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R&D用超高温実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2022」

製品カタログ

電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用 最新の高温基板加熱用ヒーター、実験炉をご紹介します。

【掲載製品】
◉ 超高温実験炉シリーズ:
※3種類のヒーター素線オプションを用意
・C/Cコンポジット
・SiC3立方晶炭化珪素コーティンググラファイト
・TiC3チタンカーバイドコーティンググラファイト
◉ BH基板加熱ヒーター:
大気/高真空中/ガス雰囲気中あらゆるプロセス雰囲気に対応する基板均一加熱ヒーター。Max1800℃、φ1inchウエハ用から角型いずれも製作できます。ヒーターエレメントはNICr、グラファイト、CCC、グラファイトSICなど使用条件に応じて都度カスタマイズ致します。

※詳細は資料請求または当社までお問い合わせください。

このカタログについて

ドキュメント名 R&D用超高温実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2022」
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 1.1Mb
登録カテゴリ
取り扱い企業 テルモセラ・ジャパン株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

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このカタログの内容

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www.thermocera.com R&D用 超高温実験炉・ヒーター_2022 BHseries 超高真空 薄膜実験用基板加熱ヒーター(*大学・研究機関限定) 研究開発・基礎研究分野に最適な実験炉・超高温ヒーターをご提案いたします。 Mini-BENCH High Temperature Furnace series for R&D MBseries ”Mini-BENCH furnace” 超高温卓上型実験炉 Max2000℃ High-temperature Carbon/Metal furnace for R&D 大学・研究機関の基礎実験に最適な、コンパクトサイズ超高温実験用カーボン炉(真空 不活性ガス)・メタル炉(還元雰囲気) 最小構成(ヒーター・チャンバー・温度制御)から、ご予算・目的に応じて最適なシステムをご提案致します。 有効加熱範囲:~Φ4inch BHS-Φ4inch BHS-Φ2inch BHS-Φ1inch ・真空導入端子付、導入端子フランジ接続式、等も製作致します。 ・使用条件、最高温度によっては水冷が必要となります。 Max 1000℃:カンタル素線(真空中, Ar, N2, He ,O2, H2) Max 1800℃:Graphite, C/Cコンポジット素線_(真空中, Ar, N2) Max 1400℃:SiCコーティング素線_(真空中, Ar, N2, O2) Max 1600℃:タングステン素線_(真空中, Ar, N2, He, H2) SiC3 - Silicon Carbide “Cubic structure” high-density coating 【CCC円筒状ヒータ】 標準Φ50(Φ70mmまで製作) “SiC3”立方晶炭化珪素コーティンググラファイト部品 High-density, high-purity, low surface roughness 耐熱性・耐蝕性・耐摩耗性・高密着性 “Cubic-Coating”立方晶炭化珪素コーティング グラファイト部品 膜均一性に優れ(±10um~±5um@80~100um)、更に長寿命! 短納期で納入致します。 【フラットヒータ】(ウエハー用) 【特徴】 Φ1inch~Φ4inch ・膜均一性:±10μm~最小±5μm(@100μmコーティング) ・密着性に優れる ・ブラインドホールへの均一なコーティングも可能(アスペクト比 5:1) ・高純度:脱ガス量、発塵量や不純物量を低減 ◉省スペース: 328(W) x 220(D) x 250(H)mm( *Φ2inchの場合 *加熱範囲によりチャンバー外形寸法異なります) 【用途事例】 ◉円筒ヒータ(坩堝用)・面状ヒータ(Φ1”~Φ4”基板用) ・エピタキシャル成長用サセプター ・単結晶引上げ装置用部品 ◉フレキシブルな装置構成:ご予算に応じた装置構成をご提案致します。 ・MOCVD用サセプター, ウエハーホルダー, トレーなど A:チャンバー + コントロールボックス B:チャンバー + コントロールボックス + 真空排気ユニット C:チャンバー + コントロールボックス + 真空排気ユニット + 筐体/インターロックユニット 真空・ガス置換炉(カーボン炉) 主仕様 還元雰囲気炉(メタル炉) 主仕様 最高使用温度 Max2000℃(カーボン炉) 最高使用温度 Max2000℃(メタル炉) ヒーター グラファイト, 又はC/Cコンポジットヒーター ヒーター タングステンヒーター 断熱材 グラファイトフェルト材 断熱材 タングステン、モリブデン多層ヒートシールド 真空チャンバ SUS304水冷ジャケット構造 真空チャンバ SUS304水冷ジャケット構造 使用雰囲気 真空中、又は不活性ガス(Ar) 使用雰囲気 真空中、不活性ガス(Ar)、還元性ガス(H2, He等) 有効加熱範囲 Φ1”~Φ4(” 面状ヒーター) , Φ50 x 100(H)mm(円筒ヒーター) 有効加熱範囲 Φ50 x 100(H)mm(円筒ヒーター) 到達真空度 1x10-2 Pasca(l *但し空炉の状態) 到達真空度 1x10-2 Pasca(l *但し空炉の状態) 真空ポンプ ロータリーポンプ(オプション:ドライポンプ, 高真空ポンプ) 真空ポンプ ロータリーポンプ(オプション:ドライポンプ, 高真空ポンプ) 熱電対 Cタイプ熱電対付属 熱電対 Cタイプ熱電対付属 容量・冷却水 ヒータ容量:3KVA max, 冷却水:2ℓ/min 0.4Mpa 25~30℃ 容量・冷却水 ヒータ容量:*13KVA max, 冷却水:2ℓ/min 0.4Mpa 25~30℃ 〒103-0027 東京都中央区日本橋3-2-14 新槇町ビル別館町第一 2F Tel:03-6214-3033 Fax:03-6214-3035 sales@thermocera.com ◉その他、特注仕様製作致します。当社までご相談下さい。 Copyright© 2022. Thermocera Japan Ltd. All Rights Reserved World Wide.
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Semi-auto control High-Temperature furnace series MiniLab High Temperature Wafer Annealing Furnace TEseries 超高温卓上型マルチ雰囲気実験炉 Max2000℃ MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃ Thermic Edge Furnace: High temperature semi-auto furnace up to 2000℃ MiniLab-WCF high-temperature wafer anneal furnace 小サンプル焼成用 セミオート式 卓上型実験炉 有効加熱範囲:~Φ3inch セミオート式 超高温ウエハーアニール炉 有効加熱範囲:Φ6inch, Φ8inch ヒーター素線オプション ヒーター素線オプション 【小型・コンパクトサイズ】 SiC3コーティング(~Φ8inch) SiC3コーティング(~Φ3inch) TEシリーズは、Mini-BENCHシリーズのセミオートモデルです。小型・卓上サイズ TiC3コーティング(~Φ8inch) TiC3コーティング(~Φ3inch) にも関わらず、自動真空引き~自動ベント、インターロック(冷却水・異常加熱・ チャンバー表面温度)など充実した機能を備えています。 【タッチパネルHMI】 電気炉の基本操作(温度調節器操作は除く)は全て前面タッチパネルにて行い ます。PLC自動シーケンス制御、チャンバー蓋開閉(モメンタリースイッチ式)、プ ロセス・ベントガス導入、などの一連の操作は作業者レベルを選ばずどなたで “Φ8inch-CCCフラットエレメント” “専用ウエハートレー” も簡単に行うことができ、さらに安全性も考慮されておりますので、企業・大学・ シングルゾーン, 2ゾーン式も可能 Φ8inch用 研究機関での実験設備として最適です。 6inch、8inchウエハーアニール専用機 コンパクトサイズ・簡単操作 2000℃まで Technical Specification 急速昇温。SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基 サンプルサイズ 最大Φ3inch 礎研究、製品開発部門などで幅広く活用いただけます。 プロセスガス 最大1系統まで、ニードルバルブ手動調整式 Φ6inch, Φ8inchウエハー焼成・急速昇温・均一加熱(1, 又は2ゾーン制御式) 真空排気系 ロータリーポンプ、WRGワイドレンジゲージ 専用ウエハートレー製作致します。 到達真空度 5×10-5Pa(*空炉の状態) Technical Specification ■ TE series “Thermic Edge furnace” 温度センサー Cタイプ熱電対 最高使用温度 Max2000℃ オプション APC プロセス圧力自動制御 , ターボ分子ポンプ、ドライポンプ 加熱源 高純度グラファイト, C/Cコンポジット ■ MiniLab-CF-Φ8inch-HT-2000℃ 真空排気系 ロータリーポンプ、WRGワイドレンジゲージ オプション APC プロセス圧力自動制御 , ターボ分子ポンプ、ドライポンプ MB-Prism 超高温実験炉 Max2000℃ MiniLab High Temperature Furnace for R&D Mini-BENCH-Prism: High temperature semi-auto furnace up to 2000℃ 小サンプル焼成用 セミオート式実験炉 MiniLab-CF 超高温実験炉 Max2900℃ MiniLab-CF High-temperature furnace for R&D ヒーター素線オプション 有効加熱範囲:~Φ4inch 高純度グラファイトヒーター Max2900℃ C熱電対/2色放射温度計 自動切替式 タングステンヒーター 有効加熱範囲:~Φ4inch 【小型・コンパクトサイズ】 ヒーター素線オプション Mini-BENCH-Prismは、セミオートモデルカーボン実験炉シリーズの4inch対応装置です。 SiC3コーティング(~Φ4inch) 自動真空引き~自動ベント、インターロック(冷却水・異常加熱・チャンバー表面温度)を備 えており、さらに幅603mm x 奥行603mmの筐体内に全ての機器を収納する超コンパクト TiC3コーティング(~Φ4inch) サイズ。研究室の限られた実験スペースを最大限に活用できるハイパフォーマンス実験炉 です。 作業者の熟練度を問わない簡単・安全操作。るつぼ内の小片試料最大2900℃ま での焼成実験用。新素材・新材料開発、及び電子部品・燃料電池などの先端基礎 技術開発部門でのさまざまなアプリケーションでの焼成実験に対応致します。 Max2900℃:C熱電対、2色放射温度計の自動切替式 PLC全自動プロセスコントロール・セミオート式 Technical Specification 8箇所のインターロックで安全を確保 前面LEDランプで常時監視 サンプルサイズ 最大Φ4inch 小型・省スペース:1,120(W) x 590(D) x *911(H) *チャンバー含まず プロセスガス 最大1系統まで、ニードルバルブ手動調整式 Technical Specification 真空排気系 ロータリーポンプ、WRGワイドレンジゲージ 最高使用温度 Max2900℃(*Arガス置換雰囲気, 真空の場合Max2000℃) 到達真空度 5×10-5Pa(*空炉の状態) 加熱源 高純度グラファイト, C/Cコンポジット 温度センサー Cタイプ熱電対 真空ポンプ ロータリーポンプ オプション APC プロセス圧力自動制御 , ターボ分子ポンプ、ドライポンプ ■ MiniLab-CF-HT-Max2900℃ オプション APC プロセス圧力自動制御 , ターボ分子ポンプ、ドライポンプ ■ Mini-BENCH-Prism