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号機間の差異を見える化! トレーサビリティ活用で稼働率UP IoTサービスツール キノシステム

製品カタログ

製造・リノベーション・メンテナンスの知見で、生産・製造管理をバックアップします

■商品・サービス特性
号機間の差異を見える化! トレーサビリティ活用で稼働率UP

■芝浦メカトロニクスグループIoTサービスの差異化ポイント
製造・リノベーション・メンテナンスの知見で、生産・製造管理をバックアップします。

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このカタログについて

ドキュメント名 号機間の差異を見える化! トレーサビリティ活用で稼働率UP IoTサービスツール キノシステム
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 965.9Kb
取り扱い企業 芝浦エレテック株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

このカタログの内容

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EMIシールド用スパッタリング装置 IoTサービスツール CCSシリーズ キノシステムR Sputtering Equipment for EMI Shielding CCS-2110 IoT Service Tools, XiNO System お客さまのメリット Benefit to Customers 商品・サービス特性 Features 号機間の差異を見える化! トレーサビリティ活用で稼働率UP Sputtering at Low Temperature High uniformity High productivity Visualization of The Differences ! Utilization Rate Up With Traceability. SUS/Cu/SUS 6μm:60℃以下*1 ±1%以下*1 over 12,000 UPH*1 写真はイメージです。 Image is for illustration purposes. 80 逆スパッタ SUS: 0.5μm SUS: 70 Cu: 5μm 0.5μm 60 SUS 50 40 Cu 6μm 30 20 SUS 10 0 TOP -1200 -600 0 600 1200 1800 2400 3000 3600 Time[sec] 積層膜(SUS:0.5/Cu:5.0/SUS:0.5[μm] パワー半導体用裏面スパッタリング装置 R SWN-5000 Sputtering Equipment for Power Semiconductor of Backside 芝浦メカトロニクスグループIoTサービスの差異化ポイント お客さまのメリット Benefit to Customers Differentiated Points of IoT Service by Shibaura Mechatronics Group 製造・リノベーション・メンテナンスの知見で、生産・製造管理をバックアップします。 With Knowledge and Experience of Production, Renovation and Maintenance, We Can Support Your Production and Manufacture Management. Thin Wafer Thermal Control of Wafer High productivity <t100μm 25~200℃( ESC) 25 wafers<60min. 項 目 Items 仕 様 Spec. ① 300 mm cathode Intuitiveness Scalability Inexpensive Introduction Process Chamber ② 150 mm Multi cathode その場で 当社エンジニアがお客様の声に 大幅なシステム変更不要 application ③ Heating chamber 装置改善ポイントが判る フレキシブルに対応 投資効果を発揮 ④ Sputter Etching Find Points to Improve Responding Flexibly System Unchanged Uniformity < ±5%(φ200mm)*1 *1)弊社条件での数値となります。設定条件により数値は変動いたします。 The specs shown above were attained under our conditions. They are fluctuated based on conditions set. Temperature[℃] ▲ ▲