HiPIMSとは、低いduty比（短いon時間の比率）で集中させた、高い電力を瞬間的にカソードに投入することで、高密度のプラズマを形成する手法です。
本資料ではHiPIMSの特徴や特性、従来スパッタとのイオン化率の違い、利点などを解説しています。
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 高機能膜を実現させる、アーク抑制型HiPIMS電源 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | ハンドブック |
| ファイルサイズ | 3.4Mb |
| 取り扱い企業 | 東京電子株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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