があります。
URL
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TEL||FAX
株転式会ヘ社゙Sンlチjテ←クノロジ O29-896-5110029-896-5111 wwWsijtechno10gy、CO、/
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Page3
「
ス一パーインクジェット技術一実績例一
L
エレクトロニクス バイオ
配線形成。レジスト形成園樹脂系インク塗布 タンパク質②DNA溶液画細胞含有溶液
配線材料:Au/Ag/Ou/Ni/P。/Pt/ITOなど 事例:細胞の成長方向制御、溶液分注、細胞塗布
樹脂系:アクリル/エポキシ/フッ素/高分子/他 マイクロ流路作製、ラボロオン。チップ
一戸一一一
GoldNanopaste SilverNanopastePhotoresistsAZP4210
(Harimachemlnc) (Harimachemlno)(AZE1ectronicMaterials)
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動物由来たんぱく質(ECMゲル)を
戸z可妬 ずぜ可All 用いたライン形成
Line:6.8/um 戸」MpBUhGOulI
(コラーゲン、ラミニンなど含有)
Height:2.5ノum
線幅15Ium
Pitch:12.1ノリ、 $’ 」I
空気界面を利用した液晶分子の光配向技術を開発
割蚤fJS茜、阻1分分子千ののススキン周扇
】空気ロ 名古屋大学大学院エ学研究科の関隆広教授、永野修作准教授、原光生助教のグループは、新たな液晶材料の光配向
手法を開発しました。
蕊, この研究成果は、2014年2月18日発行のNatweCommuI1ications(doi:10」038/ncomms4320)に掲載されました。閏教授のグループでは、液晶物質の膜と空気の界面に配向能を持つスキン原を設|ナて、液晶材料を配向させる新技術を開発しました。スキン層は偏光照射により液晶分子を自由な方向に配向させる能力をもち、また配向方向を書き換え
l劇料(仏:hhiillIiK鯉鰹IB
IBZⅡト噸゙図寵可図】可月】月ここるる幾幾厘厘応応で璽翼輌訊徽IIにに冊Ⅱ限Hさ眠JさL』1Lリ二ニ蝿蝿反反応応詞詞唾厩 ることもできます。この研究では、高分子液晶材料に少塾の光配向能をもつブロック共重合体を混ぜ、これを熱処理す
勵鋤L肋分界界嗜E況硬I凋髄させtるr血も緬世い凋ていluてf脚l8L分分矛世笹i耐氾側側ささtIrも るだけで空気側にこのスキン属を偏析させます。
回1従来宋と今回脚児兜ささオ北Lフオ゙ニニ抽抽凸凸のの)盗函墨a向乎平法 インクジェットプリンターを用いれば、空気側'二膜を描画して光配向をさせることもできます。研究では、超微景塗布が可
能なスーパーインクジェット装置を用いることでブロック共重合体を直接描画することに成功しました。熱処理や偏光照
射を行わなければ、描画パターンは浮き出ないため潜像として機能させることが可能です。
…孟篇'農 必要な時にだけ光照射することで像が浮かび上がることと、響き換えも可能であることから、液晶材料を偽造防止システムに利用するなど新たな用途に応用される可能性があります。伽十函1岬騒函 slJの技術のポイント:描画パターンの微細性、高粘度インクの吐出が可能な点、微量なインクで十分なため高価な物
質であっても印刷が可能な点。
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苛Tごとで薗圃煙の出ミ王ッU、T:l誼装が祁綴り五直這れる
有機半導体の高性能化をもたらす塗布技術の開発に成功
0.6 株式会社slJテクノロジと、国立大学法人大阪大学産業科学研究所(現東京大学)の竹谷純一教授お
05 よび岡本敏宏准教授は、有機トランジスタの性能を大きく左右する有機半導体薄膜の結晶性を向上さ
せる、超微細インクジェット(スーパーインクジェット:slJ)を使った高性能有機半導体薄膜の塗布技術
討厘牛堺ドエ零愚乏警凝上に滴~F-;凶且 の開発に成功しました。
銅山..Iズ膝大さく袴勺jkLlU17鰭品|臭、、
蝿『⑩轄乱刀買心ねる. 2013年1月29日プレスリリース
31
迅 大阪大学が開発した結晶性有機半導体材料をslJテクノロジの超微細インクジェットで塗布する事で、
n #綱の方位力《そろった高品質な有職と|と蝋休結晶薄膜を高速形成
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■ ・形成された有機半導体結晶薄膜上に有機トランジスタ構造を作成
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CVcOICにm2〉 ・結晶性を高めるための熱処理を行う率無く、a8Vcm2/Vsの嵩移動度を実現
l鷺鵬i罰r‐た戸殺宇再体】:塾再漂:1恥1CJw ・開発技術は局所的に結晶方位を制御した微細塗布が可能
l麺I:fオ戸司(二iZ蜂貫化寸二危瑚 S公按lIiL尊茜IfII:錫電気巷lZ1慌存
方に的苣らへ毛、靖品曾葬房品位樺2,M,鮮賦異す左.
インクジェット塗布技術を用いた人工生体膜の作製
'議隠瀞′… 国立大学神戸大学自然科学系先端融合研究環遺伝子実験センター今石浩正教授、森垣憲一准教授のグルー
趣』Eiijl5F錘勤iii三iiH,鷺鼠鬮総 プの論文が2013年4月29日発行のLangmuir(。。i:10」021/la400570h)に掲載されました。
固体基板表面に人エ生体膜を集職化するためには、膜成分をデザインされた部位に固定化する必要がありますが、
揺…ロ國閻塵! 脂質膜とタンパク質からなる膜柵造は疎水性が高く空気中で不安定化するため、固定化は困難でした。この技術課題を解決するため、本研究ではポリマー化された脂質二分子膜を安定な枠組みとして用い、区画内にア
"…■■■辮 ガロース・トレハロースを含んだ水溶液を塗布してから脂質膜を塗布する二段階塗布法を用いることで、生体膜成分
を基板表面に塗布して固定化することに成功しました。この際、塗布量を糀密に制御するためにスーパーインク
ジェット技術が使われました。
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製品ラインナップ拡大中!
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ご希望の用途、吐出量、粘度に合わせてご提案致します。
粘度(mPa.s)
◆SIJ LOOOIOOO .可
吐出量:OjfI(フエムトリットル)~10pl(ピコリットル) ピエゾ式
ライン幅:0.Mm~数+lUm 100,00 ディスペンサ
対応粘度範囲:0.5~1qOOOmPaos(非加熱) 0  ̄
10000 I
◆多量吐出型slJ
1000
吐出量:1pl(ピコリツトル)~数十pl(ピコリットル)
ライン幅:2qum~百数十ノリ、 多量吐出型
1m
対応粘度範囲:0.5~10,OOOmPa.s(非加熱) SIJ SIJ
10
◆ピエゾ式ディスペンサ '1 』
匙 ロ。
吐出量:200pl(ピコリツトル)~数十,1(ナノリツトル) 1
ライン幅:100ノリ、~百数ノum 塗布量
lfl lpl 1,1
対応粘度範囲:1~1,000,OOOmPa.s(非加熱)
ライン幅
1l/um lOノUm55qqUUmmllOOq」Um、 一|ライン幅
■超精密SIj/多量吐出型SIJ
配線形成、レジストマスクレスパターニング
配線幅:1ノリ、~10qum
材料:Au/Ag/Ou/Ni/P。/Pt/ITO、レジスト材、UV樹脂など
「 基板:ガラス/シリコンウエハー/ポリイミド/PET/
ダイヤモンド/サファイア/金属/セラミックス/他
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0
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一麺、
00コ【um】
レジスト描画例
線幅:21」m粘度:10,OOOmPaos ナノ金属インクによる立体構造形成IFⅢ
■高粘度高速ジェットディスペンサ(ピエゾ式) 配線形成蔦アンダーフィル
線幅:1OqUm~
材料:銀ペースト、アンダーフィル剤
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銀ペースト塗布 アンダーフィル塗布
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爲照I篝i要i鬘i震j鴬ノロジ お問い合わせ先
wwwsijtechnology・CO、/ し ノ
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蝋坐
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製品■ ■ ラ U 鰯●__hご_ ラインナップ拡大中!
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ご希望の用途、吐出量、粘度に合わせてご提案致します。
、特注生産用超精密塗布装置(slJ式)
大型基板対応機 配線リペスレジスト局所塗布、微小接着、マーキング
配線111息:Lu、~100/um
閉
材料:AL1/Ag/Cu/レジスト材、UV樹脂など
基板:ガラス/シリコンウエハー/ポリイミド/PET/
金属/セラミックス/他
RtoR対応機 --
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固定砥粒型
リペア応用例 ソーワイヤ
応用例
句大面積超微細噴霧装置(スプレーコーダー)(slJ式またはエア式)
薄膜から厚膜コーティング
膜厚:数nm~数一Mm
材料:ナノ粒子含有インク、レジスト材、
防湿剤など
用途:MEMSデバイス、半導体、
燃料電池、フィルム基材用途、
基板への防湿剤塗布、
金型上への雛型剤の噴霧
電蕊1鑿|劃
■レジスト・マーキングプリンター(ピエゾ式) レジストパターニング
線幅:100ノリ、~
専用インク&専用フィルムで簡単に 材料:専用レジスト材
素早くフレキ基板が作成できます。 基板:専用銅張り基板
可p, ■ 0 ■一回RpHpBi 凸 VCd PP』
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F巳 線幅200ミクロン
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スペース50ミクロン
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微少量分注装置 sclenlon
ENABLINGLIFESCIENCE
sciFLEXARRAYER
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申。F…目UT哨戸ごPCう砂…wP臣Sr惣画r琴畢生・刃8Fい、召巳了⑫.▼巧■粥瞬ザァー illjiiii露鈩
㈹llllIN
■=…-- 樫
デッドボリューム:<21ML
・アッセイの小型化
。1536個または3456個のウェルに005mmの位置精度でサブナノリットルの試薬を自動分注
・浅型のバイアルやチューブ,プレートからも直接分注
特徴 sciFLEXARRAYER アコースティック分注機
試薬容器 バイアル,各各種種ププレート 滴合するプレートのみ
デッドボリューム 合計くく22卜UlL 各ウエルで]‐20LL
ほぼすべての液体 DMS○
使用可能な液体
幅広い粘性に対応 水溶液
OO7nL-200nL以上 Z5nL-50卜IL(1ウエル当たり)
分注鮴体積
OOOO77nnLL‐-0088n,L単位で選択可能 IOnL-25nL単位
精密な分注位置指定が必要な
分注ターゲット 上下を反転させたプレート,基板
各種プレート,基板
アプリケーション
●●DNA,タンパク質ヅグリカンアレイ,バイオセンサーローディング
●●セルトランスフェクションアレイ
●●MALDl-MSの試料調製とターゲットローディング
●●精確な希釈系列調製,微少量添加 『
●●化合物ライブラリー
 ̄ 屯
●●ディスク型(円形ターゲット)やカスタマイズターゲットへのスポッティング
●●アッセイ開発,スクリーニング ■
中
■
■ ■
●●マイクロアレイ解析 U、■。 ■■
■■
■ ̄
scienion社代理店
TEL 11FAX URL
S…1,.、蘆。総,繍。技風術,謬株鱸式ヘ会゙社ンSチ1ャJーテクノロジ O29-896-5mOOZ9-896-5111 www、sijtechnoIogVocom
Page7
sciFLExARRAYERシリーズ
SX S100
機能。オプション 33 S12hybrid
使用用途 R&D 中規模ライン生産 大騒生産 大臺牛灌
sciDROPPlCO 図 ③ ○ 国
sciDROPNANO × ○ ○ ○ ○
-
1-12
キャピラリー数 11-- 4 1-8 1-8 1-8
スライドガラス24枚 スライドガラス横24枚 スライドガラス70枚 スライドガラス140枚
ターゲット数 連続生産
MTFP 4枚 縦36枚,MTP4枚 MTP12枚 MTP27枚
XY′ベ ルト XYマグネット XYマグネット XYマグネットZスピン
軸駆動システム XYZスピンドルZスピビンドル Zスピンドル Zスピンドル ドル.コンベヤベルト
XY速度 55001Tm、m/s 100mm/s 3000mm/s 3000mm/s 、。
分解能 lOLlm lum |」ITI lun ur
(ステップ$サイズ)
正確度 〈251-1,, <51」、 <31-1m 3M、、 31-1hコ
確度 '-,’ <]5Unr <51」、 <5L1m <51-1
3D液滴観察カメラ × × オプション オプション ③
ライブストリームカメラ オプション オプション オプション オプション
真空吸着ホルダー × オプション オプション オプション ×
Spo↑-on‐↑he-fly × × オプション オプション オプション
(高速スボッティング)
ターゲットアライメント オプミション オプション オプション オプション オプション
アレイQc用ソフト x× オプション オプション オプション オプション
本体サイズImm] 666655x60 0x700 760x850x650 1250x830x1820 l674x1712x851 l300x800x1200
ピエゾディスペンスキャピラリーSciDROPPlCO&PDCコーティング*
PDC40:l00-150pLTypel:オリゴヌクレオチド水溶液,有機溶媒
PDC50:150-220pLType2:DMSQDMFなど,タンパク質混合物(ライセート,アレルゲンなど)
PDC60:220-300pLType3:タンパク質溶液,メタノール,イソプロパノールアセトニトリル
PDC70:300-360pLType4:タンパク質溶液,Sol-GelTM試料
PDC80:360-440pLCusiomized:お客様のご要望を承ります
PDC90:440-520pL*SClEN'○N独自
PDC10n520-600pL
PDC110:600-800pし
直感的なユーザーインターフェース品質管理
・スポッティングの設定をデザイン.cv1%以下で液滴体積を測定
・定義済みタスクを使用可。液滴のアクティブ制御
・強力なソフトウェア
スマートなターゲットアライメント。欠陥部分への再スポッティング
゜オンラインターゲットアライメント゜液滴特性のチューニング
゜CCDカメラによる検出。3D液滴観察カメラ
・使いやすいソフトウェアによる検出と分析。ライブストリームカメラ
この他にもさまざまなアクセサリーおよびオプションをご用意しております
scienion社代理店
1TEL||FAX |URL
景照;l1ii:i:菫ii:i二i弾ラノロジ OZ9-896-5mOO29-8g6-51Tl www,sijtechnologVocom
趣一○
馴一略 叫1 迺|釦xlxlx
Page8
レジスト・マーキングプリンター
ルジスト鯛途爆マーキング用途に特化 ■
.AとIサイズを約240秒で高選印刷
・ユーザービリテイの徹底追及
】
3つの動作で印刷スターM
条件だしの手間を従来比S0%削減1 ビーム1- Pu
夢戸
インクの補充は1分で完了!  ̄ P■ 一三■か
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。=装置概要
■ピエゾ型インクジェットヘッド及びUV照射ユニットを搭載。レジストパターンやマーキングの印刷と硬化を1台の装置で実現。
…0,0△OwuUDDODDO0…0m釘UIIlI
=・特長
■オリジナルインクを開発。インクジェットヘッドとのマッチングにより
条件だしの手間を大幅削減 i(iiij蕊ilIiii
DC準P
■ユーザービリティを追求した独自機構によりインクの補充、交換が簡便
IiifH十桐十片’
=●用途例 |:iii霊:!:;
.Ⅲ)
■PET/ポリイミドフィルムの電極形成、メタルマスク、ブリッジレスメタルパーツ、
34
金属銘板のレジストパターン印刷
■木、石、ステンレス、ガラスなどへの名入れ印刷
`----
●=仕様 '鯉|鯛|蝋蹴蝋Il蹴臘il
仕様 レジストプリンターSRP-3021
ピエゾ駆動型インクジェット方式
プリント方法
(最小線幅100」Um※条件により異なる場合があります。)
使用画像データ形式 ビツトマツプ(BMP)形式(2値)
搭載可能メディア寸法 800mm(W)x210mm(D)x0.8mm以上30mm以下(H)
印刷速度 100mm/sec、250mm/se。(選択)
印刷時間(最大サイズ時) 約240秒/枚(印刷速度250mm/sec選択時)
メディア固定方法 粘着テープによる貼り付け。r吸着ステージ
PCインターフェース USB2p(WINDOWS732bit,64bitをご準備ください)
装置サイズ 約600mm(W)×350mm(D)X330mnn(H)
本体電源及び消費電力 AC85~265V消費電力100W以下
TEL||FAX URL
熟:J;|i鑿ii菫111|籟鴬ノロジ O29-896-5110029-896-5111 www・sijtechnol0gycom/
Page9
「
レジスト印漏!lプロセス事例!
▲」
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工程
Step1.印刷データを作成(2値BMP形式)
n
Step2レジストプリンターを用いてレジスト材を印刷
 ̄ ̄ ̄ ̄ ,!{'1..
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巳 諄’ 凸
所要時間:約30秒
Step3エッチング処理 ■R
 ̄ 紬
旦 皇 奎壽, ドデiiMi熱■ llllKl AI:,凋蝿§鱗6.閨! l1H1
所要時間:約60秒
Step4.. レジスト材剥離処理
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全奎 L’ llMUR 1屯 1IW噸鰯
' 所要時間約60秒
使用機材 いくW=了11
●■
。レジストプリンター:SRP-3021+専用レジスト材
凸・P
・。専用ポリイミドフィルム銅蒸着品(銅銅厚厚みみ22ノ,リu、) :川に索I 傍 xロ
・専用ポリエステルフィルム銅蒸着品(銅厚み0Mm) ザ b⑩ I
I
虹lH 0
・市販エッチング液 0 B■ ZS
O■
互旦乏吋H6〆、「 ・’’0● I H西田
・専用レジスト剥離液
線幅200ミクロン
※所要時間は印刷データや厚み条件等により異なります
スペース50ミクロン
1
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ThePartnerforSuccess-
'こ'|員11-曇..’。 zUi<《三N。
゛DFMlnkjet
& プリンテッド鋤エレクトロニク(スの
製品鯛議議iil率を刷新菅r暑),專濡迄Al。
』ゴリンテツド・エレクトロニクス技術への対応
薄く、軽く、壊れにくい特徴を活かし、有機薄膜太陽電池、電子ペーパー、有機ELディスプレイ、
有機EL照明、RFlD、フロアセンサー、非接触給電シートなど、製品化に向けて研究開発が進み、 OiiIiWiiliwij
h
」
大きな成長が見込まれています。DFMlnkletは、インクジェット装置用のデータ生成および編集
で大幅な効率改善を実現します。
...,….,.1.. .ド`爵繊
一
lDFMlnkjetの概要と特徴
、デサYンデー髭鼬
し新規作成/入力夢 倭騨熱編藥憂 傍辨鑿デ鐘顎断 し 》w刷夛
可
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ロBGい●-』
”'1叺澤唾。避一・=一j【
鐘 l蕊驫腔閂j鴎iljFlliiil
Ⅵ ⑰P。■ LP目
データ入力に頼らない新規設計機能 L各種データフォーマット入出力対応
簡単なラスターデータ出力 入力デザインのデータ問題箇所チェック
装置や加工条件に合わせた専用パラメータ 母製造エ法や加エ条件に応じた編集機能
実際の印刷イメージを事前にシミュレーション
lDFMlnkjetの主な機能
 ̄=。
国 エット鯛1のた繊②事用機能; 〔 イン~瓢ター出鰄獅有効機能】
解像度指定制限なし ③間引き処理 ■各種図形入力/編集/整形 ■データチェック
、導体幅による解像度最適化 融間引き個別指定 、図形オフセット/論理演算 a歪み補正
]印刷シミュレーション ③液滴量最適化 、各種名詞変換 9形状差分比較
エッジ整形/補強 、型ラスター比較 パッド登録/展開 ■スケーリング
エッジ整形有無の比較 基材の歪みを考慮した 論理演算による
間引き処理
印刷シミュレーション データ補正 外形抽出
=
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iIii霊:蕊. 』「1 Ⅱ ⅢUF 罰 Ⅲ 唾グ 1小 Ⅲ
ー催いよ■凶
任意形状間引き液滴:量最適化 -
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販売代理店
し腰:i灘二W名古要屋支社 鵜鬮…… 鼻!:J:灘灘譽鵡易ロジ
KEN関西支社 〒300-2635
〒530-0004大阪市北区堂島藻-228堂島アクシスロレ9F 茨城県つくば市東光台5-9-5
TEL:O29-896-5110FAXO29-896-5I1I
URし:wwwsljtGchnology,comE-maillnfo0siJ上ccilI1ologycom
※本カタログは開発予定の機龍も含めて記戦してありま巍衰た、製品の性能向上のため、仕槻・外観などを予告芯<変更することがあります上 、
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一面』函■』■F一
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Printed electronicstechnologyisexpectedtopromotetheextensivegrowthinthe
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oommercializationLltilizingitsstandoutcharacteristics:thin,lightⅢandhardto
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datafo「lnkietprinting.
OProcessF1owandBeneficialFeatures
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DAbilitytostartnewdesignflomsc「atch 陶Supportforvariousdataformats
DSimplestepsofexporting「asterdata 鰯Checkinginputdesigndatafo「problems
DParametel・sexcIusivetoeqLIipmentorworl(ingcondiIjons 鍵EditfunctionsflexibletomanufactLlring
DCapabilitytopreviewactualprintoutimagesbeforeha、。 techniquesorworkingconditions
lKeyFunctions
国sCiWicfunlBti。、s禰畷mykiet戯inting ) に i剛馳fM$iiiii鱗織neSi9McbMa鮒鰯蝋轍p加cesses
■Limitless「esoMion 騨Thinout plnpul/EdiVOplimizeva「iousshapes ごDatacheck
DOplilnize「esoluIionbyconducIorwidlh ③Speciiyindividuallhinnin9pailer「 9Ofisetshapes/lo9icalope「ation DCorrectdistortion
[DPrintoutpreview 蝋Optimumdropletofinl〈 ②Convertdiversenouns 過Comparediflerenceinshapes
⑨Edging/Reinfor0ementfunotion 圏Comparerasterdata SAdd/Expandpads ⑨Scalings
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2-25-1,Eda-Higashi,Tsuzuki-ku,Ybkohama,224-8585,japan 5-9-51Tokodai・Tsukuba-shi‘Ibamkl,300-2635,Japan
,くENTbl(81)45-942-7743Fax(81)45-942-3245 TEL:I81-29-896-5110MX:0-29-896苔51I1
URI-:www・sijtechnoIogyLcomE-mall:in「o@sUlechnologMcom
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*Thlsdalasheetincludesleaturesunderdevelopment.*SpeciIicalionsanddesignsaresubjecttochangeioriml〕「ovementinp7oducls
・A111rademarksandloqosmenlionBdinlhisbrochureareIheproperIyofIheirrespecliveowners. 。2014ZUKENlnc
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八M)超微細噴霧装置スプレーコーダー
微小液滴噴霧技術を搭載したコーティング装置
◇薄膜から厚膜まで対応
◇高粘度液(~s0000cps)対応
◇三次元構造体への成膜
し ‘
戸角
陸i壁
鑓懲型 麹
=・特長
■薄膜(数nm)~厚膜(数+β、)まで簡単操作で塗布が行えます。
■対応粘度範囲:1~50,OOOcps様々な液種に対応致します。
■溶液の利用効率90%以上のため、貴重。高価な材料も無駄にしません
=●用途 塗布可能な液斉I
・MEMSデバイス 画レジスト 。金・銀等のナノインク
・半導体 風ポリイミド ・エポキシ系絶縁材料
・燃料電池 ・ポリアミドイミド 豆UV硬化型樹脂
・フィルム基材用途 厘防汚剤 園蛍光体入り材料
・食品関係 圏銀ペースト 風接着剤
・医薬品関係
・金型上への雛型剤の噴霧
●=仕様
・印刷範囲300×300mm
・最少10ノリlの溶液量*で使用可(*小面積の場合。大面積印刷の場合は充填量が必要です。)
試作、サンプル肥作成承ります1,,||纒耀
S1 TEL]lFAX
URL ’
s,蛇.c慶h総n研o技,o繍g穆y韓株ヘ式゙会ン社Sチ1ャjーテクノロジ O29-896-5110029-896-5111 www・sijtechnologyCom
Page13
▼▼可
川MlUItrafineAtom'i''11 zer:SpraVCoater
CoatingequipnmentwitMine-clropletejection
◇Filmthicl<neMsflmnanomelHtomMometenmgo
◇CO、patiblewithhighviscosityfluids(upto5qOOOcps)
L◇coatmgonto3DⅢfaces/stmctⅢel -ゴ
ソ nlllil「DljillliiiIillii1iiI1lillj
=・Features
・FilmsofafewnmtolOUmarereadilyfab「icatedwiththissystem
oViscositiesoflto50,OOOcps-compatiblewithva「iousl〈indsofliquids
・Efficientmate「ialuse-over90%liquidしl5eefficiency
-Suitablefo「sprayingvaluableandra「ematerials1
=●Applications lnk
uMEMSdevice ・Photoresist 風Noblemetalnano-colloidink
口Semiconductordevice oPolyimide 風Epoxyinsulator
・Fuelcell ・Polyamide-imide ・UV-curableresin
勵Filmsupport pAnti-fOulingmaterial pPhosphor-adcledmaterial
画Foodindustry pSilverpaste ・Adhesive
画Medicine
・Moldreleaseagent
●=SpeciflcEItions
口Maximumprintarea:300x300mm
團Minimuminl<volumerequired:l01-Ll*(*Forasmallprinta「eaVariesaccordingtodemand)
AskfcrfabricationofsamplE三!
AlSTsta「t-up Phone Fax URL
Sm
雛・碗ソS|」TeChnOlOgy,lnC+81-29-896-5110+8L29-896-5111wwwsijtechnologVcom
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【最先先端研究開窯発|発発用,l■■】罪■■ nF
サブフエムトトインクジェットトカ加|-一 工装置
特徴I
世界最少
最少吐出舅01フェムトリット几ル
従来技術術の約1,1,0□ 0DO0 倍
高言粘度液(1100,,〔OOOmPa..s)s:) E非加加熱I熱吐土出
業
関雲霞 :界界Ⅱ唯匪一連崖特許多数取得霧済
導電インクや絶縁インク、たんぱく質など様々な材料潅超微量芯液滴から比較的大きい
液滴の吐出制御が可能であり、かつ非加熱で低粘度から高粘度まで幅広い粘度範囲で
吐出が可能な装置で乱従来のデ1イスペンサー技術およびインクジェット技術では不可能
であったマイクロメートルオーダーの微細なドットやライン、バンプ形成が可能です。
腰鰯品名 サブフェムトインクジェット加工溌装岡囮
措l砺Wヘiヘッッドド ディスポーザブルSS11JJヘッド
遼 l阻H鍜・H8jIm霞 0.1フェムトリットル~10ピコリットル」灘 描画可可li能Iラiイラインン幅掴 0.ss~~数数十十似α、の亨②○巳。ロロ明⑬計 夢 対応粘腫度茄範阿囲 O0S5~10POOOOmmPPaa。.ss瀬瀬非非力加Ⅱ熱熟露月冒吾囚冤玩 廟妙鵜瀞I … .、砿孟醗詞編猴ワ乙屑弓尾モー尭蝿EノヨP7A控B型受、図 描画パターン 点、線、円、、多角形などの任意パターン
〃U
銅配線パ(タターーンン
穰儂 分解Uli oo、・1MAl【m、描画ステージ
表 偽繰返し胴度 ±Oo2auuum
|霧:M1;u騨 金岡閥ナナノ粒子インク、、レレジジスストト、たたんぱく質、
樋 使用可lllilMi材料 溶剤系、UV硬化系、水系
l曇iAi}i1i1ij趣
O○CCDカメラによる位置合わせ
主な機能 DOBB#Ⅱ柵i正正
○麹布最凪中の観察襲
「蹄愈八&公儀)
蝋遮歳Awm 1iMmLルllljli ●③基板加熱機能オプション ⑨●基板吸着機能
已回=4尾垂翫鐘s鰯6$ 蕊冤FrF昭'Eu錘
■微細配線 ■経済産業省発行の技技術術ロローードドママッッププにに掲掲載載さされれたた製製品品でです6或
用■レ■レジジスストトパパタターーニング そ
: の ■ヨ日本貿易振興機構(ジェトロ)輸出有望案件発掘支援事業に採択。途■■分分注 他■機機能性能材性料の材塗料布の塗布一… ■中小企業優秀新技術・新製品優秀賞を受賞しました。
産総研技術移転ベンチャー TEL:O29-896-5110FAX:029-896-5111
副SJロ17産...総 h株研m式.技'会術・社剛移S株転I式J会ヘ社デSクンIノJチロテジャクUノーロ肌Tジ:UEwRLwLw::・wows2gS1JTBchno1cgy wi・jst6iej9ic6the-ncomhI胴FoM1gooyg2uyc9ooc-oB8BTT9TTl6l/川
け
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BP0l■■■けI0BB0BuL-IlIBlw
鮒》
加工事例 バンプ形成
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試作、サンプル作成承ります!
超微細インクジエットー用途例一
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配線形成
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配線l11EMl」m~1001」m  ̄耳-画
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配線材料:Au/Ag/Cu/Ni/Pd/Pt/lTOなど ■■ ノ
■卑
基板:ガラス/シリコンウエハー/ポリイミド/ 屏■
⑰■
PET/ダイヤモンド/サファイア/ 鍵
金属/セラミックス/他
レジストマスクレスパターニング
線幅:21」m~501-1m
対応粘度:05~10,OOOmPa.s
T
材料:アクリル/エポキシ/フッ素/他
。垂ま 基板:ガラス/シリコンウエハー/ポリイミド/
PET/金属類/他
線幅:21」m粘度:10,OOOmPa・s 格子サイズ3Um
バイオマテリアル
Fロ▲▲--ヘヘニーウ▲一六
材料:たんぱく質/細胞/培養液/足場他 B「iglltnOld 「ⅡP」EnAnゴコレヒニロ|Ⅱ■●
。③③迺 I剛::
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⑫I● 、 ●
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【分注】牛血清アルブミン 【電極形成】LabonaChilD パターン化脂質膜形成 動物由来たんぱく質(EOMゲル)を
神戸大学森垣博士 用いたライン形成
(コラーゲン、ラミニンなど含有)
線幅15,um
機能性材料のパターニング
ドツト径(線幅):051」m~501」m
材料:高分子/有機半導体/接着剤/遮光剤/カラーインク
/有機溶剤/光硬化性樹脂/CNT/めっき触媒/シリカ/
ポリイミド/フッ素樹脂/機能性セラミックス/他
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機能性セラミックス 導爾性高分子 EDOT
産業技術総合研究所飯島高志博士 産業技術総合研究所水谷亘博士 東北大学西澤松彦博士
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お問い合わせ先
熟:Z裏ii茎鬘ii:ii二i3勇ノロジ
www・siitechno10gyCom/ & ノ
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021スーパーインクジェット用途例
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■既存技術代替・部分めっき・レジスト塗布・微量ディスペンス・バンブ形成
■オプティクス・フオトマスク形成。マイクロレンズ。マイクロフィルタ
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=・導電インク
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10群五1 産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門飯島高志博士
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導電性高分子 カーボンナノチューブ
産業技術総合研究所 九州大学先導物質化学研究所
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●=立体構造体形成
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Su童慥霞liiifi魔罰道只
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Ⅱ
鰯c・銅
、
I
Page17
OSIススーパーインクジエツト実績例
●=光学レンズ用マスク形成技術の開発~N~ENDE’DO~
超微細インクジェット按術 光学レンズ用マスク形成技術
昨ii識ii騨鵜i識ji灘 FiRIのインクジェットプ」シクー部敬山する違鯛 収孤雁インクジニ.P11 弓~八.鵜誌艦℃阯出で出品湛錨 「に追従させ、吐出
では、超微細インクジェット技術を用いてマスク形成技術を確立 させる
することにより、部品点数の削減、光学性能の向上などが見込 鶏 w''1N…トビ171皿・I:jl1HI」f月越下
まれ、既存のフォトリソグラフィ技術よりも低価格、高品質なマス
ク加工サービスとして事業化する。
RLIh2
20091「 つOIOfF 2011日 UMFoJlnに広し$ってL。:ろULlTIFJ臼Ⅱl下し可Iih 璽篭
■■■■■■■■■
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予備実験 関開発試発l1誠11墨産対応 妙
・市製調査 ・・三次次元制元御制御・コストダウン
・平レンズへの ゛・ママススク試ク作試、 作、■・品質菅理体制の曰倭 桔偏
マスク形成へ 評価 価構築 !』製墨! ゜マスクの低コ茨卜化
外部:、価 ・・自mj励I化対応応・販売先との梁iiiE !】敵するⅧ微細なマスク形成
~---鍼~------’ :鱗」濃霧鰹醐’
動
=・東京大学染谷教授のグループ有機CMOSで高速電子回路視野
チャネル長=1umソース砿極
サブフェムトリットルインクジェットを用いて、フレキシブル基板上に 'く -/、エギ/ir 211m
低電圧で駆動(3V以下)できる微細OMOSを作製した(図i)。(略〉
ベンタセン 、=、} 111m 211m
試作された有機トランジスタのソースドレインを構成する銀電極の V、 一 ドレイン冠極
線幅は21」m、チャネル長は11」mである(図2)。リソグラフィー技術 1511,1
を用いることなく、印刷で作製したトップコンタクト型の有機トランジ VouT 図2有機トランジスタの写真
スタとしては世界最小である。次世代ディスプレイで求められる高 trr… ペンタI?ソ(1)ノリ>orフッ素化,ルクLlンアーン(、型):(30,m)
速応答、低電圧駆動、低コストを同時に実現できる有機トランジス 」1
タ技術として期待される。(略) SAN
サブフェムトリットルインクジェットにより作製したソースドレイン電 …鹿議一m目
極を有するトランジスタの特性は、蒸着法により作製したソースド 10011m
冊
レイン電極を有するトランジスタの特性と差異がないことが確認で フル ミノ(3.6,m] / 、兼祖
図1有機CMOSの写真 アルミ120,m)(ガラスorPEN)
きた。
図3有機トランジスタの断面i識造
し =
=●金属ナノ粒子マイクロバンプのインクジェット形成と高輝度LEDの高放熱実装~NEO。~
戸 研究内轡脱明図:大面鑓低プロファイルj獲合化
SIjテクノロジ・パナソニツク・ハリマ化成の3社で提案。 研究内容説明園
長寿命、省電力、省スペース、低環境負荷という特徴を持ち、普及
が期待される白色LED光源だが、大電流の投入による発熱により、
光出力が低下してしまうという課題に直面。 _壷五三軍冒1-
このため、本研究では、現状素子の光出力を3倍程度向上を目指し
金属ナノ粒子とインクジェットエ法によるマイクロバンプにより接合 、イクロハンハー):石纏会
【YITiili塾ノくし綾今餓雛ワ’剛
面積を拡大し、かつ接続距離を短くできる電極構造と接合エ法の開
:lii化.擬合ヅji魔'1,1k
発を行う。
最終的には、白色LEDモジュールへのフリップチップ実装を行い、 命偶趨WMWインク 紗
接合技術の最適化を図り、世界最高レベルの白色LEDモジュール と.脇微嶋I1lr-クシェ
の実用化を目指す。 ソトruI形成し
-,,「ク【」′ユーバグ
「メーン写:【 ノミ耐iii禰放鉢足婆
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|TEL ⅡFAX 川副値
製:J:霧篁騨jd草ラノロジ○2…-705ア.…-705ア www・sijtechnol0gMcom/
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p044リ ワワイルンしジインクジエットカロエ装置
一待望のデユアルヘツド搭載により複合パターニングを実現一
「 h
nSlJ+SlJ
選べる2ヘッド 牛::Ij$鶉>ミンササI
、
皇 」
し 」
。=装置技術の概要
■独自開発のスーパーインクジェット(Slj)ヘッドと大口径ヘッドのデュアル搭載により、異種材料の複合パターニングや
超微細線と大面積のワイドレンジパターニングを1台で実現しました。
=・特長 =●ワイドレンジイメージ図
--Ul■
aSljヘッドと大口径ヘッドのデュアル搭載による 粘度 可
ワイドレンジパターニングを実現 ~l
I ̄ --Ⅱ_
10リ.OOOOOOccppSs
■ヘッドの組み合わせは自由自在 1
.S1Jヘッド+SIJヘッド 110D OOOOOcps ディスペンサ
.s1Jヘッド+ピエゾヘッド
l1O0O0CcpSs
oslJヘッド+ディスペンサ
l1O0CcpSs
■最少吐出量:OjfI(フエムトリットル)世界最少吐出量
l1CCppSS P
--面一己-- ̄=望」 ̄■=■正 ̄供甜ユ-
1『 lpl 1,1
■描画ライン幅:0.61J、~ワイドレンジ! 塗布畳
1UIT 10Um501」mlOOI」nF ライン幅
■対応粘度範囲:
oSIJヘッド0.5~10,OOOcps(非加熱)高粘度液非加熱吐出 選べる2ヘッドにより吐出量や液粘度範囲を
・ピエゾヘツド0.5~15cps(非加熱) ワイドにカバー11
15~lODOOcps(加熱)
・デイスペンサ1~500,OOOcps(非加熱)
●=用途例
■広範な種類の液種が吐出可能専用インク不要|
導電性ペースト絶縁性インク、レジスト2液接着剤、たんぱく質、 ■異種材料の複合パターニング
溶剤系、UV系など
■極小枠の形成とその内部への注入
■高いユーザビリティ
・オリジナルソフトウェアにより複雑なパターンを簡単に製作可能 ■超微細線及び太線のワイドレンジ
・分解能ojIJm、繰り返し位置決め±o21Jmの高精度ステージ搭載 パターニング
・塗布最中の映像をリアルタイム観察可能
「TEL||FAX URL
員照i鱒讓訂鴬ノロジ O29-896-5110029-896-5111 wwWsijtecMology、CO、/
曰▲百一HⅢⅡⅢ□■■■円■ロⅡⅢⅢ町■、Ⅱ■円F-。
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 ̄ ̄
臣
05 超微細インクジェットヘッド SHU-3000
生産プロセスの高度化を実現する
世界遍小描画の非接触ディスペンサー
◇世界最少
最少吐出量01フエムトリットル 811J
'・JPblUヨウ
1睡蓮|塗、
◇従来技術の約1000倍 ……型,判“:
〃 。 ̄‐〆・pF.
高粘度液(10,OOOmPaos)非加熱吐出
詫唾i~!
◇業界唯一 戸印----‐ニー。-- ■
し関連特許多数取得済 」
・言装置技術の概要 既存インクジェット スーパー
方式で吐出できる インクジェット
液滴サイズ の液滴サイズ
■スーパーインクジェットヘッドを搭載し、超微量・高粘度吐出を可能にしました。
現在市販されている家庭用インクジェットプリンターに使われているヘッドの吐出
できる液滴サイズに比べ、体積で1/1000以下の超微小液滴の吐出が可能です。 体税
1/1000以下
1pl
■世界最少の吐出量で、広範な液種の使用が可能なスーパーインクジェットヘッ (直径約13jum)’ し
ドを組込みユニットとして生産ラインへの導入やスクリーン印刷などの従来技術と 1N以下(直径1江、以下)
併用することにより、プロセスの高度化が可能です。
■大気中・常温で、フォトリソグラフエ法に匹敵する微細な吐出が可能です。 基板上
直径数十Ⅲmに広がってしまう直径、m以下も可能
=・特長
粘度
可
■吐出量:O1fl(フエムトリットル)~10pl(ピコリットル)世界最少吐出量| (mPa.s)
ライン幅:O6um~数十Llm
10.000 声 」
■対応粘度範囲0.5~10,OOOmPa.s(非加熱)高粘度液非加熱吐出 1,000 ディスベンサ
100 本製品
■マイクロバンプ形成高精度な着弾位置!
北 インク
■広範な種類の液種が吐出可能専用インク不要1 匙I ソェット ■ 1
導電、絶縁、レジスト接着剤、たんぱく質、溶剤系UV系など
lf 1pl 1,11吐出量
l1-lrln
=●用途 10umlooljmlライン幅
既存技術との比較
■微細配線■レジストパターニング■分注■機能性材料の塗布
□=その他
■経済産業省発行の技術ロードマップに掲載された技術です。
■日本貿易振興機構(ジェトロ)輸出有望案件発掘支援事業に採択されました。 niiliiiDiiiiiijiiLijiIllIli;iIlijii(I
I/IlluuXX5i画T7Z万両JiJnm世m」2:脚卿.」1童-渉貯吋
■第24回中小企業優秀新技術・新製品賞優秀賞を受賞しました。 線幅31」、銀ペーストマイクロバンプ形成
|TEL l1FAX URL
熟,:J:鱒i鬘ii:馬鯛ノロジ……,、`2……, www・sijtechnologMcom/
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Page20
F
O GIインクジェット用めっきプライマーインク『メタロイドPP』
|-めっき前処理工程を約'/'0「2工程」に削減一
◇「印刷、硬化、浸漬」で銅回路形成
◇樹脂に電子回路を形成 / 鷺態;
可■
亡密祷面が平滑で噸な密着性 」
基板
。=製品。技術の概要
■「メタロイドPP」は、有機ELや電子ペーパー、色素増感太陽電池などの
プリンテッドエレクトロニクス製品の製造に使用可能なめっきプライマーイ 1.メタロイドPPを印刷
ンクです。インクジェット装置を用いて基板となる金属や樹脂にメタロイド
PPを印刷し、硬化したものをめっき液に漬けるだ|ナで、銅やニッケルを形
成することができます。
2.硬化
■「メタロイドPP」は、各種基板材料に最適な組成配合を調製し、処理温 ■合行廿廿打廿廿合
度、密着強度を調製することができます。エポキシ、ポリイミド、PET、ポリ
カ等のフレキシブル樹脂基板等、さらに広範囲の素材への適用が可能で 9
す。 口RpqP
3.無電解めっき
プロセス
=・特長 函■TZ■q種
銅鐙めっき密鋳両面2i0O1F平調漏
■めっき前処理エ程を約1/10「2エ程」に削減、製品製造コストを大幅削減 L
従来のめっき処理では約22に及ぶエ程が必要ですが、本製品ではそのエ程 と.歓軒醤舞i● …蘓雰■ 珂声、 ̄
を「印刷、硬化」のわずか2エ程に削減したため、各種製品の製造コストを大幅
に削減します。また、クロム酸などの化学薬品使用も減少し、廃液管理の手間
が減り、地球環境にも優しい製品作りが可能となります。 LメメタロタイロIgイki鱸:
■熱に弱い樹脂(ポリカ、PETなど)にも電子回路を形成可能
密着面
通常の導電性インクの処理条件は150℃以上と高温処理が必要ですが、メタ
ロイドPPでは100°C以下の低温処理を実現。これにより、ポリカ、PET、ABSと
いった熱に弱い樹脂も、プリンテッドエレクトロニクスの基板として使用すること
が可能になります。
■密着面が平滑で、強固な密着性
作製した配線は密着面が平滑で、強固な密着性であるため、高周波導電回
路にも利用可能です。
■多様なインクジェット装置で利用可能
「超微細インクジェット(SIJ)技術」で配線111畠1qUm、「ピエゾ方式」で配線幅 可
40umで描画可能です。
一理
PETへの無電解銅メッキ例
S1.蘆総研技術謬鱸ベン1TEL
URL
S1j1b.h、…株式会社S1jテクノロジO29-チ89ャ6-ー51’10r02A9-x
’
896-5111 wwwSijtechno10gy・CO、/
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